电弧放电方法及装置、石英玻璃坩埚制造方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及电弧放电方法及装置、石英玻璃坩埚制造方法及装置，提供在３００ｋＶＡ～１２０００ｋＶＡ的输出范围通过多根碳素电极利用电弧放电对非导电性对象物进行加热熔融的方法，其中，作为电弧放电开始时使上述碳素电极彼此接触的接触位置与前端的距离相对于上述碳素电极直径的比率，设定成０．００１～０．９的范围。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电弧放电(arcdischarge)方法、电弧放电装置、石英玻 璃坩埚制造装置和石英玻璃增埚制造方法，特别涉及在利用电弧放电 将石英粉加热熔融进行玻璃化时用于防止电弧放电时的电极振动的优 选的技术。本申请对于在2008年9月22日提出申请的日本专利申请第2008 -242874号申请主张优先权，并在此援引其内容。
技术介绍
在单晶硅的拉晶中使用的石英玻璃坩埚主要通过电弧熔融法来制 造。该方法大体上是，在碳制模的内表面堆积一定厚度的石英粉，在 该石英堆积层的上方设置碳素电极，利用该电弧放电对石英堆积层加 热，进行玻璃化，来制造石英玻璃坩埚。在曰本专利第03647688号公报中记载了关于利用电弧熔融制造石 英玻璃坩埚中的电弧熔融的技术，在日本特开2002-68841号公报中记 载了关于电弧放电中的电极的技术。此外，根据近年来器件工序的效率化等的需求，制造的晶片口径 变得大到超过300mm的程度，伴随于此，要求一种能够对大口径的单 晶进行拉晶的石英玻璃坩埚。此外，根据器件的微细化等的需求，在 对拉晶的单晶的特性给予直接影响的石英玻璃坩埚内表面状态等的坩 埚特性的提高方面，也本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电弧放电方法，其中，包括：在３００ｋＶＡ～１２０００ｋＶＡ的输出范围，通过多根碳素电极利用电弧放电对非导电性对象物进行加热熔融的工序；以及作为电弧放电开始时使上述碳素电极彼此接触的接触位置与前端的距离相对于上述碳素电极直径的比率，设定成０．００１～０．９的范围的工序。

【技术特征摘要】
JP 2008-9-22 2008-2428741.一种电弧放电方法，其中，包括在300kVA～12000kVA的输出范围，通过多根碳素电极利用电弧放电对非导电性对象物进行加热熔融的工序；以及作为电弧放电开始时使上述碳素电极彼此接触的接触位置与前端的距离相对于上述碳素电极直径的比率，设定成0.001～0.9的范围的工序。2. 根据权利要求1所述的电弧放电方法，其中，将上述碳素电极 中的电力密度设定为40kVA/cm2 ~ 1700kVA/cm2。3. —种电弧放电装置，在300kVA~ 12000kVA的输出范围，通过 多根碳素电极利用电弧放电对非导电性对象物进行加热熔融，其中， 包括碳素电极，其配置成使得作为使上述碳素电极彼此接触的接触位 置与上述碳素电极前端的距离相对于上述碳素电极直径的比率，成为 0-0.9的范围。4. 根据权利要求3所述的电弧放电装置，其中，上述碳素电极中 的电力密度设定为40kVA/cm2 ~ 1700kVA/cm2。5. 根据权利要求3所述的电弧放电装置，其中，对于上述碳素电 极，在前端设有包含上述接触位置的...

【专利技术属性】
技术研发人员：岸弘史，福井正德，森川正树，
申请(专利权)人：日本超精石英株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]