一种用于改善镀膜设备产品均匀性的装置制造方法及图纸

本技术提供一种用于改善镀膜设备产品均匀性的装置，包括PM腔，所述PM腔内插入式设有喷头，所述喷头由制程气体部、增压部、连接上盘和连接下盘组成，所述制程气体部和所述增压部一体化成型设置，所述制程气体部内部形成制程气体通道，所述增压部内部具有增压腔，所述制程气体通道和所述增压腔连通，所述连接上盘和所述连接下盘为可拆卸式安装。本技术具有如下的有益效果：本申请喷头设计为多个部分，部件损坏时也不需要更换整套花洒，进行处理产品出现镀膜不均匀问题后，可对分流挡板进行调整，以实现产品的镀膜均匀性可调功能，花洒变成分体的，当产品出现问题后，可以根据产品的变化进行调整或着更换花洒单个配件，实现产品品质稳定。

【技术实现步骤摘要】

本技术是一种用于改善镀膜设备产品均匀性的装置，属于产品镀膜领域。

技术介绍

1、离子体镀膜技术由于其具有成膜质量好等众多优势，被广泛应用于航空航天、汽车制造、机械重工以及五金工具制造等众多领域。近些年来，尤其智能触屏手机等各种电子设备的快速发展，等离子体镀膜技术也被逐渐应用于电子设备领域，并且产生良好的效果，现有的离子体镀膜装置中需要使用到花洒，利用花洒离子体喷涂在到产品表面，从而完成产品的镀膜工作。

2、然而现有镀膜装置中的花洒是一体化设计，产品出现镀膜不均匀问题后，无法进行调整，只能进行更换整套花洒进行处理，金额高，周期长，影响产能，受结构整体密封限制，导致产品的镀膜均匀性无法进行调整，因此，需提出分体化的花洒镀膜装置，以改善镀膜设备产品均匀性。

技术实现思路

1、针对现有技术存在的不足，本技术目的是提供一种用于改善镀膜设备产品均匀性的装置。

2、为了实现上述目的，本技术是通过如下的技术方案来实现：

3、一种用于改善镀膜设备产品均匀性的装置，包括pm腔，所述pm腔内插入本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于改善镀膜设备产品均匀性的装置，其特征在于：包括PM腔(1)，所述PM腔(1)内插入式设有喷头(2)，所述喷头(2)由制程气体部(3)、增压部(4)、连接上盘(5)和连接下盘(6)组成，所述制程气体部(3)和所述增压部(4)一体化成型设置，所述制程气体部(3)内部形成制程气体通道，所述增压部(4)内部具有增压腔，所述制程气体通道和所述增压腔连通，所述连接上盘(5)和所述连接下盘(6)为可拆卸式安装，且所述连接上盘(5)和所述连接下盘(6)之间形成解离腔(7)，所述连接下盘(6)底面均匀分布设有离子输出孔(8)，所述解离腔(7)内设有分流挡板(9)，所述分流挡板(9)上螺纹贯穿式...

【技术特征摘要】

1.一种用于改善镀膜设备产品均匀性的装置，其特征在于：包括pm腔(1)，所述pm腔(1)内插入式设有喷头(2)，所述喷头(2)由制程气体部(3)、增压部(4)、连接上盘(5)和连接下盘(6)组成，所述制程气体部(3)和所述增压部(4)一体化成型设置，所述制程气体部(3)内部形成制程气体通道，所述增压部(4)内部具有增压腔，所述制程气体通道和所述增压腔连通，所述连接上盘(5)和所述连接下盘(6)为可拆卸式安装，且所述连接上盘(5)和所述连接下盘(6)之间形成解离腔(7)，所述连接下盘(6)底面均匀分布设有离子输出孔(8)，所述解离腔(7)内设有分流挡板(9)，所述分流挡板(9)上螺纹贯穿式设有多个螺纹安装柱(10)，所述螺纹安装柱(10)顶部螺纹插入在所述连接上盘(5)的内底面，所述pm腔(1)连接输送组件。

2.根据权利要求1所述的一种用于改善镀膜设备产品均匀性的装置，其特征在于：所述增压部(4)外表面固定套设有一个安装盘(11)，所述安装盘(11)配合螺钉与所述连接上盘(5)固定连接，所述增压部(4)底部穿进所述解离腔(7)内。

3.根据权利要求2所述的一种用于改善镀膜设备产品均匀性的装置，其特征在于：所述连接上盘(5)的顶面边侧设置有多个螺钉安装槽(12)，所述螺钉安装槽(12)内旋入螺钉(13)，且所述螺钉(13)底部旋进所述连接...

【专利技术属性】
技术研发人员：林杜迫，林忠铭，王友良，
申请(专利权)人：厦门市祥禾日升科技有限公司，
类型：新型
国别省市：