【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于八氟环丁烷纯化，具体涉及一种提纯系统、利用提纯系统对液态八氟环丁烷粗品进行纯化的方法。
技术介绍
1、八氟环丁烷作为气体蚀刻剂和气体清洗剂，被广泛用于大规模集成电路中的干法蚀刻工序和等离子体增强化学气相沉积(pecvd)工序。八氟环丁烷具有适宜的碳/氟比，可以平衡等离子体刻蚀过程中刻蚀速率和沉积速率，提高各向异性刻蚀比例，改善芯片cd值(关键尺寸)的均匀性。随着科技的发展，半导体芯片制程从微米向纳米转换，芯片尺寸变得更小，堆叠密度更大，电路线宽也变得越来越细。为了得到更高精度的电路图形以及更高的良率，对刻蚀气体和清洁气体即八氟环丁烷纯度的要求也变得越来越严苛，采用纯度达到5n以上的八氟环丁烷才能制备得到纳米级芯片。
2、目前，纯化八氟环丁烷的方法主要有精馏法、化学转化法和吸附法，但是采用目前的纯化方法纯化得到的八氟环丁烷纯度很难达到5n。例如专利cn1212171a和cn107098793a中公开了利用精馏技术纯化八氟环丁烷粗品的方法，但由于八氟环丁烷粗品中含有多种与八氟环丁烷共沸的杂质，采用精馏技术很难除去这
【技术保护点】
1.一种提纯系统，包括原料容器(1)；
2.根据权利要求1所述提纯系统，其特征在于，所述吸附单元(9)连接有吹扫单元(10)和抽真空单元(11)；
3.根据权利要求1所述提纯系统，其特征在于，所述第一吸附塔(2)内设置的吸附剂包括碳材料吸附剂或改性碳材料吸附剂；所述碳材料吸附剂包括树脂基活性炭、椰壳活性炭或煤基活性炭。
4.根据权利要求1所述提纯系统，其特征在于，所述第二吸附塔(3)内设置的吸附剂包括MFI型分子筛或改性MFI型分子筛。
5.根据权利要求1所述提纯系统，其特征在于，所述第三吸附塔(4)内设置的吸附剂包括A...
【技术特征摘要】
1.一种提纯系统，包括原料容器(1)；
2.根据权利要求1所述提纯系统，其特征在于，所述吸附单元(9)连接有吹扫单元(10)和抽真空单元(11)；
3.根据权利要求1所述提纯系统，其特征在于，所述第一吸附塔(2)内设置的吸附剂包括碳材料吸附剂或改性碳材料吸附剂；所述碳材料吸附剂包括树脂基活性炭、椰壳活性炭或煤基活性炭。
4.根据权利要求1所述提纯系统，其特征在于，所述第二吸附塔(3)内设置的吸附剂包括mfi型分子筛或改性mfi型分子筛。
5.根据权利要求1所述提纯系统，其特征在于，所述第三吸附塔(4)内设置的吸附剂包括a型分子筛或改性a型分子筛。
6.利用权利要求1～5任一项所述的提纯系统对液态八氟环丁烷粗品进行纯化的方法，包括以下步骤：
7.根据权利要求6所...
【专利技术属性】
技术研发人员：王刚，任少科，李子宽，苏耀华，祝全仁，董涛，高天龙，于枫，郭宇姝，
申请(专利权)人：中昊光明化工研究设计院有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。