新型采光瓦制备装置制造方法及图纸

技术编号:4133731 阅读:274 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种新型采光瓦制备装置,包括机床(1)、进料控制装置(2)、上导轮(31)、下导轮(32)、上薄膜(41)和下薄膜(42),还包括在机床(1)纵向上两组左右对称的限料装置,限料装置包括基架(5)、支架(6)和限料挡板;可以防止液体化学原料在压制时向两侧外泄,从而保证压制的采光瓦具有一定宽度而不用再次切割,同时,限料装置在支架的支撑下,悬空于上薄膜和下薄膜之间,不影响薄膜的向前推进,同时外挡板和伸入板外壁光滑,不会损坏薄膜,可以通过调节支架伸出的长短以满足不同宽度的采光瓦制备时限料的需要,本实用新型专利技术结构新颖,制造简单,使用方便,同时节约环保。(*该技术在2019年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种机械设备,尤其涉及一种新型采光瓦制备装置
技术介绍
在采光瓦的制备领域,现有的制备设备一般结构包括机床、进料控制装置、上薄 膜、下薄膜和与上薄膜、下薄膜分别对应的上导轮和下导轮,使用时, 一般是,在下薄膜起始 端加入液态的化学配料,根据需要制备的采光瓦的质量要求,采用进料控制装置控制化学 配料的量,经进料控制装置输出的化学原料,在机床的传送作用下,进入下一个环节,即与 玻纤进行混合反应5-15分钟,然后经过上导轮和下导轮的压制,以控制需要的采光瓦的厚 薄,同时上薄膜压制于加工瓦的上表面,经过压制的半成品进入下一个环节,由于采光瓦一 般需要固定的宽度,但是,经过上导轮和下导轮压制后的半成品常常宽于需要的宽度,需要 再次切割才能形成成品。这样,一方面工序更多,生产效率低,另一方面,由于化学原料与玻 纤的组合物在15分钟左右即冷却成型,不能再次利用,即切割下来的废料不能再次使用, 浪费了材料,使生产成本增大,同时化学废料对环境污染严重,不利于环保。
技术实现思路
本技术的目的就在于提供一种解决上述问题的可控制采光瓦宽度减少原料 浪费的新型采光瓦制备装置。 为了实现上述目的,本技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
新型采光瓦制备装置,包括机床(1)、进料控制装置(2)、上导轮(31)、下导轮(32)、上薄膜(41)和下薄膜(42),其特征在于:还包括在机床(1)纵向上两组左右对称的限料装置,所述限料装置位于机床(1)纵向的两侧、进料控制装置(2)和下导轮(32)之间且靠近下导轮(32)的位置,所述限料装置包括基架(5)、支架(6)和限料挡板,所述支架(6)一端与限料挡板固定连接,另一端与基架(5)可伸缩连接,所述限料挡板由外挡板(71)和伸入板(72)组成,所述外挡板(71)的一边沿机床(1)的水平方向长度为5-10cm,高度为1-2cm,另一边沿上薄膜(41)的方向长度为1.5-3cm,且所述外挡板(...

【技术特征摘要】
新型采光瓦制备装置,包括机床(1)、进料控制装置(2)、上导轮(31)、下导轮(32)、上薄膜(41)和下薄膜(42),其特征在于还包括在机床(1)纵向上两组左右对称的限料装置,所述限料装置位于机床(1)纵向的两侧、进料控制装置(2)和下导轮(32)之间且靠近下导轮(32)的位置,所述限料装置包括基架(5)、支架(6)和限料挡板,所述支架(6)一端与限料挡板固定连接,另一端与基架(5)可伸缩连接,所述限料挡板由外挡板(71)和伸入板(...

【专利技术属性】
技术研发人员:梁鹏
申请(专利权)人:四川麦克威科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:90[中国|成都]

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