【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电子设计自动化（eda），特别是涉及一种eda中基于决策树算法的eda设计规则检查方法和系统。
技术介绍
1、在电子设计自动化（eda）领域，设计规则检查（drc）是集成电路设计中的重要环节，用来确保设计布局符合制造工艺的要求。随着技术的进步，集成电路的设计变得越来越复杂，设计规则也越来越多。这使得传统的drc方法面临很大挑战。
2、传统的drc工具依赖固定的规则集和逻辑运算，虽然在早期的技术节点上表现良好，但现在已经难以应对现代复杂的设计规则。主要面临以下几个问题：
3、规则复杂化：随着工艺的进步，设计规则变得更加复杂，涵盖了几何尺寸、间距等多个方面，传统的检查方法难以有效处理。
4、设计规模增大：集成电路设计越来越大，包含的元件数量急剧增加，导致传统方法在检查大规模设计时效率低，计算时间长，资源消耗大。
5、市场对快速迭代的需求：如今，市场要求产品快速更新，设计工具必须更快地完成检查，但传统工具在速度提升上能力有限。
6、适应性差：新工艺节点带来了更多复杂的规...
【技术保护点】
1.一种基于决策树算法的EDA设计规则检查方法，其特征在于，运用决策树算法对待测集成电路版图进行设计规则检查；包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的EDA设计规则检查方法，其特征在于，步骤S1中，几何特征包括版图中每个几何单元的坐标、面积、边长信息；拓扑特征包括版图中几何单元的相邻关系、重叠情况及间距信息；工艺相关信息包括金属层和厚度限制信息。
3.根据权利要求1所述的EDA设计规则检查方法，其特征在于，步骤S2中，几何层面特征包括最小线宽、最大面积；拓扑层面特征包括最小间距、最大间距；工艺层面特征包括金属层厚度和电气隔离要求。
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【技术特征摘要】
1.一种基于决策树算法的eda设计规则检查方法，其特征在于，运用决策树算法对待测集成电路版图进行设计规则检查；包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的eda设计规则检查方法，其特征在于，步骤s1中，几何特征包括版图中每个几何单元的坐标、面积、边长信息；拓扑特征包括版图中几何单元的相邻关系、重叠情况及间距信息；工艺相关信息包括金属层和厚度限制信息。
3.根据权利要求1所述的eda设计规则检查方法，其特征在于，步骤s2中，几何层面特征包括最小线宽、最大面积；拓扑层面特征包括最小间距、最大间距；工艺层面特征包括金属层厚度和电气隔离要求。
4.根据权利要求1所述的eda设计规则检查方法，其特征在于，步骤s3中，所述决策树模型的训练方法如下：对有标注的历史设计数据进行监督学习，并针对不同类型的设计规则生成多个分类节点，用于区分合规与违规布局；所述设计规则包括几何规则、拓扑规则...
【专利技术属性】
技术研发人员：张江江，俞磊，李小南，
申请(专利权)人：上海芯轫科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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