【技术实现步骤摘要】
本公开是关于一种测试系统。特别是关于一种具有清洁功能的测试系统。
技术介绍
1、半导体制造过程,需以探针卡对晶圆进行测试,确保晶圆及晶片制程的可靠度,以过滤不良的晶圆及晶片。测试过程中,常需搭配不同测试温度,以确认晶圆在不同温度下的稳定性。而测试完毕时,为避免影响后续测试精确度,通常会需要对测试探针进行清洁,以利后续测试。其中,清洁过程的温度与测试过程的温度差异会显著影响整体流程的效率。
2、举例而言,于进行清洁程序前,由于清洁装置的温度与测试探针的温度间通常会具有相当程度的差异,因此,会需要等待一段温度稳定时间,让测试探针的温度与清洁装置的温度接近后,方能控制清洁装置对测试探针进行清洁,以避免造成测试探针因剧烈温差变化损坏或异常。接着,于后续进行测试程序前,由于后续测试阶段的测试环境需调升(通常需调升至高于清洁装置的温度),因此,需要等待测试探针升温至待测温度,方能控制测试探针对待测物进行测试。然而,等待温度升降以进行清洁或测试的时间通常较长,其会显著地影响测试流程。因此,如何改善测试及清洁流程的效率,为本领域亟待解决的问
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【技术保护点】
1.一种测试系统,其特征在于,包含:
2.如权利要求1所述的测试系统,其特征在于,所述测试探针包含多个探针。
3.如权利要求2所述的测试系统,其特征在于,所述多个探针于所述第一温度接触所述待测物的多个接点,以测试所述待测物。
4.如权利要求2所述的测试系统,其特征在于,所述清洁卡盘包含一清洁层,用以于所述第二温度接触并清洁所述多个探针。
5.如权利要求1所述的测试系统,其特征在于,所述温度差值大于等于零。
6.如权利要求1所述的测试系统,其特征在于,更包含:
7.如权利要求1所述的测试系统,其特征
...【技术特征摘要】
1.一种测试系统,其特征在于,包含:
2.如权利要求1所述的测试系统,其特征在于,所述测试探针包含多个探针。
3.如权利要求2所述的测试系统,其特征在于,所述多个探针于所述第一温度接触所述待测物的多个接点,以测试所述待测物。
4.如权利要求2所述的测试系统,其特征在于,所述清洁卡盘包含一清洁层,用以于所述第二温度接触并清洁...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘俊良,
申请(专利权)人:迪科特测试科技苏州有限公司,
类型:新型
国别省市:
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