【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及原料锗清洗,具体涉及一种原料锗的清洗装置及其清洗方法。
技术介绍
1、锗晶体生长时,要加入大量的锗原料。锗原料长时间暴露空气引入的氧化物及加工过程中锗料切断面引入的金属杂质离子,在晶体生长过程中不可避免的引起晶变和电学参数控制偏差的问题。所以锗原料的腐蚀、清洗工序在实际锗生产中占有重要地位。
2、如中国专利公开号为cn111136059b,该专利文献所公开的技术方案如下:清洗装置包括用于盛放待清洗原料锗和清洗液的清洗槽、用于对待清洗原料锗进行喷淋的花洒装置、用于对清洗槽进行加热的加热炉盘和引水装置,清洗槽的顶部开口,花洒装置位于清洗槽的上方,且其喷头位置与顶部开口位置对应,引水装置的一端与水源控制接通,另一端与花洒装置内部控制接通,加热炉盘位于清洗槽的下方,清洗槽设有控制排液口;清洗方法包括利用该清洗装置对原料锗进行清洗。
3、现有技术存在以下问题:现有技术通过清洗液喷淋的方式进行清洗。存在着清洗时间短、氧化层去除不彻底等问题,同时由于原料锗表面并不平整,同时当清洗液接触原料锗表面的坑洼处时,会产生
...【技术保护点】
1.一种原料锗的清洗方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.一种原料锗的清洗装置,包括:桶体(1)其特征在于:所述桶体(1)的顶部固定安装有桶盖(2),所述桶体(1)底部四角的位置分别固定连接有支撑腿(3),所述桶盖(2)顶部靠近正面的位置固定连接有进料口(4),所述桶盖(2)的内部开设有第二空腔(201),所述桶体(1)底部靠近正面的位置固定连接有出料口(5),所述桶体(1)的内部设置搅拌机构(6),所述搅拌机构(6)包括有伺服电机(601),所述伺服电机(601)固定连接在桶盖(2)的顶部,所述伺服电机(601)的输出端通过联轴器固定连接有转杆(602)
...【技术特征摘要】
1.一种原料锗的清洗方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.一种原料锗的清洗装置,包括:桶体(1)其特征在于:所述桶体(1)的顶部固定安装有桶盖(2),所述桶体(1)底部四角的位置分别固定连接有支撑腿(3),所述桶盖(2)顶部靠近正面的位置固定连接有进料口(4),所述桶盖(2)的内部开设有第二空腔(201),所述桶体(1)底部靠近正面的位置固定连接有出料口(5),所述桶体(1)的内部设置搅拌机构(6),所述搅拌机构(6)包括有伺服电机(601),所述伺服电机(601)固定连接在桶盖(2)的顶部,所述伺服电机(601)的输出端通过联轴器固定连接有转杆(602),且转杆(602)贯穿桶盖(2)的顶部延伸至桶体(1)的内部,所述转杆(602)的底部固定连接有u字形刮板(603)。
3.根据权利要求2所述的一种原料锗的清洗装置,其特征在于:所述u字形刮板(603)的内壁固定连接有环形螺旋搅拌叶(604)。
4.根据权利要求3所述的一种原料锗的清洗装置,其特征在于:所述桶盖(2)顶部处于伺服电机(601)两侧的位置分别固定连接有l字形固定板(605),且l字形固定板(605)与伺服电机(601)的外壁固定连接。
5.根据权利要求4所述的一种原料锗的清洗...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈琦,吴彤,岳喜龙,姜炜,李静,伏彪,李栋,王亲猛,许志鹏,
申请(专利权)人:江苏宁达环保股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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