真空镀膜设备制造技术

技术编号:42477060 阅读:62 留言:0更新日期:2024-08-21 12:59
本公开提供一种真空镀膜设备,包括:蒸发源、第一冷却循环回路以及第二冷却循环回路。所述蒸发源包括送丝机构,所述送丝机构用于将金属丝送至所述蒸发源的蒸发表面;所述第一冷却循环回路设置于所述真空镀膜设备内部,用于为所述蒸发源降温;所述第二冷却循环回路与所述送丝机构连接,用于为所述送丝机构降温,其中,所述第一冷却循环回路和所述第二冷却循环回路不连通。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及蒸镀设备,具体而言,涉及一种真空镀膜设备


技术介绍

1、在真空镀膜设备中,送丝机构是蒸发源的重要工作部件,通常用于金属蒸发镀膜设备中。蒸镀过程中,送丝机构将金属丝送至蒸发舟的蒸发表面,通过电流加热,蒸发舟将金属丝汽化程金属蒸汽,其后金属蒸汽均匀沉积在衬底层上。送丝机构对金属镀层的镀膜均匀性、成膜质量等参数有着重要影响。

2、在本领域中,送丝机构的冷却通常采用普通的厂务供给冷水接入送丝机构的冷却循环管路中,然后利用冷水循环来带走送丝机构的热量。由于送丝机构的接地电阻阻值较低,在蒸镀过程中,导致金属丝电流通过送丝机构接地,而蒸发源的蒸发舟与金属丝本身有电流流过,这就导致部分电流会经由送丝机构导向大地,使金属液熔池不稳定,产生金属液飞溅。


技术实现思路

1、本公开的目的在于针对相关技术中的技术问题,提供一种真空镀膜设备。具体方案如下:

2、本公开实施例提供一种真空镀膜设备,包括:蒸发源,所述蒸发源包括送丝机构,所述送丝机构用于将金属丝送至所述蒸发源的蒸发表面;第一冷却循环回路,设本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种真空镀膜设备,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备,其特征在于,

3.根据权利要求1所述的真空镀膜设备,其特征在于,

4.根据权利要求3所述的真空镀膜设备,其特征在于,

5.根据权利要求2所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述真空镀膜设备还包括:

6.根据权利要求5所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述板式换热器包括:

7.根据权利要求6所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述真空镀膜设备还包括:

8.根据权利要求7所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述真空镀膜设备还包括:

...

【技术特征摘要】

1.一种真空镀膜设备,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备,其特征在于,

3.根据权利要求1所述的真空镀膜设备,其特征在于,

4.根据权利要求3所述的真空镀膜设备,其特征在于,

5.根据权利要求2所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述真空镀膜设备还包括:

6.根据权利要求5所述的真空镀膜设备,其特...

【专利技术属性】
技术研发人员:张健汪振南康远浩王秀东李永伟孙欣森
申请(专利权)人:安迈特科技北京有限公司
类型:新型
国别省市:

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