【技术实现步骤摘要】
本技术涉及多晶硅还原炉底盘清理，具体涉及一种多晶硅还原炉底盘清扫装置。
技术介绍
1、多晶硅还原炉是多晶硅生产中产出最终产品的核心设备，也是决定系统产能、能耗的关键环节。多晶硅还原炉主要由炉筒和底盘两大部分组成，目前底盘清理大多采用人工使用化学试剂及水进行擦拭，因化学试剂具有良好的化学反应以及溶解性，从而能够很好的清除还原炉底盘灰尘。然而，人工在使用化学试剂清理底盘时，不仅需要一定的时间和人力，且底盘残存的水分还会对还原炉的正常启动和运行造成一定的影响。因此，实现对底盘无水清理的同时保证还原炉置换快速合格的方法十分必要。
2、公开号为cn217043633u的技术专利公开了一种多晶硅还原炉底盘自动清理系统装置，该装置中，包括可覆盖连接在多晶硅还原炉底盘的罩体，所述罩体的顶部设有一伸入罩体内的可旋转的主轴，所述主轴连接有吸附装置和若干清扫装置，所述若干清扫装置在主轴带动下旋转对底盘进行清扫使底盘上的积垢变成粉状扬尘，所述吸附装置可吸附清扫出来的粉状扬尘，所述主轴内设有多条与吸附装置和清扫装置对应连接的通道。本技术能够取代目前人工清理的作业，解决还原炉底盘清理过程中存在的效率低、清理效果差、二次污染等问题，实现自动化高效清理的效果。
3、在上述现有技术中，虽然清扫装置能够在罩体内旋转，实现往复清洁的效果，但是由于引入了电机作为旋转的动力部件，不仅导致结构复杂，维修保养成本较高，整体重量大等问题，同时还需要考虑电动设备的防爆问题。
技术实现思路
1、针对上述现有技
2、为了实现上述专利技术目的，本技术的技术方案如下：
3、一种多晶硅还原炉底盘清扫装置，包括可覆盖连接在多晶硅还原炉底盘上的罩体以及设置在罩体内的吹扫组件，所述吹扫组件包括进气总管以及与进气总管连通的若干吹扫管，进气总管与罩体上的进气孔转动连接并且与进气孔连通，所述吹扫管分布设置在进气总管的下方，吹扫管的下方沿吹扫管长度方向设置有吹扫头，所述吹扫管的末端设置有弯管，弯管的出气口水平设置，并且弯管的出气口均朝向顺时针方向或者均朝向逆时针方向。
4、作为优选地，在本技术中，所述吹扫管均匀分布设置在进气总管的下方。
5、作为优选地，在本技术中，所述弯管为45度弯管。
6、作为优选地，在本技术中，所述吹扫头包括两根吹扫出气支管，两根吹扫出气支管构成呈门字形的吹扫头。
7、作为优选地，在本技术中，所述吹扫出气支管的出口气朝向门字形吹扫头的内侧倾斜，形成上宽下窄的门字形吹扫头。
8、作为优选地，在本技术中，所述罩体上还设置有抽气孔，抽气孔与真空泵连接。
9、本技术的有益效果：
10、1、本技术能够取代目前人工清扫多晶硅还原炉底盘，解决人工清理还原炉底盘清理过程中存在的效率低、清理效果差、二次污染等问题，实现自动化高效清理的效果；并且，本技术装置充分利用通入装置中的吹扫气体自身所携带的压力，依靠反作用力作用在吹扫组件上，实现吹扫组件的旋转清洁效果，装置结构简单，维护成本低，并且整个装置的重量也较轻，方便安装使用。
11、2、本技术中，吹扫头呈门字形构造，装置在旋转吹扫过程中，吹扫头从加热电极的两侧同时对加热电极与底盘之间的缝隙进行吹扫，相较于单侧吹扫，清洁效果更好。
12、3、本技术清扫装置易于改造，适用于所有圆形底盘还原炉，不仅限于单一炉型。
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1.一种多晶硅还原炉底盘清扫装置，包括可覆盖连接在多晶硅还原炉底盘上的罩体（1）以及设置在罩体（1）内的吹扫组件（2），所述吹扫组件（2）包括进气总管（3）以及与进气总管（3）连通的若干吹扫管（4），进气总管（3）与罩体（1）上的进气孔（5）转动连接并且与进气孔（5）连通，所述吹扫管（4）分布设置在进气总管（3）的下方，吹扫管（4）的下方沿吹扫管（4）长度方向设置有吹扫头（6），其特征在于，所述吹扫管（4）的末端设置有弯管（7），弯管（7）的出气口水平设置，并且弯管（7）的出气口均朝向顺时针方向或者均朝向逆时针方向。
2.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉底盘清扫装置，其特征在于，所述吹扫管（4）均匀分布设置在进气总管（3）的下方。
3.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉底盘清扫装置，其特征在于，所述弯管（7）为45度弯管。
4.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉底盘清扫装置，其特征在于，所述吹扫头（6）包括两根吹扫出气支管（8），两根吹扫出气支管（8）构成呈门字形的吹扫头（6）。
5.根据权利要求4所述的一种多晶硅还原炉底盘
6.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉底盘清扫装置，其特征在于，所述罩体（1）上还设置有抽气孔（9），抽气孔（9）与真空泵连接。
...【技术特征摘要】
1.一种多晶硅还原炉底盘清扫装置，包括可覆盖连接在多晶硅还原炉底盘上的罩体（1）以及设置在罩体（1）内的吹扫组件（2），所述吹扫组件（2）包括进气总管（3）以及与进气总管（3）连通的若干吹扫管（4），进气总管（3）与罩体（1）上的进气孔（5）转动连接并且与进气孔（5）连通，所述吹扫管（4）分布设置在进气总管（3）的下方，吹扫管（4）的下方沿吹扫管（4）长度方向设置有吹扫头（6），其特征在于，所述吹扫管（4）的末端设置有弯管（7），弯管（7）的出气口水平设置，并且弯管（7）的出气口均朝向顺时针方向或者均朝向逆时针方向。
2.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉底盘清扫装置，其特征在于，所述吹扫管（4）均匀分...
【专利技术属性】
技术研发人员：谈子义，刘斌，冯成，朱永跃，伍峰锴，金文彬，方文凤，谢杰，张聪，
申请(专利权)人：四川永祥新能源有限公司，
类型：新型
国别省市：
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