一种晶体硅太阳能电池的制备方法技术

技术编号:4246475 阅读:196 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种晶体硅太阳能电池的制备方法,包括制备晶体硅太阳能电池的必需工艺,还包括如下步骤:在电池的背面形成单层钝化层;利用喷墨印刷在上述背面单层钝化层上印刷腐蚀性浆料,然后烘干腐蚀钝化层,清洗去除浆料,形成局部接触的窗口;然后在其上利用丝网印刷形成背面接触。本发明专利技术得到了背面钝化局部接触的太阳电池结构,试验证明,该钝化结构可以有效地提高了太阳电池的长波响应以及背面反射,提高了太阳电池的转换效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于太阳能光电利用领域,具体涉及。
技术介绍
太阳能是人类取之不尽用之不竭的可再生能源,也是清洁能源,不产生任何的环 境污染。在太阳能的有效利用当中,大阳能光电利用是近些年来发展最快、最具活力的研究 领域,是其中最受瞩目的项目之一。为此,人们研制和开发了太阳能电池。制作太阳能电 池主要是以半导体材料为基础,其工作原理是利用光电材料吸收光能后发生光电子转换反 应;根据所用材料的不同,太阳能电池可分为1、硅太阳能电池2、以无机盐如砷化镓III-V 化合物、硫化镉、铜铟硒等多元化合物为材料的电池3、功能高分子材料制备的大阳能电池 4、纳米晶太阳能电池等。 目前,广泛应用于制造太阳能电池的主要材料是半导体硅材料,而且其制造工艺 也很成熟,一般的制造流程为表面清洗及结构化、扩散、清洗刻蚀去边、镀减反射膜、丝网 印刷、烧结形成欧姆接触、测试。这种商业化太阳能电池制造技术相对简单、成本较低,适合 工业化、自动化生产,因而得到了广泛应用。 按照上述工艺制造得到的太阳能电池,其正面沉积SiNx作为减反射、钝化膜,背 面直接丝网印刷铝浆,通过烧结形成背电场。 然而,由于电池背面没有钝化措施,本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种晶体硅太阳能电池的制备方法,包括制备晶体硅太阳能电池的必需工艺,其特征在于,还包括如下步骤:(1)在电池的背面形成单层钝化层;(2)利用喷墨印刷在上述背面单层钝化层上印刷腐蚀性浆料,然后烘干腐蚀钝化层,清洗去除浆料,形成局部接触的窗口;然后在其上利用丝网印刷形成背面接触;其中,所述腐蚀性浆料的成分为磷酸,腐蚀性浆料的湿重为每片0.1~0.5g。

【技术特征摘要】
一种晶体硅太阳能电池的制备方法,包括制备晶体硅太阳能电池的必需工艺,其特征在于,还包括如下步骤(1)在电池的背面形成单层钝化层;(2)利用喷墨印刷在上述背面单层钝化层上印刷腐蚀性浆料,然后烘干腐蚀钝化层,清洗去除浆料,形成局部接触的窗口;然后在其上利用丝网印刷形成背面接触;其中,所述腐蚀性浆料的成分为磷酸,腐蚀性浆料的湿...

【专利技术属性】
技术研发人员:王立建王栩生朱冉庆房海冬章灵军
申请(专利权)人:苏州阿特斯阳光电力科技有限公司常熟阿特斯阳光电力科技有限公司阿特斯光伏电力洛阳有限公司阿特斯光伏科技苏州有限公司阿特斯太阳能光电苏州有限公司阿特斯光伏电子常熟有限公司常熟阿特斯太阳能电力有限公司
类型:发明
国别省市:32[中国|江苏]

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