有机发光显示设备及其制造方法技术

有机发光显示设备及其制造方法。本发明专利技术公开了一种具有提高的产量和处理效率的有机发光显示设备及其制造方法，该有机发光显示设备包括：位于有机发光设备中的空穴注入层顶部的中间层，该中间层能够被分隔为亲水区和疏水区；包括发光层的多个层，该有机发光显示设备无需使用荫罩来制造。该制造方法包括以下步骤：制备具有以矩阵形式限定的多个像素区的基板；在各个像素区中设置阳极；通过溶解工艺在阳极上形成空穴注入层；通过溶解工艺在所述空穴注入层上形成具有疏水特性的中间层；对所述中间层进行选择性的ＵＶ照射，以在所述中间层上限定亲水区；通过溶解工艺在所述中间层上形成发光层；以及在具有所述发光层的所述基板上设置阴极。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及有机发光设备，更具体地涉及具有提高的产量和处理效率的，该有机发光显示设备包括位于有机发光设备中的空穴注入层顶部的中间层，该中间层能够被分隔为亲水区和疏水区；包括发光层的多个层，该有机发光显示设备无需使用荫罩来制造。
技术介绍
本申请要求2008年12月24日提交的韩国专利申请No.10-2008-0133274和2009年7月7日提交的韩国专利申请No.10-2009-0061771的优先权，此处以引证的方式并入其内容，就像在此进行了完整阐述一样。 近来，随着向发达的信息社会发展，用于电子信息信号的视觉表示的显示器应用正快速增长。响应于这种发展，各种外形薄、重量轻、功耗低和性能优秀的平板显示设备正在被开发并快速取代了现有的诸如阴极射线管(CRT)的产品。 这种平板显示设备(FDD)的例子可以包括液晶显示设备(LCD)、等离子体显示板设备(PDP)、场发射显示设备(FED)、有机发光设备(OLED)等。 其中，OLED用于制造紧凑型设备并呈现清晰的画面质量而不需要诸如背光的附加的光源，因此其被认为在相关应用中具有竞争力。 通常，这种OLED需要有机发光层，以及利用荫罩通过沉积来形成有机发光层。 以下将参考附图通过下面的描述来详细地描述用于制造OLED的常规方法。 图1是例示了普通的荫罩及使用该荫罩沉积发光层的工艺的立体图。 如图1所示，通常使用的荫罩包括平底1，其具有以一定宽度沿一个方向延伸的至少一个狭缝2。 蒸发的发光材料作为气体通过狭缝2排出，进而在基板10上沉积以形成发光层5。 图2是描述具有一些问题的通常使用的荫罩的截面图。 如图2所示，荫罩1位于基板10下方，并且以使荫罩1与基板上的形成有发光层5的一面相对的方式来放置基板10。在这种情况下，蒸发的气体从荫罩1的底部经由狭缝2供给，以形成发光层5。 然而，如图2所示，如果荫罩用于制造大型有机发光显示设备的工艺，则荫罩的沉重重量会造成挠曲(deflection)。因此，荫罩很难重复使用并会在有机发光层上形成图案时造成故障。例如，使用平底1的问题在于，平底会弯曲或变形，在清洗后清洁剂成分会残留，在形成荫罩1的期间在狭缝2的边界会出现损坏，和/或会遇到对准误差。另外，在沉积期间产生的颗粒1a会在随后的沉积期间造成故障。 为了解决上述问题，需要代替常规荫罩的新的替代品。尤其强烈要求开发新的沉积工艺，以代替在用于制造大型有机发光显示设备的设备中使用荫罩，该荫罩由于其重量会造成荫罩的中部的挠曲。 用于制造本领域中通常使用的有机发光显示设备的常规工艺存在以下问题。 用于制造大型有机发光显示设备的工艺在制造产品方面有困难，这是由荫罩的重量造成的，并且由于荫罩的挠曲会造成图案故障。 对于制造大型有机发光显示设备，需要用于形成包括发光层的有机半导体层的新工艺。 此外，对于使用荫罩的普通的蒸发沉积，原料消耗很高。因此，为了提高原料利用率，已经提出了对工艺改变的调研。
技术实现思路
因此，本专利技术旨在解决上述问题，本专利技术的目的是提供一种具有提高的产量和处理效率的，该有机发光显示设备包括位于OLED中的空穴注入层的顶部上的能被分隔为亲水区和疏水区的中间层；以及包括发光层的多个层，该有机发光显示设备无需采用荫罩来制造。 为了实现该目的和其它优点并根据本专利技术的目的，提供了一种用于制造有机发光显示设备的方法，该方法包括以下步骤制备具有以矩阵形式限定的多个像素区的基板；在各个像素区中设置阳极；通过溶解工艺在阳极上形成空穴注入层；通过溶解工艺在所述空穴注入层上形成具有疏水特性的中间层；对所述中间层进行选择性的UV照射，以在所述中间层上限定亲水区；通过溶解工艺在所述中间层上形成发光层；以及在具有所述发光层的所述基板上设置阴极。 更具体地，根据本专利技术的示例性实施方式的一种用于制造有机发光显示设备的方法包括以下步骤制备具有以矩阵形式限定的多个像素区的基板；在各个像素区中设置阳极；通过溶解工艺在阳极上形成空穴注入层；通过溶解工艺在所述空穴注入层上形成具有70°或更大的水接触角和疏水特性的中间层；对所述中间层进行选择性的UV照射以对所述中间层进行亲水处理，从而在所述中间层的UV照射部分处具有小于70°的水接触角；在除了所述UV照射部分之外的所述中间层上形成发光层；以及在具有所述发光层的所述基板上设置阴极。 形成所述中间层的步骤可以包括以下步骤将具有所述阳极和所述空穴注入层的所述基板浸入到中间层材料中，或者，通过从由旋涂、滚印、狭缝涂敷、喷嘴涂敷和喷墨构成的组中选择的至少一种方式，将所述中间层材料涂到具有所述阳极和所述空穴注入层的所述基板的顶部。 形成所述发光层的步骤可以包括以下步骤将具有所述阳极、所述空穴注入层以及所述中间层的所述基板浸入到发光材料中，或者，通过从由旋涂、滚印、狭缝涂敷、喷嘴涂敷和喷墨构成的组中选择的至少一种方式，将所述发光材料涂到具有所述阳极、所述空穴注入层以及所述中间层的所述基板的顶部。 前述方法还可以包括以下步骤在形成所述发光层之后，通过从由浸入、旋涂、喷嘴涂敷、狭缝涂敷、滚印、喷墨和蒸发沉积构成的组中选择的至少一种方式，在所述发光层的顶部上形成电子传输层。 上述形成的所述中间层可以由表现出UV吸收或光解性能的材料构成。所述中间层可以包含具有从C-C，C＝N，C＝C，Si-O，C-O，和C＝O中选择的至少一种键的有机物质。所述中间层可以包含从由酰亚胺基、胺基、硅烷基、碳酸酯基、酯基、醋酸酯基、磺酸酯基、硝酸酯基、酮基、氟基、氧杂环丁烷基、和环氧基构成的组中选择的至少一种官能团。优选地，所述中间层可以包含三苯胺。 在从1×10-5托到800托的压力下以150到260nm的波长进行所述UV照射。 为了实现上述的相同目的，根据本专利技术的另一示例性实施方式的一种用于制造有机发光显示设备的方法包括以下步骤制备具有以矩阵形式限定的多个像素区的基板；在各个像素区中设置阳极；通过溶解工艺在阳极上形成空穴注入层；通过溶解工艺在所述空穴注入层上形成具有疏水特性的中间层；对所述中间层进行选择性的UV照射以对其构图；通过溶解工艺在构图后的中间层上形成发光层；以及在具有所述发光层的所述基板上设置阴极。 所制造的有机发光显示设备可以包括基板，其具有以矩阵形式限定的多个像素区；阳极，其设置在各个像素区中；空穴注入层，其形成在所述阳极上；具有疏水特性的中间层，其通过溶解工艺形成在所述空穴注入层上，其中，所述中间层在与空穴注入层接触的表面具有基本相同的界面特性，并且在其顶部具有疏水特性，所述中间层包括通过UV照射而分隔出的疏水区和亲水区；形成在所述疏水性的中间层上的发光层和电子传输层；以及阴极，其设置在所述电子传输层上。 根据本专利技术的前述具有以下各种优点。 在阳极上制备空穴注入层之后，然后，可通过溶解工艺在空穴注入层的顶部上形成中间层(下一层)。此处，中间层的表面具有水接触角为70°或更大的疏水特性。中间层由UV活性材料构成，在选择性的UV照射之后，在除了进行将水接触角控制到小于70°的亲水处理的部分之外的中间层上形成疏水性的发光层，从而在中间层的构图区域中精确地对准发光层。简而言之，通过溶解工艺形成的中间层是疏水性的，并可以具有由UV照射选择性地限定的亲水区。因此，即本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于制造有机发光显示设备的方法，该方法包括以下步骤：制备具有以矩阵形式限定的多个像素区的基板；在各个像素区中设置阳极；通过溶解工艺在阳极上形成空穴注入层；通过溶解工艺在所述空穴注入层上形成具有疏水特性的中间层；对所述中间层进行选择性的ＵＶ照射，以在所述中间层上限定亲水区；通过溶解工艺在所述中间层上形成发光层；以及在具有所述发光层的所述基板上设置阴极。

【技术特征摘要】
KR 2008-12-24 10-2008-0133274;KR 2009-7-7 10-2009-1.一种用于制造有机发光显示设备的方法，该方法包括以下步骤制备具有以矩阵形式限定的多个像素区的基板；在各个像素区中设置阳极；通过溶解工艺在阳极上形成空穴注入层；通过溶解工艺在所述空穴注入层上形成具有疏水特性的中间层；对所述中间层进行选择性的UV照射，以在所述中间层上限定亲水区；通过溶解工艺在所述中间层上形成发光层；以及在具有所述发光层的所述基板上设置阴极。2.一种用于制造有机发光显示设备的方法，该方法包括以下步骤制备具有以矩阵形式限定的多个像素区的基板；在各个像素区中设置阳极；通过溶解工艺在阳极上形成空穴注入层；通过溶解工艺在所述空穴注入层上形成具有70°或更大的水接触角和疏水特性的中间层；对所述中间层进行选择性的UV照射以对所述中间层进行亲水处理，从而在所述中间层的UV照射部分处具有小于70°的水接触角；在除了所述UV照射部分之外的所述中间层上形成发光层；以及在具有所述发光层的所述基板上设置阴极。3.根据权利要求2所述的方法，其中形成所述中间层的步骤包括以下步骤将具有所述阳极和所述空穴注入层的所述基板浸入到中间层材料中，或者，通过从由旋涂、滚印、狭缝涂敷、喷嘴涂敷和喷墨构成的组中选择的至少一种方式，将所述中间层材料涂到具有所述阳极和所述空穴注入层的所述基板的顶部。4.根据权利要求2所述的方法，其中形成所述发光层的步骤包括以下步骤将具有所述阳极、所述空穴注入层以及所述中间层的所述基板浸入到发光材料中，或者，通过从由旋涂、滚印、狭缝涂敷、喷嘴涂敷和喷墨构成的组中选择的至少一种方式，将所述发光材料涂到具有所述阳极、所述空穴注入层以及所述中间层的所述基板的顶部。5.根据权利要求2所述的方法，该方法还包括以下步骤在形成所述发光层之后，通过从由浸入、旋涂、喷嘴涂敷、狭缝涂敷、滚印、喷墨和蒸发沉积构成的组中选择的至少一种方式，在所述发光层的顶部上形成电子传输层。6.根据权利要求2所述的方法，其中所述中间层由表现出UV吸收或光解性能的材料构成。7.根据权利要求2所述的方法，其中所述中间层包含具有从C-C，C＝N，C＝C，Si-O，C-O，和C＝O中选择的至少一种键的有机物质。8.根据权利要求7所述的方法，其中所述中间层包含从由酰亚胺基、胺基、硅烷基、碳酸酯基、酯基、醋酸酯基、磺酸酯基、硝酸酯基、酮基、氟基、氧杂环丁烷基、和环氧基构成的组中选择的至少一种官能团。9.根据权利要求8所述的方法，其中所述中间层包含三...

【专利技术属性】
技术研发人员：李敬勋，朴钟贤，朴泰翰，郑贤哲，柳东熙，
申请(专利权)人：乐金显示有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]