【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及镀膜领域，具体的讲是涉及一种双面磁控、蒸发镀膜机。
技术介绍
1、在薄膜或者器物上镀膜是目前常规的一种手段，尤其很多电子器件的重要功能部件的原料正是在薄膜上镀有特定厚度的功能层，还有部分部件要求较厚的、较为紧密的镀层，或者双面镀层，目前的技术方案就是多次进行镀膜。目前符合要求的最常见镀膜方式有磁控溅射镀膜和蒸发镀膜两种，这两种镀膜方式各有擅长，基本可以满足绝大多数薄膜镀膜需求。蒸发镀膜是在真空条件下，对镀膜材料加热气化而进行沉积成膜的方法，镀膜速度较快，效率较高，但是镀膜的均匀性和结合力不及磁控溅射镀膜，不能镀各种难熔金属，无法满足多数产品领域和锂电池领域镀膜的要求。磁控溅射镀膜是通过惰性气体轰击靶材，溅射出材料粒子而在薄膜上形成膜层的方法，具有镀膜稳定性好，均匀度好，膜层致密的优点。但是其镀膜效率低、靶材利用率低、产能不高，生产效率低下。
2、上述两种镀膜方式都要求镀膜时薄膜处于接近真空环境，需要在近真空环境中填充稀有的惰性气体，而单次镀膜的膜层厚度受到技术限制，只能达到几十至几百纳米左右，面对部分电子器件要求数微米厚度的膜层，只能反复多次镀膜。设备中一次镀膜结束后如果需要二次镀膜，需要打开设备将镀过一次膜的薄膜从收卷棍上转移到放卷辊上，关闭设备，再次抽真空，只有等真空度达标后重新添加稀有的惰性气体，然后才能进行第二次镀膜。这就使得在需要重复镀膜的情况下，镀膜的效率大大下降。
3、针对这种情况，部分对膜层要求不高、仅仅有厚度要求的镀膜就可以在第一次镀上金属膜后改为电镀，以降低成本。对于膜层
4、现有镀膜设备的另一问题是可以进行镀膜的薄膜宽度受限，因为薄膜自身弹性原因，一旦薄膜宽度加大，会导致薄膜表面起褶皱，平整度明显降低，导致镀膜厚度不均匀，因此，现有设备的镀膜宽度多数维持30-60厘米，也是使镀膜效率下降、成本升高的原因之一。
5、现有镀膜设备的另一问题是无法实现正反面同时镀膜。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于克服上述传统技术的不足之处，提供一种不打开设备，可以一次装机反复多次镀膜、同时可以选择反复磁控溅射镀膜或蒸发镀膜两种镀膜方式、能够实现大宽度、超薄（4.0um）薄膜、双面同时镀膜的双面磁控、蒸发镀膜机。
2、本专利技术的目的是通过以下技术措施来达到的：
3、双面磁控、蒸发镀膜机，包括真空室，所述真空室由固定机壳和移动机壳构成，固定机壳和移动机壳密闭连接后构成内部密闭的真空镀膜作业空间，所述固定机壳上安置有若干个分子泵，其特征在于：所述镀膜作业空间内设置有收放卷组件、超薄膜平整维持组件、镀膜辊、蒸发镀膜组件和磁控溅射镀膜组件，所述收放卷组件包括第一收放卷组件和第二收放卷组件，所述超薄膜平整维持组件包括第一超薄膜平整维持组件和第二超薄膜平整维持组件，所述镀膜辊包括第一镀膜辊和第二镀膜辊，所述蒸发镀膜组件包括第一蒸发镀膜组件和第二蒸发镀膜组件，所述磁控溅射镀膜组件包括第一磁控溅射镀膜组件和第二磁控溅射镀膜组件，自第一收放卷组件向第一超薄膜平整维持组件、第一镀膜辊、第一蒸发镀膜组件、第一磁控溅射镀膜组件、第二镀膜辊、第二蒸发镀膜组件、第二磁控溅射镀膜组件、第二超薄膜平整维持组件和第二收放卷组件构成薄膜镀膜通道，所述收放卷组件与超薄膜平整维持组件之间设有至少一根螺纹辊，所述螺纹辊上设有两组螺纹，两组螺纹自螺纹辊中间向两侧延伸且两组螺纹方向相反，所述螺纹凹入螺纹辊表面且螺纹边缘具有圆弧倒角。
4、螺纹辊自螺纹辊中间向两侧延伸且两组螺纹方向相反，使经过螺纹辊的薄膜承受一种自中线向两侧伸展的力，使薄膜，尤其是宽度更大，最大可达1600mm的薄膜能够平整展开，而不会出现中间部分褶皱的情况，保证了镀膜的均匀性。目前镀膜设备一旦宽度加大就会出现中间部分褶皱，甚至局部折叠的情况，导致大幅面对薄膜无法实现高质量的均匀镀膜。本申请采用超薄膜平整维持组件和螺纹辊双重展平结构，使薄膜能够完全呈现平整展开状态，即使宽幅达到1600mm的超大幅面薄膜也可以很好地平整展开，而无任何褶皱出现，实现及其均匀、高质量的镀膜。
5、作为一种优选方案，所述收放卷组件包括一根收放卷辊和驱动该收放卷辊的收放卷驱动装置，其中一组收放卷组件执行收卷动作时，另一组收放卷组件执行放卷动作且跟随执行收卷动作的收放卷辊转速保持同步。其收放卷驱动装置是由步机电机和控制器构成，是目前的惯常设置，不赘述。
6、作为一种优选方案，所述超薄膜平整维持组件包括弧形辊、弧形辊驱动装置和弧度张力调节装置，所述弧形辊端部与弧度张力调节装置连接并由弧形调节装置调整弧度，所述弧形辊驱动装置驱动弧形辊与收放卷组件同步旋转。弧形辊中间位置略凸出，使薄膜中间承受略大于外周的外展的力，使薄膜能够克服中间位置张力与外周走张力不平衡的问题，使薄膜进入镀膜辊时能够维持完全展平状态，克服可能存在的褶皱，确保薄膜在差大幅面宽度1600mm的宽度下仍然能够保持平整。
7、作为一种优选方案，所述弧形辊包括弹性弧形芯辊和弹性外辊，所述弹性外辊套装于弹性弧形芯辊外周并与弹性弧形芯辊同轴设置，所述弹性外辊表面为弹性拉伸状态。
8、作为一种优选方案，所述弧度张力调节装置由张力调节驱动电机和滚珠丝杠构成，所述滚珠丝杠将张力调节驱动电机的动力转换为直线推动弧形辊运动调节弧形辊弧度。弧度张力调节装置推动弧形辊在轴向上变形，改变弧形辊的弧度，可以针对不同厚度、不同材质以及不同宽度的薄膜调整最适宜的弧度，实现薄膜中心和四周边缘受力均匀，在不改变薄膜自身结构的情况下弹性张紧薄膜，使薄膜在不变形的情况下维持整体进入镀膜辊后幅面平整均匀。该弧形辊尤其审对超薄薄膜，可以有效规避薄膜表面张力不均匀造成的褶皱，实现超薄薄膜、超大幅面1600mm高质量、高均匀度、高附着强度、超薄镀层镀膜。弧度张力调节装置能够给弧形辊施加轴向的推力，其结构可以有多种方式实现，均是现有技术可以实现的，可以根据惯常设置进行设计，不赘述。
9、作为一种优选方案，所述蒸发镀膜组件包括蒸发槽、电极和供料装置，所述供料装置包括若干个料盘和若干个进料驱动电机组件，所述料盘与进料电机驱动组件一一对应设置，所述进料电机驱动组件分置于蒸发槽长度方向的两侧，所述电极安装于蒸发槽长度方向中线上，所述蒸发槽朝向镀膜辊轴心设置，所述蒸发槽与镀膜辊之间设有防溢板，所述防溢板成对设置且阻断蒸发槽外周与镀膜辊非朝向蒸发槽部分，蒸发槽的底部设有支架。
10、作为一种优选方案，所述磁控溅射镀膜组件包括若干个磁控溅射靶体，若干个所述磁控溅射靶体之间距离相等且各个磁控溅射靶体与镀膜辊外周等距排列。
11、作为一种优选方案，所述镀膜辊外周设有预处理组件，所述预处理组件朝向镀膜辊且处于蒸发槽与弧形辊之间，所述预处理组件为静电消除及薄膜表面处理装置。静电消除及薄膜表面处理装置是市售产品，不赘述。
12、作本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.双面磁控、蒸发镀膜机，包括真空室，所述真空室由固定机壳和移动机壳构成，固定机壳和移动机壳密闭连接后构成内部密闭的真空镀膜作业空间，所述固定机壳上安置有若干个分子泵，其特征在于：所述镀膜作业空间内设置有收放卷组件、超薄膜平整维持组件、镀膜辊、蒸发镀膜组件和磁控溅射镀膜组件，所述收放卷组件包括第一收放卷组件和第二收放卷组件，所述超薄膜平整维持组件包括第一超薄膜平整维持组件和第二超薄膜平整维持组件，所述镀膜辊包括第一镀膜辊和第二镀膜辊，所述蒸发镀膜组件包括第一蒸发镀膜组件和第二蒸发镀膜组件，所述磁控溅射镀膜组件包括第一磁控溅射镀膜组件和第二磁控溅射镀膜组件，自第一收放卷组件向第一超薄膜平整维持组件、第一镀膜辊、第一蒸发镀膜组件、第一磁控溅射镀膜组件、第二镀膜辊、第二蒸发镀膜组件、第二磁控溅射镀膜组件、第二超薄膜平整维持组件和第二收放卷组件构成薄膜镀膜通道，所述收放卷组件与超薄膜平整维持组件之间设有至少一根螺纹辊，所述螺纹辊上设有两组螺纹，两组螺纹自螺纹辊中间向两侧延伸且两组螺纹方向相反，所述螺纹凹入螺纹辊表面且螺纹边缘具有圆弧倒角。
2.根据权利要求1所述的双面磁控、蒸
3.根据权利要求1所述的双面磁控、蒸发镀膜机，其特征在于：
4.根据权利要求3所述的双面磁控、蒸发镀膜机，其特征在于：
5.根据权利要求4所述的双面磁控、蒸发镀膜机，其特征在于：
6.根据权利要求1所述的双面蒸发、磁控镀膜机，其特征在于：
7.根据权利要求1所述的双面磁控、蒸发镀膜机，其特征在于：
8.根据权利要求1所述的双面磁控、蒸发镀膜机，其特征在于：
9.根据权利要求6所述的双面磁控、蒸发镀膜机，其特征在于：
10.根据权利要求1至9中任一所述的双面磁控、蒸发镀膜机，其特征在于：
...【技术特征摘要】
1.双面磁控、蒸发镀膜机，包括真空室，所述真空室由固定机壳和移动机壳构成，固定机壳和移动机壳密闭连接后构成内部密闭的真空镀膜作业空间，所述固定机壳上安置有若干个分子泵，其特征在于：所述镀膜作业空间内设置有收放卷组件、超薄膜平整维持组件、镀膜辊、蒸发镀膜组件和磁控溅射镀膜组件，所述收放卷组件包括第一收放卷组件和第二收放卷组件，所述超薄膜平整维持组件包括第一超薄膜平整维持组件和第二超薄膜平整维持组件，所述镀膜辊包括第一镀膜辊和第二镀膜辊，所述蒸发镀膜组件包括第一蒸发镀膜组件和第二蒸发镀膜组件，所述磁控溅射镀膜组件包括第一磁控溅射镀膜组件和第二磁控溅射镀膜组件，自第一收放卷组件向第一超薄膜平整维持组件、第一镀膜辊、第一蒸发镀膜组件、第一磁控溅射镀膜组件、第二镀膜辊、第二蒸发镀膜组件、第二磁控溅射镀膜组件、第二超薄膜平整维持组件和第二收放卷组件构成薄膜镀膜通道，所述收放卷组件与超薄膜平整维持组件之间...
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