一种托盘组件及衬底支撑装置及外延生长设备制造方法及图纸

本申请公开一种托盘组件及衬底支撑装置及外延生长设备。该托盘组件包括承载部、衬托、第一定位环及第二定位环，承载部的一侧配置有用于连接支撑筒的第一连接部；承载部远离第一连接部的一侧配置有卡接部。第一定位环，设置在卡接部的内缘，第二定位环设置在卡接部的外缘并于第一定位环连接，衬托设置在第一定位环的下方，第一定位环与衬托部分重叠，衬托的平面高度高于承载部的中部的平面高度，本申请中的托盘组件为分体式结构，方便更换易损部件，同时只需要更换单个损坏部件，可以降低设备使用成本，本申请中的承载部位实心结构，不仅有利于增加承载部的强度，而且提高衬底表面的温度均匀性。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及cvd设备，具体地涉及一种托盘组件及衬底支撑装置及外延生长设备。

技术介绍

1、cvd是指反应物质在气态条件下在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程，衬底在生长时，为了方便交接传递以及在生长过程中旋转，衬底并不是直接固定在衬底加热器上，而是通常安装或放置在托盘组件上，进而托盘组件再安装在衬底加热器上，实现生长过程中的衬底加热。

2、目前使用的托盘组件多为一体式结构，且均为中空环状结构，通过机械手将中空的环状结构的托盘搭接在实心的支撑筒上，实现对衬底的加热与运输；

3、但本申请的专利技术人在实现本申请实施例中专利技术技术方案的过程中，发现上述技术至少存在如下技术问题，一体式的托盘组件设计不利于托盘的清洗与更换，如果一个零部件损坏，就需要更换全部的托盘组件，提高了设备的使用成本，而且采用中空环状结构的托盘组件进一步减弱了托盘组件的强度，在高速旋转过程中容易破碎，从而影响衬底表面的温度均匀性。

技术实现思路

1、为克服上述缺点，本申请的目的在于：提供一种托盘组件，该托盘组件可降低飞盘本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种托盘组件，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种托盘组件，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的一种托盘组件，其特征在于，

4.根据权利要求2所述的一种托盘组件，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的一种托盘组件，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的一种托盘组件，其特征在于，

7.根据权利要求6所述的一种托盘组件，其特征在于，

8.一种衬底支撑装置，其特征在于，包括：

9.根据权利要求8所述的一种衬底支撑装置，其特征在于，

10.一种外延生长设备，其特征在于，包...

【技术特征摘要】

1.一种托盘组件，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种托盘组件，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的一种托盘组件，其特征在于，

4.根据权利要求2所述的一种托盘组件，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的一种托盘组件，其特征在于，

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【专利技术属性】
技术研发人员：卢勇，蒲勇，赵鹏，
申请(专利权)人：芯三代半导体科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：