一种半导体原子层沉积系统的气浮旋转机构技术方案

本技术涉及CVD设备技术领域，且公开了一种半导体原子层沉积系统的气浮旋转机构，包括底座，所述底座的顶部固定安装有功能箱，所述功能箱的左侧外表面活动安装有转杆，所述功能箱的顶部固定安装有连接柱，所述功能箱的右侧外表面活动安装有螺纹杆，所述功能箱的右侧外表面活动安装有限位杆。该气浮旋转机构，在使用时，通过转动螺纹杆可以带动活动框向左移动，通过设有限位杆从而可以实现对活动框进行限位，进而可以实现活动框带动从动齿轮向左移动，进而实现将从动齿轮的外表面与主动齿轮以及三号齿轮同步转动，从而可以实现带动活动杆同步转动，进而带动衬底载盘同步转动，当没电时，可以通过转动螺纹杆带动活动框向右移动。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种半导体原子层沉积系统的气浮旋转机构，具体为一种半导体原子层沉积系统的气浮旋转机构。

技术介绍

1、随着半导体技术的快速发展，原子层沉积(ald)技术因其能够实现极薄膜层和优异的膜层一致性而变得越来越重要。然而，为了在真空和高温环境下实现衬底的有效旋转，并确保沉积过程的稳定性和均匀性，需要对旋转机构进行精密和可靠的设计。

2、传统的旋转机构往往依赖于复杂的机械结构和电气系统来驱动和控制衬底的旋转，这不仅增加了系统的复杂性和成本，而且在高温和真空条件下的运行可靠性和稳定性有待提高。此外，传统旋转机构的调速能力有限，无法满足不同沉积过程对旋转速度的精确控制需求。

3、现有技术中，虽然有采用空气动力学设计来驱动旋转的方案，但大多数设计无法实现对旋转速度的精确控制，且在极端环境下的性能稳定性和可靠性仍有待提高。此外，现有技术往往难以兼顾系统的紧凑性和效率，尤其是在高温和真空条件下。

4、综上所述，现有技术存在以下主要问题：

5、在高温和真空环境下，传统的机械和电气驱动旋转机构的运行可靠性和稳定性有待提高；本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种半导体原子层沉积系统的气浮旋转机构，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的顶部固定安装有功能箱(2)，所述功能箱(2)的左侧外表面活动安装有转杆(3)，所述功能箱(2)的顶部固定安装有连接柱(4)，所述功能箱(2)的右侧外表面活动安装有螺纹杆(5)，所述功能箱(2)的右侧外表面活动安装有限位杆(6)，所述连接柱(4)的顶部活动安装有功能结构(7)；

2.根据权利要求1所述的一种半导体原子层沉积系统的气浮旋转机构，其特征在于：两个所述插接杆(721)均为C字形，两个所述插接杆(721)的外表面均设有齿牙，两个所述功能齿轮(718)的外表面分别与插接杆(721)的外...

【技术特征摘要】

1.一种半导体原子层沉积系统的气浮旋转机构，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的顶部固定安装有功能箱(2)，所述功能箱(2)的左侧外表面活动安装有转杆(3)，所述功能箱(2)的顶部固定安装有连接柱(4)，所述功能箱(2)的右侧外表面活动安装有螺纹杆(5)，所述功能箱(2)的右侧外表面活动安装有限位杆(6)，所述连接柱(4)的顶部活动安装有功能结构(7)；

2.根据权利要求1所述的一种半导体原子层沉积系统的气浮旋转机构，其特征在于：两个所述插接杆(721)均为c字形，两个所述插接杆(721)的外表面均设有齿牙，两个所述功能齿轮(718)的外表面分别与插接杆(721)的外表面相啮合。

3.根据权利要求1所述的一种半导体原子层沉积系统的气浮旋转机构，其特征在于：所述连接柱(4)的左右两侧外表面均开设有环形槽，两个所述插接杆(721)的外表面均与环形槽的内壁相适配。

4.根据权利要求1所述的一种半导体原子层沉积系统的气浮旋转机构，其特征在于：两个齿块(720)的外表面分别与功能齿轮(718)的外表面相啮合，两个所述齿块(720)的左侧外表面均固定安装有延...

【专利技术属性】
技术研发人员：张义颖，雍晓龙，何奇，
申请(专利权)人：苏州镓耀半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：