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本发明提供了一种利用快速热退火处理的高密度磁记录薄膜，其包含一基板；及一铁磁性层，形成于该基板上，其中该铁磁性层在升温速率介于６０～１００℃／秒、温度介于６００～８００℃、且持温时间介于５～１８０秒的条件下进行该快速热退火处理，以获得该高密...
该专利属于陈胜吉所有，仅供学习研究参考，未经过陈胜吉授权不得商用。

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