【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法的，具体涉及一种无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法、设备及存储介质。
技术介绍
1、自kin foong chan等人首次提出倾斜扫描技术(doi:10.1117/1.1611182)以来，倾斜式无掩膜光刻技术得到了长足的发展。然而，倾斜扫描式光刻的现有的数据处理过程路径非常长，不仅导致每个处理环节数据规模极大，同时对各个处理单元要求极高。究其原因是条带栅格化的分辨率的提高，导致数据规模的极度上升和对数据处理能力的提高，对实时性要求越来越高的无掩膜光刻，需要更先进的数据处理方法或更先进的硬件。
2、2012年申请的cn102914949b的提供的步骤为图形预处理，栅格化处理，重新组合(倾斜处理，生成帧图像)，曝光显示；具体来说，核心步骤为：图形变换，条带切割，栅格化，倾斜处理，生成帧图像和曝光显示，生成帧图像是无掩膜光刻过程中数据处理的根本目的。
3、其中，
4、图形变换，是指将图形文件的坐标与系统内坐标对齐的过程；
5、条带切割，是指将上述对齐后的图形或图形副本，按作用区域将切分成多个图形集合并分配的过程；
6、栅格化，是指上述将条带图形按预设的精度生成条带位图的过程；倾斜扫描下，所生成的栅格化位图极大，计算量也较大，然后再传输到数据处理单元进行倾斜处理。
7、倾斜处理，是指将栅格化位图按倾斜角反向错切的过程；错切变换，即y方向逐步下移或上拉(取决于倾斜角度的方向)，x方向位置不变。
8、生成帧图像，也称
9、上述处理过程中，栅格化、倾斜处理、帧化均是针对位图进行的。该数据处理过程中计算量极大，传输效率要求极高，为了提高处理效率，业内有很多的创新。如栅格化阶段的加速技术有gpu栅格化加速(cn104408759a)和fpga栅格化加速(cn116430683a)，从机加速(如cn102354327b)；或降低数据传输通量，如数据压缩(cn115297219b，cn115297220b，cn102736447b，cn102736449b)，或提高带宽(cn114510448a)，或加速倾斜阶段处理(cn102890427b，cn104216238b和cn106527058b)等，以上创新均在大的数据处理框架下进行的。对性能、效率均有一定的提升。
技术实现思路
1、本专利技术提出的一种无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法、设备及存储介质，可至少解决
技术介绍
中的技术问题之一。
2、为实现上述目的，本专利技术采用了以下技术方案：
3、一种无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，包括以下步骤，
4、s1：根据给定的扫描倾斜角度，构造反倾斜旋转变换矩阵；
5、s2：根据反倾斜旋转变换矩阵，旋转给定的待曝光条带图形、帧化起点位置和帧化截止位置，得到旋转后的待曝光条带图形、帧化起点位置和帧化截止位置；
6、s3：根据上述的旋转后的帧化起点位置和曝光空间光调制器的配置，构造帧化起点位置的帧化矩形；
7、s4：通过帧化矩形对旋转后待曝光条带图形截窗，得到截窗图形集，利用所得的截窗图形集按空间光调制器的像方像素精度进行帧填充处理，得到帧图像；
8、s5：更新帧化矩形；
9、s6：重复上述s3、s4、s5过程，直至帧化结束。
10、进一步地，所述的利用所得的截窗图形集按空间光调制器的像方像素精度进行帧填充处理是指利用像方像素精度进行多边形填充，包括扫描线填充法。
11、进一步地，所述的反倾斜旋转变换矩阵，以任意点为旋转中心，旋转角为反方向的扫描倾斜角；
12、所述的反倾斜旋转变换矩阵为：
13、
14、其中，旋转点(xr,yr)为任意坐标，反倾斜角α＝-θ。
15、进一步地，所述的反倾斜旋转变换矩阵，旋转中心为(0,0)点。
16、进一步地，所述的帧化矩形尺寸与空间光调制器像的尺寸相同，为轴对齐矩形，包含四个顶点的点坐标，四个顶点的初始坐标为(0,0),(0,hslm),(wslm,hslm),(wslm,0)。
17、进一步地，所述的更新帧化矩形，是对所述帧化矩形各点坐标进行平移，使用增量加和方法；
18、平移公式为：x＝x+dy·sinθ；y＝y+dy·cosθ。
19、进一步地，所述的更新帧化矩形，就是对所述帧化矩形各点坐标进行平移，使用计数乘积法；
20、计算公式为：x＝xa0+c·dy·sinθ；y＝ya0+c·dy·cosθ。
21、又一方面，本专利技术还公开一种计算机可读存储介质，存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时，使得所述处理器执行如上述方法的步骤。
22、再一方面，本专利技术还公开一种计算机设备，包括存储器和处理器，所述存储器存储有计算机程序，所述计算机程序被所述处理器执行时，使得所述处理器执行如上方法的步骤。
23、由上述技术方案可知，为了更加有效的生成帧图像，本专利技术提出了一种全新的帧图像生成方法，本专利技术的主要步骤为：根据构建帧化矩形，反向倾斜待曝光图形副本，按反倾斜方向和轴向步长改变帧化矩形的位置，按空间光调制器的像方像素精度在帧化矩形内进行多边形填充，得到帧图像。
24、与之前专利技术最大的不同的是，本专利技术利用待曝光图形的反倾斜后与帧化窗口之间的特殊关系，构造出轴对齐的帧化窗口，利用成熟的填充算法进行帧图像的构造，加速了帧化的处理效率，减少了中间栅格化条带图形，倾斜条带图像处理步骤，减少了中间数据的生成和传输时间，也提高了单次曝光中从图形变换到开始曝光过程的等待时间；通过本专利技术的实施，不仅减少主机硬件的投入，也将极大提高曝光的响应时间。
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1.一种无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于，包括以下步骤，
2.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：
3.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：
4.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：
5.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：
6.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：
7.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：
8.一种计算机可读存储介质，存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时，使得所述处理器执行如权利要求1至6中任一项所述方法的步骤。
9.一种计算机设备，包括存储器和处理器，所述存储器存储有计算机程序，所述计算机程序被所述处理器执行时，使得所述处理器执行如权利要求1至6中任一项所述方法的步骤。
【技术特征摘要】
1.一种无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于，包括以下步骤，
2.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：
3.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：
4.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：
5.根据权利要求1所述的无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于：
6.根据权利要求1所述的无掩膜光...
【专利技术属性】
技术研发人员：俞庆平，俞逸骐，
申请(专利权)人：合肥睿翼创智技术开发有限公司，
类型：发明
国别省市：
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