一种EDA中分层式设计规则检查系统与方法技术方案

本发明专利技术公开了一种EDA中分层式设计规则检查系统与方法，用于集成电路设计的高效和精确设计规则检查。该系统通过结合初级违规检测、卷积神经网络（CNN）违规分类和高级GPU并行算法的精准分析，形成了一个多层次的检查流程。该方法首先使用基于决策树的初级违规检测模型快速筛选潜在的设计规则违规，然后通过CNN违规分类器对违规类型进行详细分类，后端设计者查看该违规类型是否清晰明了，如若不够清晰，最后利用高级GPU并行算法对违规进行精细分析，确保检查结果的准确性。本发明专利技术的系统和方法显著提升了设计规则检查的效率和准确性，通过层次化检查缩短了设计周期，具有重要的工业应用价值和市场潜力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于电子设计自动化（eda）领域，特别的说，涉及一种eda中分层式设计规则检查系统与方法。

技术介绍

1、如图1，在集成电路设计的演进历程中，设计规则检查（drc）作为确保设计满足制造工艺要求的关键步骤，其重要性日益凸显。随着技术节点的持续微缩，设计规则变得愈发复杂，对drc工具的效率和准确性提出了更高要求。传统的drc方法，基于固定的规则集和布尔逻辑运算，已经难以适应快速发展的工艺需求和设计规模的扩大。这些方法在处理日益增多的复杂规则时，不仅耗时，而且难以扩展，限制了设计创新和迭代的速度。

2、技术节点的缩小带来了多重挑战：首先，设计规则的数量和复杂性显著增加，传统的drc检查方法在面对成千上万条规则时显得力不从心；其次，设计周期的缩短要求drc检查必须更加快速，以适应市场对快速产品迭代的需求；最后，随着设计规模的增加，对计算资源的需求也在不断上升，传统的drc方法在资源消耗上显得不够经济。

3、在这样的背景下，电子设计自动化（eda）领域急需一种新的drc解决方案，既能满足高精度的要求，又能提高检查速度，减少设计周期，本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种EDA中分层式设计规则检查系统，其特征在于，包括初级违规检测模型、违规类型分类器和高级违规分析模型；其中：

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，初级违规检测模型是通过学习现有合法布局的模式，构建能够识别违规特征的决策树得到；其构建方法具体如下：

3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，违规类型分类器通过学习不同违规类型的图像特征构建得到；其构建方法如下：

4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，CNN模型包括输入层、卷积层、批量归一层、激活层以及输出层。

5.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，高级违规分析模型的工作流程...

【技术特征摘要】

1.一种eda中分层式设计规则检查系统，其特征在于，包括初级违规检测模型、违规类型分类器和高级违规分析模型；其中：

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，初级违规检测模型是通过学习现有合法布局的模式，构建能够识别违规特征的决策树得到；其构建方法具体如下：

3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，违规类型分类器通过学习不同违...

【专利技术属性】
技术研发人员：李小南，蒋若愚，俞磊，
申请(专利权)人：上海芯轫科技有限公司，
类型：发明
国别省市：