【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学元件清洗，具体涉及一种深紫外光学元件超声波清洗装置。
技术介绍
1、深紫外光学元件包含大口径熔石英透镜、大口径氟化钙透镜、凹凸锥镜、微透镜阵列等光学元件，在光学冷加工、镀膜和系统集成过程中容易引入各种污染物(如抛光粉、指纹、灰尘等)。常规的清洁方案主要有手工擦拭和超声波清洗两种方法。
2、手工擦拭容易残留有机溶剂(乙醇、乙醚、异丙醇等)，而有机溶剂在深紫外波段有明显的吸收，导致光学元件透射率降低；且部分异形元件不宜进行手工擦拭(如微透镜阵列光学元件)，容易引起表面损伤，同时对操作人员的熟练程度依赖较高。例如专利cn205110300u《大口径镜片的擦拭转台》，虽然可以提高常规落尘的擦拭效率，但对顽固的水印、酒精印以及化学吸附的抛光液水解物清除效率仍然不高。
3、传统超声波清洗往往会造成表面质量的劣化(划痕或麻点等)，容易造成表面质量的降级甚至返工。这主要是由于超声波清洗时的空化效应产生的微射流，在去除表面污染物的同时，在一定概率上会损伤光学元件表面，且随着清洗频次的增加，这种损伤程度也会增加(划痕和麻点数量增多)。例如专利cn106932844《熔石英微凹柱透镜阵列的制备方法》中介绍了一种用于熔石英微凹柱透镜阵列的超声波清洗方法，但该方法对于填充因子更大的微凸透镜阵列的清洗并不适用，另外该专利中直接其直接通氨气或者氮气的方法容易产生大气泡，大气泡会减弱超声波清洗效率。
4、深紫外光学元件具有加工成本高，加工周期长的特点，一旦在清洗过程中产生损伤将增加返工成本，延长加工周期。而
技术实现思路
1、为解决深紫外光学元件清洗的技术问题，本申请提供一种深紫外光学元件超声波清洗装置，通过对不同的清洗槽配置清洗液、配置清洗方式、配置超声波振板，对深紫外光学元件进行彻底清洗，减少深紫外光学元件表面损伤。
2、本专利技术提供的技术方案如下：
3、本专利技术提供一种深紫外光学元件超声波清洗装置，包括：
4、纯水供给设备、第一循环箱、第二循环箱、及供深紫外光学元件依序清洗、烘干的第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽、第四清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽、第七清洗槽、第八清洗槽和烘干槽；
5、所述纯水供给设备分别与第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽、第四清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽、第七清洗槽和第八清洗槽连通；
6、所述第一清洗槽和第三清洗槽内的清洗液分别含有用于清洗深紫外光学元件的药剂；
7、所述第一循环箱与第一清洗槽连通，用于第一清洗槽内的清洗液供自身循环使用；
8、所述第二循环箱与第三清洗槽连通，用于第三清洗槽内的清洗液供自身循环使用；
9、所述第二清洗槽通过漂洗方式对深紫外光学元件进行清洗；
10、所述第四清洗槽通过喷淋方式对深紫外光学元件进行清洗；
11、所述第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽分别配置有超声波振板；
12、所述第八清洗槽通过慢提拉脱水方式对深紫外光学元件进行清洗；
13、所述烘干槽内设置有加热组件，以对深紫外光学元件进行烘干处理。
14、进一步优选地，所述第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽分别均设置有两种不同频率的超声波振板，以通过两种不同频率、不同传播方向的超声波共同作用使清洗槽内的声场均匀分布。
15、进一步优选地，所述第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽的底部分别设置有第一频率超声波振板，所述第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽的侧壁分别对称设置有第二频率超声波振板，且各清洗槽中，第一频率超声波振板的频率大于第二频率超声波振板的频率。
16、进一步优选地，所述第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽中，所述第一频率超声波振板倾斜设置，所述倾斜设置防止所述第一频率超声波振板发射的超声波在水平面反射后沿原路返回。
17、进一步优选地，所述第一频率超声波振板相对于清洗槽的水平面倾斜5°-7°设置。
18、进一步优选地，所述第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽分别配置有气体补充装置，所述气体补充装置用于向清洗槽中补充微纳米气泡。
19、进一步优选地，还包括用于夹持深紫外光学元件的清洗篮，所述清洗篮将深紫外光学元件依次放置于第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽、第四清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽、第七清洗槽和第八清洗槽中进行清洗，且所述清洗篮在所述第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽对深紫外光学元件进行超声波清洗的过程中按照预设摆动角度、预设摆动频率和预设摆动时长左右摆动。
20、进一步优选地，所述清洗篮左右摆动的预设摆动角度为±10°。
21、进一步优选地，所述第一清洗槽中清洗液的ph值大于所述第三清洗槽中清洗液的ph值。
22、通过本专利技术提供的深紫外光学元件超声波清洗装置，至少具有以下任一效果：
23、1)将第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽分别配置两种不同频率的超声波振板，通过两种不同频率、不同传播方向的超声波共同作用更容易使清洗槽内的声场均匀分布，减少超声驻波和空化效应导致的深紫外光学元件表面损伤；同时可以弥补大口径深紫外光学元件清洗不彻底的问题；
24、2)向第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽内补充微纳米气泡，该微纳米气泡在低频超声波声场中可有效降低空化效应导致的深紫外光学元件表面损伤，而在高频超声波声场中可以提高颗粒物去除效率；
25、3)清洗篮在第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽对深紫外光学元件进行超声波清洗的过程中按照预设摆动角度、预设摆动频率和预设摆动时长左右摆动，清洗篮左右摆动过程中深紫外光学元件表面的溶液做离心运动，有利于将脱离的颗粒物带走，同时深紫外光学元件的左右摆动将使上部超声波的反射方向不再固定不变，也有利于减少驻波，提高声场均匀性。
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1.一种深紫外光学元件超声波清洗装置，其特征在于，包括：纯水供给设备、第一循环箱、第二循环箱、及供深紫外光学元件依序清洗、烘干的第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽、第四清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽、第七清洗槽、第八清洗槽和烘干槽；
2.如权利要求1所述的深紫外光学元件超声波清洗装置，其特征在于，所述第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽分别均设置有两种不同频率的超声波振板，以通过两种不同频率、不同传播方向的超声波共同作用使清洗槽内的声场均匀分布。
3.如权利要求2所述的深紫外光学元件超声波清洗装置，其特征在于，所述第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽的底部分别设置有第一频率超声波振板，所述第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽的侧壁分别对称设置有第二频率超声波振板，且各清洗槽中，第一频率超声波振板的频率大于第二频率超声波振板的频率。
4.如权利要求3所述的深紫外光学元件超声波清洗装置，其特征在于，所述第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽中，所述第一频率超声波振
5.如权利要求4所述的深紫外光学元件超声波清洗装置，其特征在于，所述第一频率超声波振板相对于清洗槽的水平面倾斜5°-7°设置。
6.如权利要求1所述的深紫外光学元件超声波清洗装置，其特征在于，所述第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽分别配置有气体补充装置，所述气体补充装置用于向清洗槽中补充微纳米气泡。
7.如权利要求1所述的深紫外光学元件超声波清洗装置，其特征在于，还包括用于夹持深紫外光学元件的清洗篮，所述清洗篮将深紫外光学元件依次放置于第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽、第四清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽、第七清洗槽和第八清洗槽中进行清洗，且所述清洗篮在所述第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽对深紫外光学元件进行超声波清洗的过程中按照预设摆动角度、预设摆动频率和预设摆动时长左右摆动。
8.如权利要求7所述的深紫外光学元件超声波清洗装置，其特征在于，所述清洗篮左右摆动的预设摆动角度为±10°。
9.如权利要求1所述的深紫外光学元件超声波清洗装置，其特征在于，所述第一清洗槽中清洗液的PH值大于所述第三清洗槽中清洗液的PH值。
...【技术特征摘要】
1.一种深紫外光学元件超声波清洗装置，其特征在于，包括：纯水供给设备、第一循环箱、第二循环箱、及供深紫外光学元件依序清洗、烘干的第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽、第四清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽、第七清洗槽、第八清洗槽和烘干槽；
2.如权利要求1所述的深紫外光学元件超声波清洗装置，其特征在于，所述第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽分别均设置有两种不同频率的超声波振板，以通过两种不同频率、不同传播方向的超声波共同作用使清洗槽内的声场均匀分布。
3.如权利要求2所述的深紫外光学元件超声波清洗装置，其特征在于，所述第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽的底部分别设置有第一频率超声波振板，所述第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽的侧壁分别对称设置有第二频率超声波振板，且各清洗槽中，第一频率超声波振板的频率大于第二频率超声波振板的频率。
4.如权利要求3所述的深紫外光学元件超声波清洗装置，其特征在于，所述第一清洗槽、第三清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽中，所述第一频率超声波振板倾斜设置，所述倾斜设置防止所述第一频率超声波振板发射的超声波在水平...
【专利技术属性】
技术研发人员：何虎，沈宇荣，孔穿石，汪美辰，沈健伟，
申请(专利权)人：上海镭望光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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