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【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开内容的实施方式涉及用于运输载体的设备,特别是涉及用于承载大面积基板的载体。更具体地,本公开内容的实施方式涉及用于运输可采用于用于竖直基板处理(例如,用于显示器生产的大面积基板上的材料沉积)的处理设备中的载体的设备。特别地,本公开内容的实施方式涉及载体运输系统和真空处理设备。
技术介绍
1、为了处理基板,可使用直列布置的处理模块。直列处理系统包括多个后续处理模块,诸如沉积模块以及可任选地另外的处理模块,例如清洁模块和/或蚀刻模块,其中处理方面随后在处理模块中进行,使得可在直列处理系统中连续或准连续地处理多个基板。
2、基板通常由载体承载,所述载体即用于承载基板的承载装置。载体典型地使用载体运输系统被运输通过真空系统。载体运输系统可被构造为沿一个或多个运输路径输送承载基板的载体。
3、为了获得高品质器件,需要解决与基板处理有关的技术挑战。特别地,准确且平稳地运输载体通过真空系统是有挑战性的。例如,由于移动零件的磨损而造成的颗粒产生可能造成制造工艺的劣化。因此,需要的是在真空沉积系统中运输载体而颗粒产生减少或最小化。另外的挑战是例如针对高温真空环境以低成本提供坚固、简单且紧凑的载体运输系统。
4、典型地,载体可由辊引导,并且辊上的载荷越强,颗粒产生的风险越大,并且辊的寿命越短。全非接触式浮动载体运输系统复杂且昂贵。带有永磁体的磁悬浮系统难以实现。至少一个自由度必须机械地或用引导元件稳定才能克服恩肖定理。
5、载体典型地包括用于在大多数状况下接触辊的上表面的第一轨。还设置下轨道以用于
6、因此,用于引导载体、特别是竖直取向的载体以防止辊反转的设备和方法是有益的。防止辊反转可减少在载体运输期间的颗粒产生,并且可延长机械元件的寿命。
技术实现思路
1、鉴于上述内容,根据独立权利要求,提供了用于在真空腔室内运输载体的载体运输系统以及一种用于基板的真空处理的设备。根据从属权利要求、说明书和附图,另外的方面、优点和特征是显而易见的。
2、根据本公开内容的第一个方面,提供了一种用于在真空腔室内运输载体的载体运输系统。所述载体运输系统包括:轨道组件,所述轨道组件在运输方向上延伸,所述轨道组件包括沿所述运输方向延伸的至少一个被动磁单元,所述至少一个被动磁单元被构造为抵消所述载体的部分重量;辊运输轨道,所述辊运输轨道包括多个辊,所述辊运输轨道被构造为支撑所述载体的总辊重量;驱动组件,所述驱动组件包括多个主动磁驱动单元,所述多个主动磁驱动单元具有第一主动磁驱动单元,所述第一主动磁驱动单元被构造为产生具有第一矢量的第一载体驱动力,所述第一矢量相对于所述运输方向成第一角度;以及控制器,所述控制器被构造为对所述第一主动磁驱动单元进行主动矢量控制以控制所述第一角度,其中所述多个主动磁驱动单元被构造为维持所述载体与所述多个辊之间的顶部接触。
3、根据第一个方面所述的载体运输系统,所述第一载体驱动力可包括在所述运输方向上的第一载体驱动分量和在竖直方向上的第一载体吸引分量,并且所述第一载体吸引分量由所述主动矢量控制通过改变所述第一角度来控制。
4、根据第一个方面所述的载体运输系统,所述多个主动磁驱动单元可进一步包括第二主动磁驱动单元,所述第二主动磁驱动单元被构造为产生具有第二矢量的第二载体驱动力,所述第二矢量相对于所述运输方向成第二角度;以及所述控制器被进一步构造为对所述第二主动磁驱动单元进行主动矢量控制以控制所述第二角度,其中所述第二角度不同于所述第一角度。
5、根据第一个方面所述的载体运输系统可进一步包括:至少一个传感器,所述至少一个传感器被构造为测量至少一个信号,其中所述主动矢量控制依据所述至少一个信号,并且其中所述至少一个传感器包括选自以下项组成的组中的至少一个:载体位置传感器、至少一个辊重量传感器、至少一个辊速度传感器和至少一个辊接触传感器。
6、根据第一个方面所述的载体运输系统,所述至少一个被动磁单元可包括:第一被动磁单元,所述第一被动磁单元设置在第一纵坐标处并且在所述运输方向上延伸,其中所述第一被动磁单元被构造为抵消所述载体的第一部分重量;以及第二被动磁单元,所述第二被动磁单元设置在第二纵坐标处并且在所述运输方向上延伸,其中所述第二被动磁单元被构造为抵消所述载体的第二部分重量,其中所述辊运输轨道设置在第三纵坐标处,并且所述驱动组件设置在第四纵坐标处,并且其中所述第一纵坐标位于所述载体的顶部,所述第四纵坐标位于所述载体的底部,所述第二纵坐标和所述第三纵坐标位于所述第一纵坐标与所述第四纵坐标之间。
7、根据第一个方面所述的载体运输系统可被构造为在竖直或近竖直取向上运输所述载体。
8、根据第一个方面所述的载体运输系统,所述近竖直取向为偏离完全竖直多达15度角度的取向。
9、根据本公开内容的第二个方面,提供了一种用于基板的真空处理的设备。所述设备包括:至少一个真空腔室;根据本公开内容的第一个方面的载体运输系统;以及载体,所述载体用于支撑基板,所述载体包括至少一个被动磁单元;第一轨,所述第一轨被构造为与多个辊进行顶部接触;第二轨,所述第二轨被构造为与所述多个辊进行底部接触;以及磁驱动元件,所述磁驱动元件被构造成由所述驱动组件驱动。
10、根据第二个方面所述的设备可被构造为在竖直或近竖直取向上运输所述载体。
11、根据第二个方面所述的设备,所述近竖直取向为偏离完全竖直多达15度角度的取向。
12、本公开内容的方面和实施方式允许避免由载体在与辊的上表面接触和与辊的下表面接触之间切换引起的辊反转。特别地,可抑制载体在载体的加速/减速期间或者当载体横穿间隙过渡区时的可能导致辊反转的载体俯仰。此外,可最小化在载体的运输期间施加到辊的载荷。由此,载体运输系统可减少真空处理系统中的颗粒产生,并且延长载体运输系统的机械部件的寿命。
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1.一种用于在真空腔室内运输载体(100)的载体运输系统,包括:
2.根据权利要求1所述的载体运输系统,其中所述第一载体驱动力(Fa)包括在所述运输方向(X)上的第一载体驱动分量(Fxa)和在竖直方向(Y)上的第一载体吸引分量(Fya),并且所述第一载体吸引分量(Fya)由所述主动矢量控制通过改变所述第一角度(αa)来控制。
3.根据权利要求1所述的载体运输系统,其中:
4.根据权利要求2所述的载体运输系统,其中:
5.根据权利要求1所述的载体运输系统,进一步包括:
6.根据权利要求2所述的载体运输系统,进一步包括:
7.根据权利要求3所述的载体运输系统,进一步包括:
8.根据权利要求4所述的载体运输系统,进一步包括:
9.根据权利要求1至8中任一项所述的载体运输系统,其中所述至少一个被动磁单元(410、610)包括:
10.根据权利要求1至8中任一项所述的载体运输系统,所述载体运输系统被构造为在竖直或近竖直取向上运输所述载体(100)。
11.根据权利要求10
12.根据权利要求9所述的载体运输系统,所述载体运输系统被构造为在竖直或近竖直取向上运输所述载体(100)。
13.根据权利要求12所述的载体运输系统,其中所述近竖直取向为偏离完全竖直多达15度角度的取向。
14.一种用于基板(S)的真空处理的设备,包括:
15.根据权利要求14所述的设备,其中所述载体运输系统被构造为在竖直或近竖直取向上运输所述载体(100)。
16.根据权利要求15所述的设备,其中所述近竖直取向为偏离完全竖直多达15度角度的取向。
17.一种用于基板(S)的真空处理的设备,包括:
18.根据权利要求17所述的设备,其中所述载体运输系统被构造为在竖直或近竖直取向上运输所述载体(100)。
19.根据权利要求18所述的设备,其中所述近竖直取向为偏离完全竖直多达15度角度的取向。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于在真空腔室内运输载体(100)的载体运输系统,包括:
2.根据权利要求1所述的载体运输系统,其中所述第一载体驱动力(fa)包括在所述运输方向(x)上的第一载体驱动分量(fxa)和在竖直方向(y)上的第一载体吸引分量(fya),并且所述第一载体吸引分量(fya)由所述主动矢量控制通过改变所述第一角度(αa)来控制。
3.根据权利要求1所述的载体运输系统,其中:
4.根据权利要求2所述的载体运输系统,其中:
5.根据权利要求1所述的载体运输系统,进一步包括:
6.根据权利要求2所述的载体运输系统,进一步包括:
7.根据权利要求3所述的载体运输系统,进一步包括:
8.根据权利要求4所述的载体运输系统,进一步包括:
9.根据权利要求1至8中任一项所述的载体运输系统,其中所述至少一个被动磁单元(410、610)包括:
10.根据权利要求1至8中任一项所述的载体运输系统,所述载体运输系统被构造为在竖直或近竖直取向上...
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