用于局部用途、尤其是用于皮肤和／或头发的光照保护的化妆品或者皮肤学组合物，其特征在于在化妆品可接受的载体中包括： （ａ）作为第一屏蔽剂的至少一种不溶性有机ＵＶ屏蔽剂，其粒度范围为１０ｎｍ到５μｍ，和 （ｂ）作为第二屏蔽剂的至少一种以下通式（Ⅰ）的氨基取代的２－羟基二苯甲酮衍生物： ＊＊＊ （Ⅰ） 其中： Ｒ↑［１］和Ｒ↑［２］，其是相同或不同的，表示氢原子、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２０］烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［１０］烯基基团、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［１０］环烷基基团或者Ｃ↓［３］－Ｃ↓［１０］环烯基基团； Ｒ↑［１］和Ｒ↑［２］还可以与它们键接的氮原子形成５－或者６－元环； Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］，其是相同或不同的，表示Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２０］烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［１０］烯基基团、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［１０］环烷基基团、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［１０］环烯基基团、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１２］烷氧基基团、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２０］）烷氧羰基基团、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１２］烷基氨基基团、二（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１２］）烷基氨基基团、芳基或者杂芳基，其选择性地被取代，或者选自羧酸盐基团、磺酸盐基团或者铵残基的水增溶取代基； Ｘ表示氢原子或者ＣＯＯＲ↑［５］或者ＣＯＮＲ↑［６］Ｒ↑［７］基团； Ｒ↑［５］、Ｒ↑［６］和Ｒ↑［７］，其是相同或不同的，表示氢原子、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２０］烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［１０］烯基基团、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［１０］环烷基基团、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［１０］环烯基基团、－（ＹＯ）ｏ－Ｚ基团或者芳基基团； Ｙ表示－（ＣＨ↓［２］）↓［２］－、－（ＣＨ↓［２］）↓［３］－、－（ＣＨ↓［２］）↓［４］－或者－ＣＨ－（ＣＨ↓［３］）－ＣＨ↓［２］－； Ｚ表示－ＣＨ↓［２］－ＣＨ↓［３］、－ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［３］、－ＣＨ↓［２］－ＣＨ↓［２］－ＣＨ↓［２］－ＣＨ↓［３］或者－ＣＨ（ＣＨ↓［３］）－ＣＨ↓［３］； ｍ是０到３的整数； ｎ是０到３的整数； ｏ是１到２的整数。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及新型的用于局部使用的、尤其是用于皮肤和/或头发光照保护的化妆品或者皮肤学组合物，其特征在于它们在化妆品可接受的载体中包括至少(a)作为第一屏蔽剂的一种粒度范围为10nm到5μm的不溶性有机UV屏蔽剂，和(b)作为第二屏蔽剂的一种特殊的氨基取代的2-羟基-二苯甲酮衍生物。这两种屏蔽剂的结合，在参照的太阳防护系数UV-APPD方面获得了协同效应。本专利技术还涉及它们在保护皮肤和头发免受紫外线影响中的应用。还已知，波长在320和400nm之间的UV-A射线，其引起皮肤变成褐色，能够在后者中产生有害变化，尤其是在敏感的皮肤或者不断地暴露于太阳辐射的皮肤情况下。UV-A射线特别引起皮肤弹性损失和皱纹外观，产生过早老化。它们在某些患者中促进红疹反应的触发或者加重这种反应并且甚至可能是光毒性或者光过敏反应的原因。因此也希望屏蔽掉UV-A幅射。迄今已经提供了众多的用于皮肤光照保护(UV-A和/或UV-B)的化妆品组合物。抗日光组合物的功效通常用太阳光防护系数(SPF)表示，其用使用UV屏蔽剂时达到引起红斑的阈值所必需的UV辐射剂量与不用UV屏蔽剂时达到引起红斑的阈值所必需的UV辐射的剂量的比值来数学地表示。这样，该系数涉及关于红斑保护的有效性，其生物作用的光谱集中在UV-B区域，因此描述了关于UV-B幅射的保护。鉴于UV-A幅射对皮肤的影响，以及众多包括能吸收UV-B和/或UV-A幅射屏蔽剂的结合的组合物的发展，已经开发了用于评价防UV-A幅射的特殊方法。为了表征UV-A幅射保护，尤其推荐和使用PPD(持久的色素颜色变深)方法，其测定在皮肤曝露至UV-A幅射之后2到4小时皮肤的颜色。该方法在1996年被日本化妆品工业协会(Japanese Cosmetic IndustryAssociation)(JCIA)作为产品UV-A标志的正式试验方法采用，并且经常地被欧洲和美国测试实验室使用(日本化妆品工业协会技术通报(Japan Cosmetic Industry Association Technical Bulletin)，用于UVA保护功效的测量标准，1995年11月21日发布和1996年1月1日生效)。太阳光防护系数UV-APPD(UV-APPDPF)是由在使用UV屏蔽剂时达到色素沉着阈值所必需的UV-A幅射的剂量(MPPDp)与在不用UV屏蔽剂时达到色素沉着阈值所必需的UV-A幅射的剂量(MPPDnp)的比值数学地表示的。UV-APPDPF=MPPDpMPPDnp]]>这些抗日光组合物经常大量地以水包油型乳液(即，化装品可接受的载体由连续的水性分散相和不连续的油性分散相组成)的形式存在，其包括各种浓度的一种或多种常规的亲脂性和/或亲水性有机屏蔽剂，所述屏蔽剂能够选择性地吸收有害的UV辐射，这些屏蔽剂(以及它们的量)根据需要的太阳光防护系数进行选择。基于氨基取代的2-羟基二苯甲酮衍生物的抗日光组合物见述于专利申请EP-A-1046391和DE10012408。该发现形成了本专利技术的基础。因此，根据本专利技术的一个主题，现在提供了新型的用于局部使用、尤其是用于皮肤和/或头发光照保护的化妆品组合物，其特征在于在化妆品可接受的载体中包括(a)作为第一屏蔽剂的至少一种不溶性有机UV屏蔽剂，其粒度范围为10nm到5μm，和(b)作为第二屏蔽剂的至少一种通式(I)的氨基取代的2-羟基-二苯甲酮衍生物，其将在以后进行定义。本专利技术的另一主题是这类组合物在制造预定用于保护皮肤和/或头发防止紫外线、尤其是日光辐射的化妆品组合物中的用途。本专利技术的另一主题是通式(I)的氨基取代的2-羟基二苯甲酮(其将在下文中定义)在制造预定用于保护皮肤和/或头发防止紫外线、尤其是日光辐射的化妆品或者皮肤学的组合物中，该组合物包括至少一种粒度范围为10nm到5μm的不溶性有机UV屏蔽剂，为了产生参照的太阳光防护系数UV-APPD方面的协同效应的用途。术语“不溶性UV屏蔽剂”，在本专利技术范围之内，是指任何在水中的溶解度低于0.1重量％和在大多数有机溶剂例如液体石蜡、脂肪醇苯甲酸酯和脂肪酸甘油三酯例如Miglyol812(由Dynamit Nobel出售)中溶解度低于1重量％的有机或者无机UV屏蔽剂。该溶解度，定义为70℃下在与过量的悬浮固体处于均衡状态的溶剂中的溶液中的产品的量，可以容易地在实验室中评价。本专利技术的其它特征、方面和优点将在以下详细说明中得到说明。通常，不溶性UV屏蔽剂和氨基取代的2-羟基二苯甲酮衍生物，以产生在参照的太阳光防护系数UV-APPD方面协同作用活性的比例存在于所述组合物中。本专利技术的不溶性有机UV屏蔽剂具有的平均粒度为10至5μm和更优选为10nm至2μm和更特别地为20nm到2μm。本专利技术的不溶性有机屏蔽剂可以借助于任何特殊手段成为需要的颗粒形式，例如尤其是干法研磨或者在溶剂介质中研磨、筛分、雾化、微粉化或者喷雾。微粒化形式的本专利技术的不溶性有机屏蔽剂尤其可以借助于以下方法获得在适当的表面活性剂存在下研磨粗粒子形式的不溶性有机UV屏蔽剂，所述表面活性剂可以改善如此制备的粒子在化妆品制剂中的分散。用于微粉化不溶性有机屏蔽剂方法的例子公开于申请GB-A-2303549和EP-A-893119，其构成本说明书不可分割的部分。这些文献使用的研磨设备可以是空气喷射研磨机、玻珠研磨机、振动式研磨机或者锤式研磨机，和优选地是具有高速搅拌的研磨机或者冲击研磨机，和更特别地是旋转玻珠研磨机、振动式研磨机、管磨机或者棒磨机。根据这一特定的方法，作为用于研磨所述屏蔽剂的表面活性剂，使用结构为CnH2n+1O(C6H10O5)xH烷基聚葡糖苷，其中n是8至16的整数和x是(C6H10O5)单元的平均聚合度和为1.4到1.6。它们可以选自结构为CnH2n+1O(C6H10O5)xH化合物的C1-C12酯，和更具体地由C1-C12羧酸例如蚁酸、醋酸、丙酸、丁酸、磺基琥珀酸、柠檬酸或者酒石酸与糖苷单元(C6H10O5)上的一个或多个自由OH官能团反应制备的酯。所述表面活性剂通常使用的浓度范围相对于微粒化形式的不溶性屏蔽剂为1到50重量％和更优选5到40重量％。本专利技术的不溶性有机UV屏蔽剂尤其可以选自以下类型的有机UV屏蔽剂N，N′-二苯基乙二酰胺类型、三嗪类型、苯并三唑类型；乙烯基酰胺类型；肉桂酰胺类型；包含一个或多个吲哚和/或苯并呋喃或者苯并噻吩基团的类型或者吲哚类型；芳基亚乙烯基酮类型；亚苯基双(苯并噁嗪酮)衍生物类型；或者丙烯腈酰胺、磺酰胺或者氨基甲酸盐衍生物类型。在本专利技术意义上，术语吲哚同时包括苯并噻唑、苯并噁唑和苯并咪唑。按照本专利技术，在N，N′-二苯基乙二酰胺类型中的UV屏蔽剂中，可以提及对应于以下结构的那些 其中T1，T′1，T2和T′2，其是相同或者不同的，表示氢原子、C1-C8烷基或者C1-C8烷氧基基团。这些化合物公开于专利申请WO95/22959。可以提及例如由Ciba-Geigy出售的工业产品Tinuvin 315和Tinuvin 312，相应的结构为 按照本专利技术，在三嗪类型的不溶性UV屏蔽剂中，还可以提及对应于以下通式(2)的那些 其中T3、T4和T5独立地是苯基、苯氧基或者吡咯并，其中苯基、苯氧基或者吡咯并基本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：D·坎多，
申请(专利权)人：莱雅公司，
类型：发明
国别省市：
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