【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
1、半导体设备制造工艺可涉及以下许多步骤：材料沉积、图案化和移除，以在衬底上形成集成电路。因此，半导体设备制造厂(“厂”或“工厂”)可以具有大量不同的处理工具，用于执行数百甚至数千个的各个步骤，以形成半导体设备。
技术实现思路
1、提供本
技术实现思路
，以利用简化的形式来介绍概念的选择，其将在以下的具体实施方式中进一步描述。本
技术实现思路
不意图识别所要求保护的主题的关键特征或基本特征，也不意图用于限制所要求保护的主题的范围。此外，所要求保护的主题不限于解决本公开内容的任何部分中所提到的任何或所有缺点的实现方案。
2、公开的示例涉及虚拟半导体环境。一示例提供了一种虚拟监控工艺的方法，所述工艺在处理工具中的衬底上执行，所述方法包括：当在所述处理工具中运行所述工艺时，从所述处理工具的传感器获得运行时间数据。所述方法还包括：通过使用所述运行时间数据和所述工艺的配方来模拟处理工具的数字孪生，以执行运行时间模拟。所述方法还包括：接收在所述处理工具的所述数字孪生中的空间视点的选择。...
【技术保护点】
1.一种监控工艺的方法，所述工艺在处理工具中的衬底上执行，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中接收在所述数字孪生中的所述空间视点的所述选择包括：接收两个或更多空间视点的选择，且其中渲染所述处理工具的所述虚拟状态的所述图像包括：在第一空间视点处渲染所述虚拟状态的第一图像、以及在第二空间视点处渲染所述虚拟状态的第二图像。
3.根据权利要求1所述的方法，其中渲染所述处理工具的所述虚拟状态的所述图像包括改变所述数字孪生内的渲染相机的位置、方向、或视场中的一或更多者。
4.根据权利要求1所述的方法，其中渲染所述处理工具的所述虚拟...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种监控工艺的方法，所述工艺在处理工具中的衬底上执行，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中接收在所述数字孪生中的所述空间视点的所述选择包括：接收两个或更多空间视点的选择，且其中渲染所述处理工具的所述虚拟状态的所述图像包括：在第一空间视点处渲染所述虚拟状态的第一图像、以及在第二空间视点处渲染所述虚拟状态的第二图像。
3.根据权利要求1所述的方法，其中渲染所述处理工具的所述虚拟状态的所述图像包括改变所述数字孪生内的渲染相机的位置、方向、或视场中的一或更多者。
4.根据权利要求1所述的方法，其中渲染所述处理工具的所述虚拟状态的所述图像包括渲染视频，所述视频描绘所述处理工具的所述虚拟状态随时间的演变。
5.根据权利要求1所述的方法，其中所述图像包括模拟热图像、模拟可视图像、模拟密度图像、或模拟场中的一或更多者。
6.根据权利要求1所述的方法，其还包括获得在所述处理工具中使用所述工艺进行处理的所述衬底的度量数据的衬底地图，且其中渲染所述处理工具的所述虚拟状态的所述图像还包括将所述度量数据的所述衬底地图的表示叠加在所述运行时间模拟的虚拟衬底上。
7.根据权利要求1所述的方法，其中所述运行时间模拟是针对包括一或更多异常的工艺的第一运行时间模拟，所述虚拟状态是第一虚拟状态，所述运行时间数据是第一运行时间数据，且所述方法还包括：
8.一种计算设备，其包括：
9.根据权利要求8所述的计算设备，其中用于接收选择由所述处理工具获得的所述成组的运行时间数据的所述用户输入的所述指令包括能执行以接收多个不同空间视点的用户输入的指令，且其中能执行以从所述空间视点显示所述虚拟状态的所述渲染图像的所述指令包括能...
【专利技术属性】
技术研发人员：卡皮尔·索拉尼，保罗·弗兰岑，布莱恩·约瑟夫·威廉姆斯，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：
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