一种消除红外镀膜膜料点的镀膜方法技术

本发明专利技术公开了一种消除红外镀膜膜料点的镀膜方法，涉及真空镀膜技术领域，将需要镀膜的镜片放置于镀膜设备中，氟化物膜料放置于钼质蒸发舟内，在钼质蒸发舟蒸发口处放置遮挡片，遮挡片与蒸发口两侧留出缝隙，再将蒸发盖盖在遮挡片和蒸发口上，蒸发盖上开设有通孔，蒸发盖和遮挡片之间具有一高度差；选用电阻蒸发梯度预热膜料，将镀膜机真空度抽至5*10<supgt;‑3</supgt;Pa压力后，开始电阻加热膜料，预热过程分3个部分。本发明专利技术采用电阻加热蒸发方式，避免膜料表面温度过激产生喷溅，通过设置的钼质蒸发舟、遮挡片和蒸发盖的配合，使得膜料间接镀制到镜片上，阻挡膜料的喷溅，能够完全消除氟化物镀膜过程中的膜料点，能够在降低成本的同时增加镀膜良率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及真空镀膜，具体是一种消除红外镀膜膜料点的镀膜方法。

技术介绍

1、在真空镀膜过程中，红外膜由于使用膜料的限制，低折射率材料常用氟化镱、氟化钡等氟化物，现有技术中氟化物通常采用电子书加热蒸发方式镀膜，而采用电子束加热蒸发氟化物容易产生喷溅，导致大颗粒膜料点产生，从而镀膜时膜层表面出现大颗粒状膜料点，蒸发过程中很难避免大颗粒状的膜料点喷溅到镜片上，而这些喷溅的大颗粒膜料点对镜片的光学成像效果产生致命伤害，很难消除。

2、目前市场上通常是优选纯度更高的氟化物膜料，以此来减少或避免膜料中杂质过多造成蒸发时的喷溅，但这种更高纯度的膜料售价更高，这无疑将增加巨大的生产成本，因此，如何在减少生产成本的同时消除氟化物镀膜过程中的膜料点成为现有技术亟需解决的问题。所以，本领域技术人员提供了一种消除红外镀膜膜料点的镀膜方法，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种消除红外镀膜膜料点的镀膜方法，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。

2、为实现上述目的，本专利本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种消除红外镀膜膜料点的镀膜方法，其特征在于：具体包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种消除红外镀膜膜料点的镀膜方法，其特征在于：蒸发过程中，膜料蒸发速率控制在5～10埃每秒。

3.根据权利要求1所述的一种消除红外镀膜膜料点的镀膜方法，其特征在于：电阻加热蒸发膜料的过程中电压为1～10伏。

4.根据权利要求1所述的一种消除红外镀膜膜料点的镀膜方法，其特征在于：电阻加热蒸发膜料的过程中蒸发电流为1千安。

5.根据权利要求1所述的一种消除红外镀膜膜料点的镀膜方法，其特征在于：蒸发过程中，电阻加热控制蒸发速率的电流增减幅度控制在蒸发电流...

【技术特征摘要】

1.一种消除红外镀膜膜料点的镀膜方法，其特征在于：具体包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种消除红外镀膜膜料点的镀膜方法，其特征在于：蒸发过程中，膜料蒸发速率控制在5～10埃每秒。

3.根据权利要求1所述的一种消除红外镀膜膜料点的镀膜方法，其特征在于：电阻加热蒸发膜料的过程中电压为1～10伏。

4.根据权利要求1所述的一种消除红外镀膜膜料点的镀膜方法，其特征在于：电阻加热蒸发膜料的过程中蒸发电流为1千安。

5.根据权利要求1所述的一种消除红外镀膜膜料点的镀膜方法，其特征在于：蒸发过程中，电阻加热控制蒸发速率的电流增减幅度控制在蒸发电流的1～5％内。

6.根据权利要求1所述的一种消除红外镀膜膜料点的镀膜方法，...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭乔，
申请(专利权)人：安徽昱升光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：