制造光学元件的方法技术

一种制造光学元件的方法，其包括：提供一个压印模具，所述压印模具包括一个界定光学元件形状的图案部和围绕所述图案部的空白部；提供一个基板，所述基板具有第一表面，所述第一表面上具有矩阵排列的压印分区，所述压印分区上具有复制材料，所述复制材料用来限定转印的图案部和空白部的边界；相对移动所述压印模具和基板，使得压印模具逐一与所述压印分区相对，压印模具下压于复制材料；固化复制材料以形成光学元件。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光学元件的制造方法，特别是涉及一种大量制造微小尺寸的光学 元件的方法。
技术介绍
WLP (wafer level package)制程是目前新发展的相机镜头模组制作方式，乃是 采用与半导体制程相整合之镜片堆栈方式，其中微镜片之制程方式与一般塑料射出镜片不 同，主要是利用压印模具压印技术，利用非球面镜片压印模具在复制材料(如，可热固化或 光固化的材料)上压印出非球面镜片，再利用热固化或者UV光固化，使非球面镜片定型；然 后再以堆栈方式或者双面压印方式形成镜头，并且与后段影像处理器封装制程整合，其制 程之优点在于可大量生产光学镜头模组。压印镜片的方式为制作与基板(例如晶圆)尺寸相当的压印模具，在整个基板上 涂布复制材料(例如，UV胶)，然后使用压印模具压印光固化型材料以成型镜片。但是，制 造如此大尺寸(与晶圆尺寸相当)的精密压印模具很困难，而且成本很高；另外，按照以上 的方法需要用较多的UV胶涂满整个基板表面，使得大部分UV胶并未真正用于成型微镜片， 一方面产生浪费，另一方面未用于成型镜片的UV胶加上多余的UV胶向镜片之间挤压从而 使得镜片之间的厚度较大。
技术实现思路
有鉴于此，有必要提供一种节约复制材料、减小光学元件之间厚度的制造光学元 件的方法。一种，其包括提供一个压印模具，所述压印模具包括一个界 定光学元件形状的图案部和围绕所述图案部的空白部；提供一个基板，所述基板具有第一 表面，所述第一表面上具有矩阵排列的压印分区，所述压印分区上具有复制材料，所述复制 材料用来限定转印的图案部和空白部的边界；相对移动所述压印模具和基板，使得压印模 具逐一与所述压印分区相对，压印模具下压于复制材料；固化复制材料以形成光学元件。所述压印模具的空白部上具有第一对准标记。与现有技术相比，本专利技术实施例的基板上具有阵列排布的压印分区，压印分区限 定了光学元件的边界，并且仅在压印分区上涂布复制材料以成型光学元件，压印分区之外 并未涂布复制材料，从而使用较少的复制材料即可，进而节省复制材料；即使多余的复制材 料向光学元件之间挤压，由于压印分区之间无复制材料，从而使得光学元件之间的厚度较 压印模具上的第一对准标记可相应转印到基板上，在压印第二表面时，由于图案 部在第一对准标记和第二对准标记的作用下在每个压印分区内可实现图案部与已成型的 光学元件的对准，使得光学元件的偏心较低。附图说明图1是本专利技术实施例压印模具的示意图。图2是本专利技术实施例所提供基板的示意图，基板具有相对的第一表面和第二表图3是本专利技术实施例在第一表面压印成型光学元件的示意图。图4是本专利技术实施例在第二表面涂布透明材料的示意图。具体实施例方式下面将结合附图对本专利技术作进一步详细说明。一种，其包括提供一个压印模具，所述压印模具包括一个界定光学元件形状的图案部和围绕所 述图案部的空白部；提供一个基板，所述基板具有第一表面，所述第一表面上具有矩阵排列的压印分 区，所述压印分区上具有复制材料，所述复制材料用来限定转印的图案部和空白部的边 界；相对移动所述压印模具和基板，使得压印模具逐一与所述压印分区相对，压印模 具下压于复制材料；固化复制材料以形成光学元件。如图1所示，压印模具10包括本体11、设置在本体11上的图案部12和围绕图案 部12的空白部。一个“十字”形第一对准标记13设置在空白部上。该压印模具10由超精密加工技术制成，图案部12用于界定光学元件形状，其可用 来成型球面镜片或非球面镜片，相应地，该图案部12的形状可根据需成型的镜片形状来决定。压印模具10大致呈方形，尺寸约为镜片尺寸的2至4倍。其中，图案部12及对第 一准标记13分别处於方形的左下角及右上角处。可以理解，第一对准标记13并不限于十字形，也可以为T形、I形、F形或E形。当 然，压印模具10上也可以不设置第一对准标记13。如图2所示，基板20具有第一表面21，在第一表面21上预先设有6X6阵列排布 的压印分区22，压印分区22限定了光学元件和第一对准标记13的边界，即转印的图案部 12和第一对准标记13所在的区域不会超出压印分区22的范围。压印分区22上涂布有光固化型材料，如环氧树脂、丙烯酸系树脂、聚氨基甲酸酯 或聚硅氧树脂等其他可光固化型材料，光固化型材料的厚度略大于欲成型镜片的最大厚度。当然，压印分区22的排布根据需要可以为5X5、8X8等其他的阵列排布，基板20 的尺寸可以为4寸、6寸、8寸或12寸等。该基板20为由石英制成的透光基板。当然，该基板20也可以由玻璃等其他可透 光材料制成的透光基板。如图3所示，压印模具10在选定的压印分区22上进行压印以将压印模具10的图 案部12和第一对准标记13转印到压印分区22上，然后采用紫外线固化以使图案部12和第一对准标记13压印的光固化型材料定型，形成镜片210和“十字”形第二对准标记211。6X6阵列排布的压印分区22，每次压印一个压印分区22，需要压印6X6次以将所 有压印分区22压印完成，然后进行固化形成镜片210和第二对准标记211。由于仅在压印分区22上涂布光固化型材料以成型镜片210，压印分区22之外并未 光固化型材料，从而使用较少的光固化型材料即可，进而节省光固化型材料；由于光固化型 材料的厚度略大于镜片210的最大厚度，即使有多余的光固化型材料向镜片210之间挤压， 那么也仅是较少的光固化型材料，而且由于压印分区22之间无光固化型材料，从而使得镜 片210之间的厚度较小。如图4所示，所有选定的压印分区22压印完成后，将基板20进行翻面，在与第一 表面21相背的第二表面23上形成透明薄膜30。由于基板20和薄膜30均是透明的，可由第二表面23看到第一表面21上的镜片 210和第二对准标记211。在第二表面23上压印时，首先将图案部12和第一对准标记13 放置在镜片210和第二对准标记211所对应的薄膜30区域，然后使第一对准标记13对准 第二对准标记211，从而使得图案部12覆盖在镜片210上，最后使压印模具10在薄膜30上 压印并固化以成型另一镜片薄膜30的材料可以为聚二甲基硅氧烷、光敏树脂或聚甲基丙烯酸甲酯等，可以采 用旋涂方法，也可以采用喷涂方法或浇铸方法形成薄膜30，而其厚度可根据实际所需设计。在压印第二面23时，由于压印模具10上的第一对准标记13可以与第二对准标记 211对准，使得在每个压印分区22所对应的薄膜30区域内可实现压印模具10的图案部12 与镜片210的对准，使得光学元件的偏心较低。另外，本领域技术人员还可以在本专利技术精神内做其它变化，当然，这些依据本专利技术 精神所做的变化，都应包含在本专利技术所要求保护的范围之内。权利要求一种，其包括提供一个压印模具，所述压印模具包括一个界定光学元件形状的图案部和围绕所述图案部的空白部；提供一个基板，所述基板具有第一表面，所述第一表面上具有矩阵排列的压印分区，所述压印分区上具有复制材料，所述复制材料用来限定转印的图案部和空白部的边界；相对移动压印模具和基板，使得压印模具逐一与压印分区相对，压印模具下压于复制材料；固化复制材料以形成光学元件。2.如权利要求1所述的，其特征在于所述压印模具的空白部上 具有第一对准标记。3.如权利要求2所述的，其特征在于所述第一对准标记为十本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造光学元件的方法，其包括：提供一个压印模具，所述压印模具包括一个界定光学元件形状的图案部和围绕所述图案部的空白部；提供一个基板，所述基板具有第一表面，所述第一表面上具有矩阵排列的压印分区，所述压印分区上具有复制材料，所述复制材料用来限定转印的图案部和空白部的边界；相对移动压印模具和基板，使得压印模具逐一与压印分区相对，压印模具下压于复制材料；固化复制材料以形成光学元件。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：余泰成，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]