一种PVD镀膜用Ag管靶材制备方法技术

本发明专利技术公开了一种PVD镀膜用Ag管靶材制备方法，涉及溅射镀膜领域，旨在解决喷涂后的靶材密度低，喷涂过程中Ag收集难度大等问题，方案为S1:将Ag纳米粉末、分散剂、粘接剂和溶剂混合均匀，然后进行球磨后得到浆料；S2:将所述浆料进行喷雾造粒，得到Ag粉体；S3:将所述Ag粉体进行烧结，得到Ag烧结粉体；S4:将背管进行表面粗化处理，然后采用火焰喷枪将所述Ag烧结粉体热喷涂于背管上，在真空环境下，将所述Ag烧结粉体热喷涂于背靶上，得到Ag靶。本发明专利技术的一种PVD镀膜用Ag管靶材制备方法工艺操作简单、可控、稳定性高、成本较低的优点，靶材纯度高、密度高、气体含量低,适合大批量生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及溅射镀膜领域，更具体地说，它涉及一种pvd镀膜用ag管靶材制备方法。

技术介绍

1、金属银具有电阻低、反射率高等优良性能，被大量用于生产电极或反射层的薄层，诸如太阳能电池、液晶显示器等领域。

2、在pvd镀膜时，使用的银管靶主要的制备方式为两种，一种是冷喷涂法，一种是熔铸绑定法。冷喷涂法制备缺点有无法收集ag粉、原料利用率低、制备的ag靶密度低等缺点；熔铸绑定法一般通过熔铸、锻造、挤压、退火、绑定等工序制备，工序复杂成本高昂。

技术实现思路

1、针对现有技术存在的不足，本专利技术的目的在于提供一种pvd镀膜用ag管靶材制备方法，通过热喷涂法制备，旨在解决喷涂后的靶材密度低，喷涂过程中ag收集难度大等问题，该方法具有工艺操作简单、可控、稳定性高、成本较低的优点,靶材纯度高、密度高、气体含量低,适合大批量生产的优点。

2、本专利技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种pvd镀膜用ag管靶材制备方法，包括以下步骤：

3、s1:将ag纳米粉末、分散剂、粘接本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种PVD镀膜用Ag管靶材制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种PVD镀膜用Ag管靶材制备方法，其特征在于：在S1步骤中，所述Ag粉末、所述分散剂、所述粘接剂与所述溶剂的质量比为90～99：0.1～1：0.5～2：60～70。

3.根据权利要求1所述的一种PVD镀膜用Ag管靶材制备方法，其特征在于：在S1步骤中，所述分散剂为聚丙烯酰胺、聚羧酸铵盐、聚乙烯羧酸类、含羧酸基聚合物改性物或聚乙二醇。

4.根据权利要求1所述的一种PVD镀膜用Ag管靶材制备方法，其特征在于：在S1步骤中，所述溶剂为酒精或者IPA，所述粘接剂为丙烯...

【技术特征摘要】

1.一种pvd镀膜用ag管靶材制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种pvd镀膜用ag管靶材制备方法，其特征在于：在s1步骤中，所述ag粉末、所述分散剂、所述粘接剂与所述溶剂的质量比为90～99：0.1～1：0.5～2：60～70。

3.根据权利要求1所述的一种pvd镀膜用ag管靶材制备方法，其特征在于：在s1步骤中，所述分散剂为聚丙烯酰胺、聚羧酸铵盐、聚乙烯羧酸类、含羧酸基聚合物改性物或聚乙二醇。

4.根据权利要求1所述的一种pvd镀膜用ag管靶材制备方法，其特征在于：在s1步骤中，所述溶剂为酒精或者ipa，所述粘接剂为丙烯酸乳液、聚乙烯醇缩丁醛酯或羧甲基纤维素。

5.根据权利要求1所述的一种pvd镀膜用ag管靶材制备方法，其特征在于：在s3步骤中，所述烧结环境为真空，真空度在10-3～10-4pa。

6.根据权利要求1所述的一种pvd镀膜用ag管靶材制备方法，其特征在于：在s...

【专利技术属性】
技术研发人员：张玉玲，刘定星，朱伟，陈荣华，
申请(专利权)人：基迈克材料科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：