提供了一种光聚合引发剂。所述光聚合引发剂分子中含有至少一个不饱和双键和至少一个肟酯基团。所述光聚合引发剂包含一种由式１或２表示的化合物：其中Ｒ１和Ｒ２各自独立地为－ＣＨ３、－Ｃ２Ｈ５、－Ｃ３Ｈ７或－Ｃ６Ｈ５；其中Ｒ３、Ｒ４和Ｒ５各自独立地为－ＣＨ３、－Ｃ２Ｈ５、－Ｃ３Ｈ７或－Ｃ６Ｈ５。还提供了一种包含所述光聚合引发剂的光敏树脂组合物。在光刻术中使用所述光敏树脂组合物降低了显影后的烘烤过程中挥发性残余物的形成。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于光刻术的光敏树脂组合物引发剂，更具体地涉及一种分子中含有至少一个不饱和双键和至少一个肟酯基团的光聚合弓I发剂。
技术介绍
光刻术是制作液晶显示设备和半导体设备最广泛使用的方法。用于光刻术的光敏 组合物主要由一种因其对UV光的敏感性而易于生成自由基的光化反应引发剂、一种含有 两个或多个不饱和双键的可交联化合物、一种可通过碱性水溶液显影而形成薄膜的聚合粘 合剂、一种溶剂和一种或多种添加剂构成。通常的光刻术方法包括下列步骤冲洗玻璃或硅 基底；以溶液形式施用光敏材料；真空干燥和在曝光之前干燥以除去溶剂；通过在曝光系 统中的光掩模进行UV曝光从而形成图案；用基于碱性水溶液的溶液除去未曝光部分从而 形成薄膜；和显影后在高温下烘烤以改进薄膜的耐热性和耐用性。在这些步骤中，曝光步骤 也可通过直接激光扫描或使用微镜或微距镜的数字曝光代替使用光掩模来进行。 光刻术方法的每一个步骤之后的残余物会降低设备性能和加速设备老化，从而引起需要停止设备生产线进行周期性清洗的不便。特别地，当在显影后的烘烤步骤中在高达 18(TC的温度下加工薄膜时，各种挥发性物质会粘附在设备的内壁上。通常，液体形式的溶 剂易于随时间的推移不断蒸发，而不会留下残余物。以极少量使用的添加剂不太可能留下 残渣。然而，固体形式的光聚合引发剂与溶剂一起蒸发，并在设备内壁上再次固化，留下凝 胶或粉末形式的残余物。该固体残余物在随后的步骤中落到基底上，引起最终图案的缺陷。 近年来，已尝试增加光敏材料的敏感性以提高使用光刻术制作图案的生产率。提 高光敏树脂组合物中对UV光敏感的光聚合引发剂的含量被认为是最容易的方法。然而，来 自光聚合引发剂的不可避免的残余物使得图案的制作难于操作，这变成提高生产率的一个 障碍。 因此，需要一种在显影后的烘烤步骤中不易蒸发、几乎不留残余物的光聚合引发 剂。
技术实现思路
本专利技术的一个目标是提供一种在显影后的烘烤之后不留残余物的光聚合引发剂。 本专利技术的另一个目标是提供一种包含所述光聚合弓I发剂的光敏树脂组合物。 根据本专利技术的一个方面，提供了一种由式1或2表示的光聚合引发剂 <formula>formula see original document page 4</formula> 其中Rl和R2各自独立地为_CH3、 -C2H5、 -C3H7或_C6H5 ;(2)<formula>formula see original document page 5</formula>其中R3、 R4和R5各自独立地为_CH3、 _C2H5、 _C3H7或_C6H5。 根据本专利技术的另一个方面，提供了一种光敏树脂组合物，所述光敏树脂组合物包 含(A) —种碱溶性的树脂粘合剂，(B) —种含有两个或多个不饱和丙烯酸键的可交联化合 物，(C) 一种光聚合引发剂，和(D) —种溶剂，其中所述光聚合引发剂(C)包含一种由式l表 示的化合物或一种由式2表示的化合物或式1和2的两种化合物 (1)<formula>formula see original document page 5</formula> 其中Rl和R2各自独立地为_CH3、 -C2H5、 -C3H7或_C6H5 (2)<formula>formula see original document page 5</formula>其中R3、 R4和R5各自独立地为_CH3、 _C2H5、 _C3H7或_C6H5。 根据预期应用，本专利技术的光敏树脂组合物还可包含至少一种选自以下的添加剂着色剂、固化促进剂、表面活性剂、溶剂、增粘剂、以及其他添加剂。附图说明 从下面对实施方案的描述连同附图中，本专利技术的这些和/或其他方面和优点将变 得明显且更易于被认识，其中 图1是显示使用实施例l-4和比较实施例1-6的光敏树脂组合物形成的薄膜的浊 度值的图。具体实施例方式本专利技术提供了一种由式1或2表示的光聚合引发剂 <formula>formula see original document page 5</formula>(1) <formula>formula see original document page 6</formula>其中Rl和R2各自独立地为_CH3、 -C2H5、 -C3H7或_C6H5(2) 其中R3、 R4和R5各自独立地为_CH3、 _C2H5、 _C3H7或_C6H5。 本专利技术还提供了一种光敏树脂组合物，所述光敏树脂组合物包含(A) —种碱溶性 树脂粘合剂，(B) —种含有两个或多个不饱和丙烯酸键的可交联化合物，(C) 一种光聚合引 发剂，和(D) —种溶剂，其中所述光聚合引发剂(C)包含一种由式l表示的化合物或一种由 式2表示的化合物或式1和2的两种化合物 (1)<formula>formula see original document page 6</formula> <formula>formula see original document page 6</formula>其中Rl和R2各自独立地为_CH3、 -C2H5、 -C3H7或_C6H5(2) 其中R3、 R4和R5各自独立地为_CH3、 _C2H5、 _C3H7或_C6H5。 只要不损害本专利技术的效果，所述光聚合引发剂(C)可为式1或2的化合物与一种 或多种其他光聚合引发剂的混合物。即，所述光聚合引发剂(C)不必仅由式1或2的化合 物构成。 这样的另外的光聚合引发剂的实例包括三嗪化合物，如2，4-三氯甲基-(4'-甲氧 基苯基)-6-三嗪、2，4-三氯甲基-(4'-甲氧基苯乙烯基)-6-三嗪、2，4-三氯甲基-(胡 椒基)-6-三嗪、2，4-三氯甲基-(3'，4' -二甲氧基苯基)-6-三嗪、3-{4-[2，4-二 (三氯 甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}丙酸、2， 4-三氯甲基-(4'-乙基联苯基)-6-三嗪和2， 4_三氯甲基_ (4'-甲基联苯基)-6-三嗪；二咪唑化合物，如2， 2' - 二 (2-氯苯基)-4， 4'， 5，5'-四苯基二咪唑和2，2'-二 (2，3-二氯苯基)-4，4'，5，5'-四苯基二咪唑；苯乙酮化合 物，如2-羟基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、1- (4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙-1-酮、 4-(2-羟基乙氧基)-苯基(2-羟基)丙基酮、l-羟基环己基苯基酮、2，2-二甲氧基-2-苯 基苯乙酮、2-甲基-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-l-丙-l-酮(Irgacure-907)和2_苯甲 基-2-二甲基氨基-l-(4-吗啉基苯基)-丁-l-酮(Irgacure-369) ;O-酰基月亏化合物，如 Irgacure OXE 01和IrgacureOXE 02，二者均可从Ciba Geigy商购获得；二苯甲酮化合物， 如4，4'-二 (二甲基氨基)二苯甲酮和4，4'-二 (二乙基氨基)二苯甲酮；噻吨酮化合物， 如2，4-二乙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、异丙本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种由式１或２表示的光聚合引发剂： ＊＊＊ （１） 其中Ｒ１和Ｒ２各自独立地为－ＣＨ↓［３］、－Ｃ↓［２］Ｈ↓［５］、－Ｃ↓［３］Ｈ↓［７］或－Ｃ↓［６］Ｈ↓［５］； ＊＊＊ （２） 其中Ｒ３、Ｒ４和Ｒ５各自独立地为－ＣＨ↓［３］、－Ｃ↓［２］Ｈ↓［５］、－Ｃ↓［３］Ｈ↓［７］或－Ｃ↓［６］Ｈ↓［５］。
【技术特征摘要】
KR 2008-11-5 10-2008-0109200一种由式1或2表示的光聚合引发剂其中R1和R2各自独立地为-CH3、-C2H5、-C3H7或-C6H5；其中R3、R4和R5各自独立地为-CH3、-C2H5、-C3H7或-C6H5。F2009102094873C0000011.tif,F2009102094873C0000012.tif1.2. —种光聚合引发剂，其包含一种由式1表示的化合物或一种由式2表示的化合物或 式1和2的两种化合物<formula>formula see original document page 2</formula>(1)其中Rl和R2各自独立地为<formula>formula see original document page 2</formula>其中R3、 R4和R5各自独立地为_CH3、 _C2H5、 _C3H7或_C6H5。3. —种光敏树脂组合物，其包含(A) —种碱溶性树脂粘合剂，(B) —种含有两个 不饱和丙烯酸键的可交联化合物，(C) 一种光聚合引发剂，和(D) —种溶剂，其中所述光聚 合引发剂(C)包含一种由式1表示的化合物或一种由式2表示的化合物或式1和2的两种 化合物<formula>formula see original document page 2</formula>(1)其中Rl和R2各自独立地为_CH3、 -C2H5、 -C3H7或_C6H5 ;<formula>formula see original document page 2</formula>其中R3、 R4和R5各自独立地为_CH3、 _C2H5、 _C3H7或_C6H5。4.权利要求3的光敏树脂组合物，其中所述组合物包含1至20重量％的碱溶性树脂粘合剂(A) ， 1至30重量％的可交联化合物(...
【专利技术属性】
技术研发人员：李健雨，R卡巴施，赵昌镐，金星炫，郭尚圭，吴东宫，李昌淳，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。