无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法、设备及存储介质技术

本发明专利技术的一种无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法、设备及存储介质，包括根据构建帧化矩形，反向倾斜待曝光图形副本，按反倾斜方向和轴向步长改变帧化矩形的位置，按空间光调制器的像方像素精度在帧化矩形内进行多边形填充，得到帧图像。本发明专利技术利用待曝光图形的反倾斜后与帧化窗口之间的特殊关系，构造出轴对齐的帧化窗口，利用成熟的填充算法进行帧图像的构造，加速了帧化的处理效率。减少了中间栅格化条带图形，倾斜条带图像处理步骤，减少了中间数据的生成和传输时间，也提高了单次曝光中从图形变换到开始曝光过程的等待时间；通过本发明专利技术的实施，不仅减少主机硬件的投入，也将极大提高曝光的响应时间。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法的，具体涉及一种无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法、设备及存储介质。

技术介绍

1、自kin foong chan等人首次提出倾斜扫描技术(doi:10.1117/1.1611182)以来，倾斜式无掩膜光刻技术得到了长足的发展。然而，倾斜扫描式光刻的现有的数据处理过程路径非常长，不仅导致每个处理环节数据规模极大，同时对各个处理单元要求极高。究其原因是条带栅格化的分辨率的提高，导致数据规模的极度上升和对数据处理能力的提高，对实时性要求越来越高的无掩膜光刻，需要更先进的数据处理方法或更先进的硬件。

2、2012年申请的cn102914949b的提供的步骤为图形预处理，栅格化处理，重新组合(倾斜处理，生成帧图像)，曝光显示；具体来说，核心步骤为：图形变换，条带切割，栅格化，倾斜处理，生成帧图像和曝光显示，生成帧图像是无掩膜光刻过程中数据处理的根本目的。

3、其中，

4、图形变换，是指将图形文件的坐标与系统内坐标对齐的过程；

5、条带切割，是指将上述对齐后的图形或图形副本，按作本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于，包括以下步骤，

2.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：

3.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：

4.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：

5.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：

6.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：

7.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：

8.一种计算机可读存储...

【技术特征摘要】

1.一种无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于，包括以下步骤，

2.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：

3.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：

4.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：

5.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：

6.根据权利要求1所述的无掩膜光...

【专利技术属性】
技术研发人员：俞庆平，俞逸骐，
申请(专利权)人：合肥睿翼创智技术开发有限公司，
类型：发明
国别省市：