【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于锑化镓单晶生长,具体涉及一种液封直拉生长大直径锑化镓单晶的方法。
技术介绍
1、锑化镓(gasb)单晶是一种ⅲ-ⅴ族化合物半导体材料,其在室温下的禁带宽度约为0.72ev,在0.8um-4um波长范围内具有光谱响应和光电转换能力,是实现近红外光纤通信和中、远波红外探测的理想衬底材料,使其在半导体激光器、发光二极管、红外探测器以及太阳能电池等领域得到了广泛应用。锑化镓熔点约712℃,可用熔体法进行单晶生长。目前,生长gasb晶体常用的方法有液封直拉法(lec)和垂直布里奇曼法(vb)或垂直梯度凝固法(vgf),它们都是通过加热高纯锑金属和高纯镓金属反应生长锑化镓单晶。由于镓的熔点只有29℃,在室温下就容易被氧化形成ga2o3残渣,锑则在高温下极易挥发,易导致合成的锑化镓原料偏离化学计量比,这两种反应的发生都易对后续的锑化镓单晶生长带来不利影响,极易变晶导致出现多晶、孪晶等问题,使单晶生长变得更加困难。其中垂直布里奇曼法(vb)或垂直梯度凝固法(vgf)虽然具有温度梯度小的优点,但无法做到对晶体生长过程的实时监控,且普遍存在晶
...【技术保护点】
1.一种液封直拉生长大直径锑化镓单晶的方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的一种液封直拉生长大直径锑化镓单晶的方法,其特征在于,所述步骤1中,NaCl和KCl的重量比例为mNaCl:mKCl=0.84,在真空条件下加热至600℃,然后充入氩气并保持一个大气压,继续加热至850℃,保持恒温1-3h;待NaCl+KCl混合物完全熔化并充分混合后,降温至650℃,开启真空泵保持抽真空状态5h,以最大限度去除NaCl+KCl混合物中的结晶水,向炉体内充入保护性气体为氮气或氩气。
3.根据权利要求1所述的一种液封直拉生长大直径锑化镓单
...【技术特征摘要】
1.一种液封直拉生长大直径锑化镓单晶的方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的一种液封直拉生长大直径锑化镓单晶的方法,其特征在于,所述步骤1中,nacl和kcl的重量比例为mnacl:mkcl=0.84,在真空条件下加热至600℃,然后充入氩气并保持一个大气压,继续加热至850℃,保持恒温1-3h;待nacl+kcl混合物完全熔化并充分混合后,降温至650℃,开启真空泵保持抽真空状态5h,以最大限度去除nacl+kcl混合物中的结晶水,向炉体内充入保护性气体为氮气或氩气。
3.根据权利要求1所述的一种液封直拉生长大直径锑化镓单晶的方法,其特征在于,所述步骤2中,把多晶料用稀王水浸泡8min。
4.根据权利要求1所述的一种液封直拉生长大直径锑化镓单晶的方法,其特征在于,所述步骤5中,充气完毕,开始加热;先经过5h,加热到750℃。
5.根据权利要求1所述的一种液封直拉生长大直径锑化镓单晶...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄四江,王美春,王茺,普世坤,尹归,杨海平,殷云川,刘得伟,王顺金,林作亮,
申请(专利权)人:云南中科鑫圆晶体材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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