本发明专利技术公开一种染色釜，涉及纺织品印染技术领域，包括：支架；固设在支架上的釜体，釜体的顶端侧壁设置有第二出料管；盖体，盖体用于封闭釜体的顶端开口；双封头结构，双封头结构包括第一封头、第二封头和连接环，第一封头的边缘与连接环的外圈固连，第二封头的边缘与连接环的内圈固连，且第一封头与第二封头之间形成有半球形腔体，连接环上均布有多个通料口，第一封头的边缘与釜体的底端开口固定且密封连接，第一封头上设置有进料管和第一出料管；染色组件，染色组件包括染色底座和若干个固设在染色底座上的染色轴管。连接环上的通料口均匀分布，釜体中的向下流动的流体能够均匀地流向各个通料口，从而提高了釜体中流体分布的均匀性。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及纺织品印染，特别是涉及一种染色釜。
技术介绍
1、超临界co2无水染色技术作为一种新型的染色技术已经取得阶段性进展，对其工艺条件、染色机理以及染色设备的联合探索研究已经较为成熟。跟常规水浴染色相比，超临界co2流体染色全过程无水、无助剂并且价格低廉，具有上染速度快、上染率高的优势，染色完成后剩余的染料和系统内co2可回收循环利用，真正在染整中做到了零排放无污染，充分体现了清洁化、绿色化、环保化的现代生产理念。
2、超临界co2流体染色技术主要凭借co2两个对称极性键的线性非极性分子，独特的四极矩结构强烈影响着其热动力学性质，通过相似相容原理，在超临界状态下co2流体可以溶解非极性或低极性原粉染料，并携带着染料分子对织物进行染色。超临界二氧化碳无水染色系统中，染色釜是非常重要的一种设备，用于供纤维上染并贮存的容器，其本身结构和流体分布均匀性直接影响织物染色匀染度。
3、现有的超临界co2流体染色釜普遍采用下进上出的形式，釜体的顶部某一处设置有出口，这样釜体中的流体向出口处汇聚，使得釜体中的流体流场分布不均匀，导致染色织物匀染度较差，亟需开发一种染色釜，从根本上解决流体流场分布不均匀的问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是提供一种染色釜，以解决上述现有技术存在的问题，提高染色釜中流体流场分布的均匀性。
2、为实现上述目的，本专利技术提供了如下方案：
3、本专利技术提供一种染色釜，包括：
4、支架；
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p>5、固设在所述支架上的釜体，所述釜体的顶端和底端都设置有开口，所述釜体的顶端侧壁设置有第二出料管；6、盖体，所述盖体用于封闭所述釜体的顶端开口；
7、双封头结构，所述双封头结构包括第一封头、第二封头和连接环，所述第一封头和所述第二封头都为半球形壳体，所述第一封头的半径大于所述第二封头的半径，所述第一封头的边缘与所述连接环的外圈固连，所述第二封头的边缘与所述连接环的内圈固连，所述第一封头和所述第二封头都开口朝上，且所述第一封头与所述第二封头之间形成有半球形腔体，所述连接环上均布有多个通料口，所述通料口将所述半球形腔体与所述釜体的内腔连通，所述第一封头的边缘与所述釜体的底端开口固定且密封连接，所述第一封头上设置有进料管和第一出料管，所述进料管的顶端穿过所述第二封头并连接有流体均布器，所述进料管的底端位于所述釜体外，所述第一出料管一端位于所述釜体外、另一端与所述半球形腔体连通；
8、染色组件，所述染色组件包括染色底座和若干个固设在所述染色底座上的染色轴管，所述染色轴管的中空、顶端闭口且底端开口，所述染色底座上对应每个所述染色轴管设置有通孔，所述通孔与对应的所述染色轴管的底端开口连通，所述染色轴管的侧壁设置有多个出料孔，所述染色底座能够架设在所述第二封头的开口处，且所述染色底座与所述第二封头之间密封连接。
9、优选的，所述盖体的底面固设有密封圈，所述盖体盖设在所述釜体的顶端开口时所述密封圈的边缘夹设在所述盖体和所述釜体之间。
10、优选的，还包括箍环，所述箍环包括两个半圆环形的子箍环，两个所述子箍环能够通过螺栓紧固连接；
11、所述釜体的顶端设置有第一环状外凸部，所述盖体的顶端设置有第二环状外凸部，所述盖体盖设在所述釜体的顶端开口时所述第二环状外凸部的底面与所述第一环状外凸部的顶面贴合；每个所述子箍环的内壁都设置有半环形槽，所述第一环状外凸部的厚度和所述第二环状外凸部的厚度之和与所述半环形槽的宽度相等，所述箍环用于套设在所述第一环状外凸部和所述第二环状外凸部上。
12、优选的，所述釜体的中部还设置有测温管。
13、优选的，所述第二封头的内壁的顶端固设有密封环，所述密封环能够与所述染色底座的侧部抵接。
14、优选的，所述染色组件还包括吊装组件，所述吊装组件包括固定轴、转轴、固定环和吊环，所述固定轴的底端与所述染色底座的中心固连，所述转轴的底部与所述固定轴的顶部螺纹连接，所述连接环固设在所述转轴的顶端，所述吊环上螺纹连接有连接螺栓，且所述连接螺栓穿过所述固定环，所述吊环能够相对所述固定环转动。
15、优选的，所述染色轴管竖直设置，全部所述染色轴管均匀分布。
16、优选的，所述进料管竖直设置，所述第一出料管和所述第二出料管都倾斜设置，所述第一出料管远离所述第一封头的一端低于所述第一出料管的另一端，所述第二出料管远离所述釜体的一端低于所述第二出料管的另一端。
17、本专利技术相对于现有技术取得了以下技术效果：
18、本专利技术的染色釜在使用时釜体内向下流动的流体能够通过连接环上的通料口流向流入半球形腔体中，最终通过第一出料管流出，由于连接环上的通料口沿连接环的周向均匀分布，故能够使得釜体中的向下流动的流体均匀地流向各个通料口，从而提高了釜体中流体分布的均匀性。
19、进一步的，本专利技术的染色釜在使用时具有下进上出流场和下进下出两种流场分布形式，能够适用于多种染色工艺。
20、进一步的，下进上出流场具体为超临界co2流体由进料管进入流体均布器，流体由流体均布器流出后进入若干染色轴管，流体由染色轴管均匀扩散于染色釜内，流体向上流动由第二出料管流出。
21、进一步的，下进下出流场为超临界co2流体由进料管进入流体均布器，超临界co2流体由流体均布器流出后进入若干染色轴管，通过流体均布器使得超临界co2流体进入每根染色轴管的流量与流速一致；流体由多个染色轴管均匀扩散于染色釜内，向下流动的流体由连接环上的通料口流入半球形腔体中，最终通过第一出料管流出。
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【技术保护点】
1.一种染色釜，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的染色釜，其特征在于：所述盖体的底面固设有密封圈，所述盖体盖设在所述釜体的顶端开口时所述密封圈的边缘夹设在所述盖体和所述釜体之间。
3.根据权利要求1所述的染色釜，其特征在于：还包括箍环，所述箍环包括两个半圆环形的子箍环，两个所述子箍环能够通过螺栓紧固连接；
4.根据权利要求1所述的染色釜，其特征在于：所述釜体的中部还设置有测温管。
5.根据权利要求1所述的染色釜，其特征在于：所述第二封头的内壁的顶端固设有密封环，所述密封环能够与所述染色底座的侧部抵接。
6.根据权利要求1所述的染色釜，其特征在于：所述染色组件还包括吊装组件，所述吊装组件包括固定轴、转轴、固定环和吊环，所述固定轴的底端与所述染色底座的中心固连，所述转轴的底部与所述固定轴的顶部螺纹连接，所述连接环固设在所述转轴的顶端，所述吊环上螺纹连接有连接螺栓，且所述连接螺栓穿过所述固定环，所述吊环能够相对所述固定环转动。。
7.根据权利要求1所述的染色釜，其特征在于：所述染色轴管竖直设置，全部所述染色轴管均匀分布。
8.根据权利要求1所述的染色釜，其特征在于：所述进料管竖直设置，所述第一出料管和所述第二出料管都倾斜设置，所述第一出料管远离所述第一封头的一端低于所述第一出料管的另一端，所述第二出料管远离所述釜体的一端低于所述第二出料管的另一端。
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【技术特征摘要】
1.一种染色釜，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的染色釜，其特征在于：所述盖体的底面固设有密封圈，所述盖体盖设在所述釜体的顶端开口时所述密封圈的边缘夹设在所述盖体和所述釜体之间。
3.根据权利要求1所述的染色釜，其特征在于：还包括箍环，所述箍环包括两个半圆环形的子箍环，两个所述子箍环能够通过螺栓紧固连接；
4.根据权利要求1所述的染色釜，其特征在于：所述釜体的中部还设置有测温管。
5.根据权利要求1所述的染色釜，其特征在于：所述第二封头的内壁的顶端固设有密封环，所述密封环能够与所述染色底座的侧部抵接。
6.根据权利要求1所述的染色釜，其特征在于：所述染...
【专利技术属性】
技术研发人员：景显东，蔡晋，姜涛，张宏雷，
申请(专利权)人：中昊光明化工研究设计院有限公司，
类型：发明
国别省市：
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