【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及微电子,尤其是涉及一种基于gst相变材料的可调谐结构色超表面及制备方法。
技术介绍
1、随着半导体制备工艺技术的发展和成熟,人们通过超表面来产生高饱和度、高分辨率、环境友好、稳定的结构色。利用等离子体纳米结构可以在纳米级产生结构色,然而一旦确定了结构的参数就无法改变颜色。
2、目前,虽然已经发现了几种方法来实现动态可调特性,例如机械拉伸、化学反应、电控制以及光子掺杂等方法,但是通过机械控制等离子体纳米结构中的间隙距离来实现动态调控缺乏耐用性,在一段时间的拉伸后颜色性能将显著减弱。同时,具有等离子体纳米结构的动态彩色显示器的实现依赖于复杂的多步制造工艺,导致制造成本非常高,从而极大地限制了大面积超表面的实现。
3、鉴于此,特提出本专利技术。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种基于gst相变材料的可调谐结构色超表面及制备方法,该结构色超表面在可见光波段具有非易失性、高分辨率、低功耗、动态可调等特点。
2、本专利技术提供一种基于gst
...【技术保护点】
1.一种基于GST相变材料的可调谐结构色超表面,其特征在于,包括自下而上依次层叠设置的硅片衬底、Pt薄膜、底层ITO薄膜、GST相变薄膜和顶层ITO薄膜。
2.根据权利要求1所述的基于GST相变材料的可调谐结构色超表面,其特征在于,Pt薄膜作为金属反射层,用于提高可调谐结构色超表面的反射率。
3.根据权利要求1所述的基于GST相变材料的可调谐结构色超表面,其特征在于,底层ITO薄膜的厚度为50-220nm。
4.根据权利要求1所述的基于GST相变材料的可调谐结构色超表面,其特征在于,通过改变GST相变薄膜的相态来改变可调谐结构色超表
...【技术特征摘要】
1.一种基于gst相变材料的可调谐结构色超表面,其特征在于,包括自下而上依次层叠设置的硅片衬底、pt薄膜、底层ito薄膜、gst相变薄膜和顶层ito薄膜。
2.根据权利要求1所述的基于gst相变材料的可调谐结构色超表面,其特征在于,pt薄膜作为金属反射层,用于提高可调谐结构色超表面的反射率。
3.根据权利要求1所述的基于gst相变材料的可调谐结构色超表面,其特征在于,底层ito薄膜的厚度为50-220nm。
4.根据权利要求1所述的基于gst相变材料的可调谐结构色超表面,其特征在于,通过改变gst相变薄膜的相态来改变可调谐结构色超表面的光学响应。
5.根据权利要求1所述的基于gst相变材料的可调谐结构色超表面,其特征在于,顶层ito薄膜作为保护层,用于防止gst被氧化...
【专利技术属性】
技术研发人员:史丽娜,李赫,薛惠文,段胜超,谢常青,
申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。