利用快速热退火处理的高密度磁记录薄膜及其制造方法技术

本发明专利技术提供了一种利用快速热退火处理的高密度磁记录薄膜，其包含一基板；及一铁磁性层，形成于该基板上，其中该铁磁性层在升温速率介于６０～１００℃／秒、温度介于６００～８００℃、且持温时间介于５～１８０秒的条件下进行该快速热退火处理，以获得该高密度磁记录薄膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及高密度磁记录薄膜及其制造方法，尤指一种利用快速热退火处理的高密度磁记录薄膜及其制造方法。
技术介绍
磁记录媒体的记录密度与磁性粒子尺寸成反比，磁性粒子越小，记录密度越高。根据Stoner-Wohlfarth模型的推导，对保存寿命十年的磁记录媒体，其最小热稳定晶粒尺寸(Dp)为(60KeT/Ku)"3，其中Ku为磁晶异向性常数，Ke为波兹曼常数，T为绝对温度。目前硬盘最普遍使用的记录媒体材料为CoCrPtM(M = B、Ni、Ta或W)合金薄膜，其中&值约2xl06erg/cm 所以当CoCrPt合金薄膜的磁性粒子低于10nm以下时，其热稳定性将遭受极大的挑战。而有序化的Ll。FePt硬磁相，其Ku值高达7xl(ferg/cm3，依理论计算其最小热稳定晶粒尺寸最小可到3nm，因而，FePt合金薄膜有希望取代现行CoCrPt合金薄膜而成为下一代超高密度磁记录媒体的主流材料。 然而常温初镀的FePt合金薄膜呈现无序的Y -FePt软磁相，通常必须经过500°C以上的热处理才能变态成有序的Ll。FePt硬磁相，面对如此高的序化温度，晶粒粗化问题很难避免，因此有关如何促本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种利用快速热退火处理的高密度磁记录薄膜，其包含：　　一基板；及　　一铁磁性层，形成于所述基板上，　　其中所述铁磁性层在升温速率介于６０～１００℃／秒、温度介于６００～８００℃、及持温时间介于５～１８０秒下进行所述快速热退火处理，以获得所述高密度磁记录薄膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈胜吉，郭博成，沈智隆，陈松柏，张庆瑞，
申请(专利权)人：陈胜吉，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]