蒸发磁控溅射多用镀膜机制造技术

本发明专利技术提供了蒸发磁控溅射多用镀膜机，包括加工架，加工架上表面的一侧连接有放卷辊，放卷辊的表面缠绕有ITO膜基材层，加工架上表面的中心处固定连接有与ITO膜基材层传动配合的冷却辊，冷却辊上设置有冷却机构，加工架上表面远离放卷辊的一侧固定连接有与ITO膜基材层传动配合的收卷辊，收卷辊上连接有用于驱动收卷辊的驱动机构，加工架上设置有与冷却辊和ITO膜基材层配合使用的镀膜机构。本发明专利技术可利用磁控溅射技术和蒸发镀膜技术相结合的方式，对ITO膜基材层进行高效且高标准镀膜处理，同时磁控镀膜腔室和蒸发箱为单独分布，避免出现镀膜干涉。镀膜干涉。镀膜干涉。

【技术实现步骤摘要】
蒸发磁控溅射多用镀膜机


[0001]本专利技术涉及ITO膜加工的
，具体为蒸发磁控溅射多用镀膜机。

技术介绍

[0002]ITO膜是一种n型半导体材料，具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和良好的化学稳定性，它是液晶显示器、等离子显示器、电致发光显示器、触摸屏、太阳能电池以及其他电子仪表的透明电极最常用的薄膜材料，在ITO膜加工过程中，需要用到镀膜机对ITO膜表面进行镀膜处理。
[0003]目前市面上的镀膜机对ITO膜镀膜时，要么利用磁控溅射技术进行镀膜，要么利用蒸发镀膜技术进行镀膜，无法利用磁控溅射技术和蒸发镀膜技术相结合的方式，对ITO膜进行高效且高标准镀膜处理，不能在ITO膜上同时拥有磁控溅射镀膜特性和蒸发镀膜特性，达不到ITO膜的多层镀膜要求和层厚度要求，降低了ITO膜镀膜后的成品率和质量，为此，提出蒸发磁控溅射多用镀膜机。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供蒸发磁控溅射多用镀膜机，以解决上述
技术介绍
中提出的无法利用磁控溅射技术和蒸发镀膜技术相结合的方式，对ITO膜进行高效且高标准镀膜处理，不能在ITO膜上同时拥有磁控溅射镀膜特性和蒸发镀膜特性，达不到ITO膜的多层镀膜要求和层厚度要求的问题。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：蒸发磁控溅射多用镀膜机，包括加工架，所述加工架上表面的一侧连接有放卷辊，所述放卷辊的表面缠绕有ITO膜基材层，所述加工架上表面的中心处固定连接有与ITO膜基材层传动配合的冷却辊，所述冷却辊上设置有冷却机构，所述加工架上表面远离放卷辊的一侧固定连接有与ITO膜基材层传动配合的收卷辊，所述收卷辊上连接有用于驱动收卷辊的驱动机构，所述加工架上设置有与冷却辊和ITO膜基材层配合使用的镀膜机构，所述加工架的两侧均开设有配合槽，所述镀膜机构包括蒸发镀膜部件和对称设置的两个磁控溅射镀膜部件，所述磁控溅射镀膜部件包括磁控溅射镀膜机和与ITO膜基材层配合使用的喷射头，两个所述磁控溅射镀膜机固定连接于配合槽内，两个所述喷射头对应连通设置于两个磁控溅射镀膜机相正对的侧壁上，所述蒸发镀膜部件包括与冷却辊配合使用的蒸发箱和真空泵，所述蒸发箱嵌合于加工架的中心处，所述真空泵通过管道连通于蒸发箱的侧壁上，所述蒸发箱远离真空泵的侧壁上固定连接有电加热器，所述电加热器的出气端连通有与ITO膜基材层配合使用的加热架，所述加热架固定连接于蒸发箱内壁上。
[0006]优选的，所述冷却机构包括若干喷嘴、制冷机和气泵，所述制冷机和气泵均固定连接于冷却辊的内腔中，所述气泵连通于制冷机的出气端，所述气泵的出气端连通有环形架，所述喷嘴均匀固定连接于环形架上，所述冷却辊的圆周外壁上开设有若干喷孔，所述喷孔与喷嘴的数量相同且一一对应，若干所述喷嘴活动插设于对应的喷孔内。
[0007]优选的，两个所述磁控溅射镀膜机相正对的一侧均固定连接有与加工架相配合的隔离板，所述隔离板、ITO膜基材层和磁控溅射镀膜机配合形成磁控镀膜腔室，所述喷射头设置于对应的磁控镀膜腔室内。
[0008]优选的，所述喷射头靠近ITO膜基材层的一侧固定连接有导流罩。
[0009]优选的，所述蒸发箱上中心对称连接有四个温度传感器，每个所述温度传感器的感应端均贯穿蒸发箱侧壁且伸入蒸发箱内。
[0010]优选的，所述蒸发箱的顶部开设有密封槽，所述冷却辊密封传动于密封槽内。
[0011]优选的，所述驱动机构包括收卷电机和减速机，所述收卷电机固定连接于加工架上，所述减速机连接于收卷电机的输出端，所述收卷辊通过减速机连接于收卷电机的输出端。
[0012]优选的，所述蒸发箱内对称转动连接有两个与ITO膜基材层传动配合的转向辊，所述蒸发箱上对称开设有两个与转向辊相配合的传动槽。
[0013]优选的，所述加热架顶部的四周均开设有加热孔，所述加热架的横截面积大于密封槽的横截面积。
[0014]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：1.本专利技术中，通过设置冷却机构，由制冷机提供冷源，气泵提供动力源，再由喷孔、环形架和喷嘴的配合，对经过冷却辊传动的ITO膜基材层进行均匀降温冷却处理，提高镀膜层在ITO膜基材层上的附着紧固性，同时也防止镀膜层在ITO膜基材层上受热变形，提升ITO膜基材层的镀膜速度和成型效率，通过设置镀膜机构，由磁控溅射镀膜机、磁控镀膜腔室和喷射头的配合，利用磁控溅射技术对ITO膜基材层进行镀膜作业，由蒸发箱、温度传感器、真空泵、电加热器和加热架的配合蒸发镀膜技术，对ITO膜基材层进行镀膜作业，从而达到利用磁控溅射技术和蒸发镀膜技术相结合的方式，对ITO膜基材层进行高效且高标准镀膜处理，同时磁控镀膜腔室和蒸发箱为单独分布，避免出现镀膜干涉，可在ITO膜基材层同时拥有磁控溅射镀膜特性和蒸发镀膜特性，达到ITO膜的多层镀膜要求和层厚度要求。
[0015]2.本专利技术中，通过喷孔和喷嘴沿冷却辊的中心处呈圆周阵列状结构分布且位于同一水平面上，对冷却辊下方传送的ITO膜基材层进行制冷冷却，提高ITO膜基材层的冷却均匀性，使ITO膜基材层上的热量达到均匀降温的效果，避免ITO膜基材层上的镀膜层制冷不均出现变形，提升ITO膜基材层的镀膜层附着紧密性和质量，通过支架，便于使制冷机和气泵安装在中空结构设计的冷却辊内，提高制冷机和气泵的稳定性，避免制冷机和气泵不稳影响冷却辊的转动平稳效果。
附图说明
[0016]图1为本专利技术的整体结构示意图；图2为本专利技术的局部结构示意图；图3为本专利技术的加工架的结构示意图；图4为本专利技术磁控溅射镀膜部件的结构示意图；图5为本专利技术蒸发箱的内部结构示意图；图6为本专利技术冷却辊的结构局部剖视图；图7为本专利技术冷却机构的结构分解示意图。
[0017]图中：1、加工架；2、放卷辊；3、ITO膜基材层；4、冷却辊；5、冷却机构；51、喷孔；52、制冷机；53、气泵；54、环形架；55、喷嘴；6、收卷辊；7、镀膜机构；71、磁控溅射镀膜机；72、磁控镀膜腔室；73、喷射头；74、蒸发箱；75、温度传感器；76、真空泵；77、电加热器；78、加热架；8、密封槽；9、收卷电机；10、减速机；11、导流罩；12、传动槽；13、转向辊；14、加热孔。
具体实施方式
[0018]下面将结合附图和具体实施方式，对本专利技术中的技术方案作进一步说明，清楚、完整地描述本专利技术的技术方案。显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0019]实施例：如图1
‑
7所示，蒸发磁控溅射多用镀膜机，包括加工架1，加工架1上表面的一侧连接有放卷辊2，放卷辊2的表面缠绕有ITO膜基材层3，加工架1上表面的中心处固定连接有与ITO膜基材层3传动配合的冷却辊4，冷却辊4上设置有冷却机构5，加工架1上表面远离放卷辊2的一侧固定连接有与ITO膜基材层3传动配合的收卷辊6，收卷辊6上连接有用于驱动收卷辊6的驱动机构，加本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.蒸发磁控溅射多用镀膜机，包括加工架（1），其特征在于：所述加工架（1）上表面的一侧连接有放卷辊（2），所述放卷辊（2）的表面缠绕有ITO膜基材层（3），所述加工架（1）上表面的中心处固定连接有与ITO膜基材层（3）传动配合的冷却辊（4），所述冷却辊（4）上设置有冷却机构（5），所述加工架（1）上表面远离放卷辊（2）的一侧固定连接有与ITO膜基材层（3）传动配合的收卷辊（6），所述收卷辊（6）上连接有用于驱动收卷辊（6）的驱动机构，所述加工架（1）上设置有与冷却辊（4）和ITO膜基材层（3）配合使用的镀膜机构（7），所述加工架（1）的两侧均开设有配合槽，所述镀膜机构（7）包括蒸发镀膜部件和对称设置的两个磁控溅射镀膜部件，所述磁控溅射镀膜部件包括磁控溅射镀膜机（71）和与ITO膜基材层（3）配合使用的喷射头（73），两个所述磁控溅射镀膜机（71）固定连接于配合槽内，两个所述喷射头（73）对应连通设置于两个磁控溅射镀膜机（71）相正对的侧壁上，所述蒸发镀膜部件包括与冷却辊（4）配合使用的蒸发箱（74）和真空泵（76），所述蒸发箱（74）嵌合于加工架（1）的中心处，所述真空泵（76）通过管道连通于蒸发箱（74）的侧壁上，所述蒸发箱（74）远离真空泵（76）的侧壁上固定连接有电加热器（77），所述电加热器（77）的出气端连通有与ITO膜基材层（3）配合使用的加热架（78），所述加热架（78）固定连接于蒸发箱（74）内壁上。2.根据权利要求1所述的蒸发磁控溅射多用镀膜机，其特征在于：所述冷却机构（5）包括若干喷嘴（55）、制冷机（52）和气泵（53），所述制冷机（52）和气泵（53）均固定连接于冷却辊（4）的内腔中，所述气泵（53）连通于制冷机（52）的出气端，所述气泵（53）的出气端连通有环形架（54），所述喷嘴（55）均匀固定连接于环形架（54）上，所述冷却辊（4）的圆周外壁上开设...

【专利技术属性】
技术研发人员：孟凡杰，
申请(专利权)人：怡通科技有限公司，
类型：发明
国别省市：