一种原位自生TiN增强的高熵合金熔覆层及制备方法技术

本发明专利技术公开了一种原位自生TiN增强的高熵合金熔覆层及制备方法，本发明专利技术选取粒度处于45‑105μm的Al、Co、Cr、Ni和Ti球形粉末作为熔覆粉末，Al、Co、Cr、Ni和Ti球形粉末的摩尔比为x:1:1:1:1，0＜x≤1，将所有粉末混合均匀；采用激光熔覆。本发明专利技术采用特别的合金粉末和激光熔覆，能够原位自生TiN，通过原位自生TiN提高高熵合金熔覆层的性能，本发明专利技术将添加Al元素改善熔覆层的相组成，可细化TiN尺寸，使其耐磨性能得到大幅提升。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及高熵合金熔覆层，特别涉及一种原位自生tin增强的激光熔覆高熵合金熔覆层及制备方法。

技术介绍

1、高熵合金由五种或更多主元素近等摩尔比构成，其高构型熵的特点有利于简单固溶相的形成，而非如金属间化合物那样的复杂结构相。原子尺寸差异大，晶格畸变大，扩散缓慢等这些因素，使得高熵合金表现出高硬度、良好的耐腐蚀性与耐磨性，在结构材料、高硬度涂层以及储能材料等诸多领域均有大量研究，是高性能涂层应用的有前途候选者。

2、陶瓷相增强涂层的性能已在工业领域得到广泛应用，陶瓷颗粒在涂层中形成了弥散强化相，这些弥散强化相能够有效地阻止晶粒的长大和滑移，可以显著提高复合材料的整体性能。过渡金属氮化物具有较高的硬度、氧化稳定性和耐磨性，常用作防护材料，使涂层于摩擦和腐蚀环境下具备更好的性能表现。通过化学、物理或气相沉积合成的tin、(ti，al)n、(al，cr)n和类似的氮化物基材料已被开发出来，以保护各种加工零部件免受磨损和氧化。此外，针对高熵合金的氮化物涂层的研究大多侧重于高熵合金薄膜的力学性能与微观结构。例如，磁控溅射沉积了feconicuvzra本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种原位自生TiN增强的高熵合金熔覆层制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的原位自生TiN增强的高熵合金熔覆层制备方法，其特征在于：所述的铁板为DT4纯铁板。

3.根据权利要求1所述的原位自生TiN增强的高熵合金熔覆层制备方法，其特征在于：在步骤S2中：x＝0.5。

4.根据权利要求1所述的原位自生TiN增强的高熵合金熔覆层制备方法，其特征在于：在步骤S2中：x＝1。

5.根据权利要求1所述的原位自生TiN增强的高熵合金熔覆层制备方法，其特征在于：在步骤S3中，工业氮气的纯度大于或等于99.9％。

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【技术特征摘要】

1.一种原位自生tin增强的高熵合金熔覆层制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的原位自生tin增强的高熵合金熔覆层制备方法，其特征在于：所述的铁板为dt4纯铁板。

3.根据权利要求1所述的原位自生tin增强的高熵合金熔覆层制备方法，其特征在于：在步骤s2中：x＝0.5。

4.根据权利要求1所述的原位自生tin增强的高熵合金熔覆层制备方法，其特征在于：在步骤s2中：x＝1。

5.根据权利要求1所述的原位自生tin增强的高熵合金熔覆层制备方法，其特征在于：在步骤s3中，工业氮气的纯度大于或等于99.9％。

6.根据权利要求1所述的原位自生tin增强的高熵合金熔覆层制备方法，其特征在于：在步骤s3中：选用同轴送粉的方式进行激光熔覆，送粉速度为8g/min，保护气的流量为15l/...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵伟，宋晨晓，饶伟锋，张辉，吕月霞，
申请(专利权)人：齐鲁工业大学山东省科学院，
类型：发明
国别省市：