【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及真空检漏，具体涉及一种氦质谱检漏仪以及喷氦检漏方法。
技术介绍
1、在真空环境中工作的真空器件，其对环境的真空度都有不同的要求。除了各类真空泵的性能外，器件与器件间的密封度也是影响环境真空度高低的重要因素。由于自然界中无法获取到“绝对真空”，也即器件与器件安装后总会存在一定数量的漏孔。因此，在真空器件工作前，必须对其所处的真空工作环境进行检漏处理，以满足真空器件正常工作时所需的真空度及其最小允许漏率。
2、由于氦气具有分子体积小，质量轻，易穿过微小漏孔，化学性质稳定，安全无毒等优越特性，所以用于真空环境的检漏处理的仪器，多以氦气作为检测气体。再者，由于质谱仪对纯物质进行定性定量时，其特异性与准确性较强，可实时判定物质的种类及其含量，所以使质谱仪与所需检测的真空环境级联，即可检出由真空环境的漏孔流入的氦气含量。通过相关数学运算，即可获知当前真空环境在对应漏孔处的漏率。由此，氦质谱检漏仪成为了检测真空环境的仪器。
3、现有的氦质谱检漏仪多是分离式结构，即含有质谱仪的检测系统与氦气喷涂器分开安装，使得各待测器件在检测时，各处漏孔喷涂的氦气量无法统一，进而导致检测结果的准确性无法保证。具体地，氦质谱检漏仪通过氦气所对应的质荷比下的离子丰度，计算获知当前各漏孔处的漏率，而各漏孔所处的环境，以及所喷涂的氦气量都将不同程度地影响氦气进入质谱仪的量，如果外界条件发生改变，会导致检漏标准无法统一，进而使得获取到的离子丰度有所差异，使得各漏孔检出的漏率较为不准。
技术实现思路
1、因此，本专利技术提供一种氦质谱检漏仪以及检漏方法，以解决现有技术中检出漏孔漏率不准的问题。
2、具体地，本专利技术提供一种氦质谱检漏仪，包括：
3、质谱系统；
4、喷氦组件，至少包括罩体，所述罩体用于罩设待测器件的待检漏孔；
5、抽真空组件，至少包括机械泵，所述机械泵具有抽样口，所述抽样口通过多个管道分别与质谱系统的第一出口、罩体的第二出口以及待测器件的第三出口连通；
6、控制终端，所述控制终端与机械泵通讯连接，所述控制终端用于将抽样信号传递至机械泵以使机械泵处于工作状态。
7、可选地，上述的氦质谱检漏仪，所述喷氦组件还包括：
8、储氦件，所述储氦件的出氦口通过第一管道与罩体的第二出口连通、用于向罩体提供氦气；
9、减压阀，所述减压阀安装于第一管道、并且所述减压阀位于所述罩体和所述储氦件之间，所述减压阀与控制终端通讯连接；
10、流量计，所述流量计安装于第一管道、并且所述流量计位于所述减压阀远离储氦件的一侧，所述流量计与控制终端通讯连接；
11、通气电磁阀，所述通气电磁阀安装于第一管道、并且所述通气电磁阀靠近罩体一侧设置，所述通气电磁阀与控制终端通讯连接；
12、第一真空计，所述第一真空计安装于第一管道、并且所述第一真空计靠近罩体一侧设置，所述第一真空计与控制终端通讯连接。
13、可选地，上述的氦质谱检漏仪，
14、所述机械泵的抽样口通过第二管道与待测器件的第三出口连通；
15、氦质谱检漏仪还包括检漏组件，所述检漏组件包括：
16、隔离电磁阀，所述隔离电磁阀安装于第二管道，所述隔离电磁阀与控制终端通讯连接；
17、第二真空计，所述第二真空计安装于第二管道、并且所述第二真空计靠近待测器件的第三出口设置，所述第二真空计与控制终端通讯连接。
18、可选地，上述的氦质谱检漏仪，
19、所述第一管道和第二管道通过第三管道连通；
20、氦质谱检漏仪还包括辅助电磁阀，所述辅助电磁阀安装于第三管道，所述辅助电磁阀与控制终端通讯连接。
21、可选地，上述的氦质谱检漏仪，
22、氦质谱检漏仪还包括放气电磁阀，所述放气电磁阀安装于第二管道，所述放气电磁阀与控制终端通讯连接。
23、可选地，上述的氦质谱检漏仪，
24、所述机械泵的抽样口通过第四管道与质谱系统的第一出口连通；
25、所述抽真空组件还包括：
26、分子泵，所述分子泵安装于第四管道，并且所述分子泵位于质谱系统和机械泵之间，所述分子泵与控制终端通讯连接；
27、预抽电磁阀、质谱电磁阀和第三真空计，所述预抽电磁阀、所述质谱电磁阀和所述第三真空计均安装于第四管道，所述预抽电磁阀位于分子泵和机械泵之间，所述质谱电磁阀位于所述质谱系统和分子泵之间，所述第三真空计靠近所述质谱系统的第一出口设置，所述预抽电磁阀、所述质谱电磁阀和所述第三真空计均与控制终端通讯连接。
28、可选地，上述的氦质谱检漏仪，还包括并联设置的粗检电磁阀、精检电磁阀和超精检电磁阀，所述粗检电磁阀安装于第五管道，所述粗检电磁阀、精检电磁阀和超精检电磁阀均与控制终端通讯连接，所述第五管道的一端与第二管道连通，所述第五管道的另一端与第四管道连通、并且所述第五管道的另一端位于预抽电磁阀和机械泵之间，所述精检电磁阀安装于第六管道，所述第六管道的一端与第二管道连通，所述第六管道的另一端与所述第四管道连通、并且第六管道的另一端靠近所述分子泵的出口设置，所述超精检电磁阀安装于第七管道，所述第七管道的一端与第二管道连通，所述第七管道的另一端与所述第四管道连通、并且第七管道的另一端靠近所述分子泵的入口设置。
29、一种喷氦检漏方法，应用于上述的氦质谱检漏仪，所述喷氦检漏方法包括：
30、步骤s1：移动罩体直至罩体罩设于待测漏孔，启动机械泵、分子泵，对质谱系统、罩体和待测器件所在回路进行抽真空处理；
31、步骤s2：待第一真空计和第二真空计显示的真空度维持稳定后，对待测漏孔进行喷氦；
32、步骤s3：质谱系统实时检测当前待测漏孔的漏率并反馈至控制终端，控制终端记录并绘制漏率曲线，随后求取漏率；
33、步骤s4：重复进行步骤s1至步骤s3，直至完成全部待测漏孔的漏率的检测工作。
34、可选地，上述的喷氦检漏方法，在进行步骤s1或步骤s3时，还包括：
35、步骤s5：依据第一真空计和第二真空计检测的真空度，分级打开粗检电磁阀、精检电磁阀和超精检电磁阀；
36、其中，进行步骤s5时，于第一真空计和第二真空计处预设第一阈值、第二阈值和第三阈值，分别作为粗检电磁阀、精检电磁阀和超精检电磁阀的启动条件。
37、可选地，上述的喷氦检漏方法，完成步骤s4后，还包括：
38、步骤s6：氦质谱检漏仪脱离真空环境。
39、本专利技术提供的技术方案，具有如下优点：
40、本专利技术提供的氦质谱检漏仪，其包括质谱系统、喷氦组件、抽真空组件和控制终端。其中，喷氦组件至少包括罩体，所述罩体用于罩设待测器件的待检漏孔；抽真空组件至少包括机械泵，所述机械泵具有抽样口，所述抽样口通过多个管道分别与质谱系统的第一出口、罩体的第二出口以及待测本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种氦质谱检漏仪，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的氦质谱检漏仪，其特征在于，所述喷氦组件还包括：
3.根据权利要求2所述的氦质谱检漏仪，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的氦质谱检漏仪，其特征在于，
5.根据权利要求3所述的氦质谱检漏仪，其特征在于，
6.根据权利要求3-5中任一项所述的氦质谱检漏仪，其特征在于，
7.根据权利要求6所述的氦质谱检漏仪，其特征在于，还包括并联设置的粗检电磁阀(71)、精检电磁阀(72)和超精检电磁阀(73)，所述粗检电磁阀(71)安装于第五管道(45)，所述粗检电磁阀(71)、精检电磁阀(72)和超精检电磁阀(73)均与控制终端通讯连接，所述第五管道(45)的一端与第二管道(42)连通，所述第五管道(45)的另一端与第四管道(44)连通、并且所述第五管道(45)的另一端位于预抽电磁阀(33)和机械泵(31)之间，所述精检电磁阀(72)安装于第六管道(46)，所述第六管道(46)的一端与第二管道(42)连通，所述第六管道(46)的另一端与所述第四管道(44)连通
8.一种喷氦检漏方法，应用于权利要求1-7中任一项所述的氦质谱检漏仪，其特征在于，所述喷氦检漏方法包括：
9.根据权利要求8所述的喷氦检漏方法，其特征在于，在进行步骤S1或步骤S3时，还包括：
10.根据权利要求8所述的喷氦检漏方法，其特征在于，完成步骤S4后，还包括：
...【技术特征摘要】
1.一种氦质谱检漏仪，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的氦质谱检漏仪，其特征在于，所述喷氦组件还包括：
3.根据权利要求2所述的氦质谱检漏仪，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的氦质谱检漏仪，其特征在于，
5.根据权利要求3所述的氦质谱检漏仪，其特征在于，
6.根据权利要求3-5中任一项所述的氦质谱检漏仪，其特征在于，
7.根据权利要求6所述的氦质谱检漏仪，其特征在于，还包括并联设置的粗检电磁阀(71)、精检电磁阀(72)和超精检电磁阀(73)，所述粗检电磁阀(71)安装于第五管道(45)，所述粗检电磁阀(71)、精检电磁阀(72)和超精检电磁阀(73)均与控制终端通讯连接，所述第五管道(45)的一端与第二管道(42)连通，所述第五管道(45)的另一端与第四管道(44)连通、并且所述第五管道(45)...
【专利技术属性】
技术研发人员：魏富强，郝猛，宋海燕，
申请(专利权)人：北京中科科仪股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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