【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空镀膜，尤其涉及一种旋转阴极组合结构。
技术介绍
1、目前，磁控溅射镀膜机溅射靶结构由早期的平面靶结构逐渐向柱状旋转靶结构方向发展，并形成了多种柱状磁控溅射靶结构。柱状溅射靶的实现，大幅度提高了靶材利用率，同时使靶的结构也更加简单、可靠。在上述溅射靶中，为了达到溅射靶阴极和阳极之间的绝缘，需在二者之间设置绝缘套。
2、绝缘套作为镀膜设备中重要的绝缘件，在使用过程中发现上述结构存在以下问题：在长期镀膜过程中绝缘套随着镀膜时间的累积，涂层厚度会增加，镀膜厚度最开始薄的状态下，降低了电阻值，会引起旋转阴极的电压波动。严重的，最后到镀膜增厚到一定程度后，使得旋转阴极通过尾端和设备短路。旋转阴极彻底无法工作。这种问题使得很多厂家在使用较短的时间后就需要将绝缘套拆卸来对镀膜进行去除，极大地影响了生产的连续性。
3、因此，亟需设计一种旋转阴极组合结构以及镀膜设备，以解决上述问题。
技术实现思路
1、本技术的一个目的在于提供一种旋转阴极组合结构，能够极大地减少绝缘套被镀膜的情况，降低绝缘套的清除频率，延长每次开机生产的周期，提高生产的连续性。
2、本技术的另一个目的在于提供一种镀膜设备，能够极大地减少绝缘套被镀膜的情况，降低绝缘套的清除频率，延长每次开机生产的周期，提高生产的连续性。
3、为达此目的，本技术采用以下技术方案：
4、旋转阴极组合结构，包括：
5、支撑组件，安装于炉壁；
6、绝缘套，安装于上
7、导电组件，与上述绝缘套同轴安装且能相对上述绝缘套转动，上述导电组件与上述支撑组件间隔，上述绝缘套、上述导电组件端面以及上述支撑组件共同形成绝缘空间；
8、上述支撑组件设置有第一屏蔽结构，上述导电组件设置有第二屏蔽结构，上述第一屏蔽结构和上述第二屏蔽结构二者中的一个开设凹槽，二者中的另一个设有凸起，部分上述凸起位于上述凹槽中，上述绝缘空间通过上述第一屏蔽结构和上述第二屏蔽结构之间的间隙与镀膜空间连通。
9、作为一个可选的方案，上述支撑组件包括：
10、支撑环，安装于上述炉壁；
11、两个屏蔽环，均可拆连接于上述支撑环，两个上述屏蔽环沿轴向间隔设置形成上述凹槽。
12、作为一个可选的方案，上述支撑环包括内支撑环，上述绝缘套安装于上述内支撑环，上述内支撑环包括：
13、第一连接部，与上述炉壁连接；
14、第二连接部，与上述第一连接部背离上述炉壁一端连接，且上述第二连接部的外径小于上述第一连接部的外径；
15、两个上述屏蔽环分别为第一屏蔽环和第二屏蔽环，上述第一屏蔽环的截面呈l型，上述第一屏蔽环的水平部通过锁紧件安装于上述内支撑环；
16、上述第二屏蔽环通过上述锁紧件安装于上述第一连接部与上述第二连接部连接位置的端面上。
17、作为一个可选的方案，上述支撑环还包括外支撑环，上述外支撑环安装于上述炉壁，上述内支撑环嵌设于上述外支撑环内部。
18、作为一个可选的方案，上述导电组件包括：
19、法兰盘，通过第一支撑轴承转动安装于上述绝缘套，上述法兰盘的端面与上述绝缘套以及上述支撑组件均间隔设置；
20、防污件，连接于上述法兰盘外周，上述防污件上设置有上述凸起。
21、作为一个可选的方案，上述导电组件还包括：
22、靶材，安装于上述法兰盘背离上述绝缘套的一侧；
23、锁紧环，安装于上述靶材和上述法兰盘外侧，上述锁紧环用于将上述法兰盘和上述靶材锁紧；上述防污件的一端安装于上述锁紧环或上述靶材，另一端设置有上述凸起。
24、作为一个可选的方案，上述法兰盘周向凸设安装凸起，上述靶材一端为l型并安装于上述法兰盘外周，上述锁紧环开设限位槽，上述安装凸起以及上述靶材一端抵接并同时限位于上述限位槽中。
25、作为一个可选的方案，上述限位槽的任一槽壁朝向槽口向外倾斜设置。
26、作为一个可选的方案，上述凸起在轴向上间隔设置有至少两个，上述凹槽与上述凸起一一对应设置。
27、镀膜设备，包括上述的旋转阴极组合结构。
28、本技术的有益效果在于：
29、本技术提供一种旋转阴极组合结构，经研究发现，绝缘套上之所以被镀膜，是因为镀膜空间中充斥着高速被溅射出来的高速冲击的电子或离子，由于绝缘套与导电组件之间的绝缘空间的存在，高速冲击的电子或离子会从绝缘空间与镀膜空间之间的缝隙进入后冲击到导电组件上，使得导电组件溅射出金属离子，造成金属离子对绝缘套进行了镀膜的操作，本方案在支撑组件上设置第一屏蔽结构，在导电组件上设置第二屏蔽结构，第一屏蔽结构和第二屏蔽结构二者中的一个为凹槽，另一个为凸起，部分凸起位于凹槽中，使得镀膜空间和绝缘空间的间隙呈迷宫结构，高速离子或电子被该结构阻挡，也可以理解的是高速离子或电子进入绝缘空间的路径更加曲折，很难进入到绝缘空间中，进而使得导电组件无法被溅射出金属离子，进而避免绝缘套被镀膜，能够极大地减少绝缘套被镀膜的情况，降低绝缘套的清除频率，延长每次开机生产的周期，提高生产的连续性。
30、本技术还提供一种镀膜设备，通过采用上述旋转阴极组合结构，能够极大地减少绝缘套被镀膜的情况，降低绝缘套的清除频率，延长每次开机生产的周期，提高生产的连续性。
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1.旋转阴极组合结构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的旋转阴极组合结构，其特征在于，所述支撑组件(10)包括：
3.根据权利要求2所述的旋转阴极组合结构，其特征在于，所述支撑环(11)包括内支撑环(111)，所述绝缘套(20)安装于所述内支撑环(111)，所述内支撑环(111)包括：
4.根据权利要求3所述的旋转阴极组合结构，其特征在于，所述支撑环(11)还包括外支撑环(112)，所述外支撑环(112)安装于所述炉壁(200)，所述内支撑环(111)嵌设于所述外支撑环(112)内部。
5.根据权利要求1-4任一项所述的旋转阴极组合结构，其特征在于，所述导电组件(30)包括：
6.根据权利要求5所述的旋转阴极组合结构，其特征在于，所述导电组件(30)还包括：
7.根据权利要求6所述的旋转阴极组合结构，其特征在于，所述法兰盘(31)周向凸设安装凸起(311)，所述靶材(33)一端为L型并安装于所述法兰盘(31)外周，所述锁紧环(34)开设限位槽(341)，所述安装凸起(311)以及所述靶材(33)一端
8.根据权利要求7所述的旋转阴极组合结构，其特征在于，所述限位槽(341)的任一槽壁朝向槽口向外倾斜设置。
9.根据权利要求1-4任一项所述的旋转阴极组合结构，其特征在于，所述凸起(321)在轴向上间隔设置有至少两个，所述凹槽(14)与所述凸起(321)一一对应设置。
10.镀膜设备，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的旋转阴极组合结构。
...【技术特征摘要】
1.旋转阴极组合结构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的旋转阴极组合结构，其特征在于，所述支撑组件(10)包括：
3.根据权利要求2所述的旋转阴极组合结构，其特征在于，所述支撑环(11)包括内支撑环(111)，所述绝缘套(20)安装于所述内支撑环(111)，所述内支撑环(111)包括：
4.根据权利要求3所述的旋转阴极组合结构，其特征在于，所述支撑环(11)还包括外支撑环(112)，所述外支撑环(112)安装于所述炉壁(200)，所述内支撑环(111)嵌设于所述外支撑环(112)内部。
5.根据权利要求1-4任一项所述的旋转阴极组合结构，其特征在于，所述导电组件(30)包括：
6.根据权利要求5所述的旋转阴极组合结构，其特征在于，所...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈伟，周建，李瑞平，王小玉，陈候亮，
申请(专利权)人：扬州纳力新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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