一种基于BINNING模式的掩膜版缺陷检测的方法技术

本发明专利技术公开了一种基于BINNING模式的掩膜版缺陷检测的方法，方法的步骤中包括：在掩膜版设计图上选择检测区域和对准设置用的Mark点；将掩膜版置于运动平台上，基于Mark点建立运动平台坐标和掩膜版设计图的坐标的映射关系以对运动平台进行对准设置；对相机模块进行BINNING模式设置；根据设置的BINNING模式对掩膜版设计图进行渲染；根据设置的BINNING模式对运动平台触发进行设置；缺陷检测：采用设置后的运动平台和相机模块对检测区域进行扫描以采集待检测的图片并和渲染后的掩膜版设计图上的对应图片进行比较以缺陷检测；确定缺陷在运动平台上的坐标。该方法采用BINNING方式进行掩膜版检测，缩短了掩膜版缺陷检测的总体时间，提高了检测效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种基于binning模式的掩膜版缺陷检测的方法，属于半导体缺陷检测/光刻。

技术介绍

1、目前，半导体光刻/缺陷检测过程中，需要使用高倍镜头检测精细的缺陷，检测过程非常耗时，采用50x镜头检测6寸掩膜版需要1个小时以上，譬如公开号为cn113533351a的中国专利披露了一种面板缺陷检测装置及检测方法，其中就披露了对掩膜版缺陷进行检测的方法，该专利并没有采用binning模式，检测过程耗时长。

技术实现思路

1、本专利技术所要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种基于binning模式的掩膜版缺陷检测的方法，该方法采用binning方式进行掩膜版检测，缩短了掩膜版缺陷检测的总体时间，提高了检测效率。

2、为了解决上述技术问题，本专利技术的技术方案是：一种基于binning模式的掩膜版缺陷检测的方法，基于一含有相机模块和运动平台的掩膜版缺陷检测系统实现，方法的步骤中包括：

3、在掩膜版设计图上选择检测区域和对准设置用的mark点；

4、将掩膜版置于运动平本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于BINNING模式的掩膜版缺陷检测的方法，基于一含有相机模块和运动平台的掩膜版缺陷检测系统实现，其特征在于方法的步骤中包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，

6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，BINNING模式为2x2模式或4x4模式。

【技术特征摘要】

1.一种基于binning模式的掩膜版缺陷检测的方法，基于一含有相机模块和运动平台的掩膜版缺陷检测系统实现，其特征在于方法的步骤中包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘庄，刘建明，张彦鹏，
申请(专利权)人：江苏维普光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：