【技术实现步骤摘要】
本技术属于半导体制造设备，具体涉及一种锗单晶片自动清洗装置。
技术介绍
1、锗是重要的半导体材料，可用于太阳能电池、雷达、红外激光器等。在具体应用时，先由矿物原料中提炼出高纯度的锗单晶棒，之后再切片、铣磨加工成锗单晶片。锗单晶片的表面质量要求极高，需要对其表面进行充分地清洗。当前对于锗单晶片的清洗步骤较为繁琐，其中可能包括多道不同种类溶液的浸泡和多道冲洗步骤。在各步骤之间大多需要由人工来负责转运，较为费时费力。
技术实现思路
1、针对现有技术中存在的不足，本技术提供了一种锗单晶片自动清洗装置，用以提升锗片清洗的自动化程度，减少人工干预。
2、本技术通过以下技术手段实现上述技术目的。
3、一种锗单晶片自动清洗装置，设有一能够安置锗单晶片的转盘，转盘可旋转，转盘上方设有用于冲洗锗单晶片的喷头，转盘侧边设有可升降的围栏，其中围栏升起时与转盘之间构成用于浸泡锗单晶片的溶液槽，转盘中心开孔并在下方连接管轴，所述开孔处设有能够开闭的密封塞，所述管轴与溶液输送机构相连。
4、进一步地，所述密封塞与所述围栏相联动，密封塞随围栏升起时打开，随围栏落下时关闭。
5、进一步地，所述密封塞侧边设有若干支杆，支杆边缘设有用于挂在围栏上的挂钩，当围栏升至最高点时，围栏抵住挂钩将密封塞抬起打开。
6、进一步地，所述围栏上设有滑移架，滑移架内开设有滑槽，所述挂钩滑动连接在所述滑槽内，其中当围栏升至最高点时，滑移架底部挂起所述挂钩使密封塞抬起打开，当围栏落
7、进一步地，所述管轴下端可转动地连接进出液阀，进出液阀为三通阀；所述溶液输送机构包括若干组溶液储罐，每组溶液储罐中包括一个储罐和一个回收罐，若干储罐分别经管道汇总连接至输送泵，且各储罐之间设有阀门用于择一与输送泵相连通，输送泵连接至进出液阀；若干回收罐分别进管道汇总连接至进出液阀，且各回收罐之间设有阀门用于择一与进出液阀相连通。
8、进一步地，所述溶液储罐设有两组，两个储罐分别连接至进液三通阀，并经进液三通阀连接至输送泵，两个回收罐分别连接至出液三通阀，并经出液三通阀连接至进出液阀。
9、进一步地，所述转盘设置在水池内，水池底部开孔并连接废水箱，所述喷头与清水箱相连，清水箱内设有水泵。
10、进一步地，所述转盘表面设有十字形结构的防滑架，防滑架用于承托锗单晶片。
11、进一步地，所述围栏由电机或气缸驱动升降。
12、进一步地，所述管轴与转盘电机相连，转盘电机驱动转盘旋转。
13、本技术的有益效果为：
14、(1)本技术提供了一种锗单晶片自动清洗装置，能够同时执行浸泡和冲洗任务，实现锗单晶片的自动化清洗功能。
15、(2)本技术锗单晶片自动清洗装置针对多道不同种类溶液浸泡任务，通过设置多组溶液储罐，并配合阀门择一通断，解决相应技术问题。
16、(3)本技术中利用可升降的围栏使得转盘转变为能够容纳溶液浸泡锗单晶片的水槽，每次浸泡所需注入的溶液量相对较少，避免资源浪费。
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1.一种锗单晶片自动清洗装置，其特征在于：包括一方形壳体(1)，在壳体(1)顶部设有水池(2)，水池(2)内设有设有一能够安置锗单晶片的转盘(3)，转盘(3)可旋转，转盘(3)上方设有用于冲洗锗单晶片的喷头(4)，转盘(3)侧边设有可升降的围栏(34)，其中围栏(34)升起时与转盘(3)之间构成用于浸泡锗单晶片的溶液槽，转盘(3)中心开孔并在下方连接管轴(32)，所述开孔处设有能够开闭的密封塞(35)，所述管轴(32)与溶液输送机构相连，所述管轴(32)下端可转动地连接进出液阀(51)，进出液阀(51)为三通阀；所述溶液输送机构包括若干组溶液储罐，每组溶液储罐中包括一个储罐和一个回收罐，若干储罐分别经管道汇总连接至输送泵(5)，且各储罐之间设有阀门用于择一与输送泵(5)相连通，输送泵(5)连接至进出液阀(51)；若干回收罐分别进管道汇总连接至进出液阀(51)，且各回收罐之间设有阀门用于择一与进出液阀(51)相连通。
2.根据权利要求1所述的锗单晶片自动清洗装置，其特征在于：所述密封塞(35)与所述围栏(34)相联动，密封塞(35)随围栏(34)升起时打开，随围栏(34
3.根据权利要求2所述的锗单晶片自动清洗装置，其特征在于：所述密封塞(35)侧边设有若干支杆(36)，支杆(36)边缘设有用于挂在围栏(34)上的挂钩，当围栏(34)升至最高点时，围栏(34)抵住挂钩将密封塞(35)抬起打开。
4.根据权利要求3所述的锗单晶片自动清洗装置，其特征在于：所述围栏(34)上设有滑移架(37)，滑移架(37)内开设有滑槽，所述挂钩滑动连接在所述滑槽内，其中当围栏(34)升至最高点时，滑移架(37)底部挂起所述挂钩使密封塞(35)抬起打开，当围栏(34)落至最低点时，滑移架(37)顶部向下按压挂钩使密封塞(35)封堵所述开孔。
5.根据权利要求1所述的锗单晶片自动清洗装置，其特征在于：所述溶液储罐设有两组，两个储罐分别连接至进液三通阀(52)，并经进液三通阀(52)连接至输送泵(5)，两个回收罐分别连接至出液三通阀(53)，并经出液三通阀(53)连接至进出液阀(51)。
6.根据权利要求1所述的锗单晶片自动清洗装置，其特征在于：所述水池(2)底部开孔并连接废水箱(21)，所述喷头(4)与清水箱(41)相连，清水箱(41)内设有水泵。
7.根据权利要求1所述的锗单晶片自动清洗装置，其特征在于：所述转盘(3)表面设有十字形结构的防滑架(33)，防滑架(33)用于承托锗单晶片。
8.根据权利要求1所述的锗单晶片自动清洗装置，其特征在于：所述围栏(34)由电机或气缸驱动升降。
9.根据权利要求1所述的锗单晶片自动清洗装置，其特征在于：所述管轴(32)与转盘电机(31)相连，转盘电机(31)驱动转盘(3)旋转。
...【技术特征摘要】
1.一种锗单晶片自动清洗装置，其特征在于：包括一方形壳体(1)，在壳体(1)顶部设有水池(2)，水池(2)内设有设有一能够安置锗单晶片的转盘(3)，转盘(3)可旋转，转盘(3)上方设有用于冲洗锗单晶片的喷头(4)，转盘(3)侧边设有可升降的围栏(34)，其中围栏(34)升起时与转盘(3)之间构成用于浸泡锗单晶片的溶液槽，转盘(3)中心开孔并在下方连接管轴(32)，所述开孔处设有能够开闭的密封塞(35)，所述管轴(32)与溶液输送机构相连，所述管轴(32)下端可转动地连接进出液阀(51)，进出液阀(51)为三通阀；所述溶液输送机构包括若干组溶液储罐，每组溶液储罐中包括一个储罐和一个回收罐，若干储罐分别经管道汇总连接至输送泵(5)，且各储罐之间设有阀门用于择一与输送泵(5)相连通，输送泵(5)连接至进出液阀(51)；若干回收罐分别进管道汇总连接至进出液阀(51)，且各回收罐之间设有阀门用于择一与进出液阀(51)相连通。
2.根据权利要求1所述的锗单晶片自动清洗装置，其特征在于：所述密封塞(35)与所述围栏(34)相联动，密封塞(35)随围栏(34)升起时打开，随围栏(34)落下时关闭。
3.根据权利要求2所述的锗单晶片自动清洗装置，其特征在于：所述密封塞(35)侧边设有若干支杆(36)，支杆(36)边缘设有用于挂在围栏(34)上的挂钩，当围栏(34)升至最高点时，围栏(34)抵住挂钩...
【专利技术属性】
技术研发人员：姜炜，李静，李轩，吴彤，朱雪锋，伏彪，周品，顾佳玉，沙海涛，王天逸，周全法，
申请(专利权)人：江苏宁达环保股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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