一种非线性光学晶体的激光预处理方法技术

技术编号:41209600 阅读:33 留言:0更新日期:2024-05-09 23:31
本发明专利技术属于激光预处理技术领域,具体涉及一种非线性光学晶体的激光预处理方法。本发明专利技术采用光子能量为Eg/2~Eg的激光对非线性光学晶体进行辐照,Eg为晶体的禁带宽度。本发明专利技术基于双光子吸收的激光预处理方法比基于三光子吸收的激光预处理的效率有极大提高。由实施例、对比例及现有技术对比,结果表明,本发明专利技术采用比355nm弱很多的266nm的激光,在激光功率密度只有0.13GW/cm<supgt;2</supgt;的条件下,比预处理前的零概率体损伤阈值提升120%。而且本发明专利技术基于双光子吸收的KDP晶体激光预处理除了具有比三光子吸收激光预处理更高的预处理效率外,还有比三光子吸收激光预处理在提升晶体体损伤阈值上更大的潜力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于激光预处理,具体涉及一种非线性光学晶体的激光预处理方法


技术介绍

1、非线性人工晶体在激光器和大型强激光装置中都是必不可少的关键光学元件。磷酸二氢钾(简称kdp)非线性光学晶体,及其它晶格结构相似的同类晶体,比如不同氘代率的氘代磷酸二氢钾(简称dkdp),磷酸二氢氨(简称adp)等是目前得到广泛应用的重要的非线性人工晶体。这些晶体在激光装置中通常被作为倍频元件或者电光开关元件,需要经常暴露于强激光的辐照之下。当照射到晶体表面的激光强度i(单位为w/cm2)大于一定的阈值(体损伤阈值ith)之后,激光将会在晶体内部形成不可逆转的损伤,使非线性人工晶体丧失应有的基本功能,从而使激光器的功能丧失。因此,kdp及其同类晶体抗强激光损伤的能力,即体损伤阈值ith的大小,是其非常重要的性能指标之一。

2、为了提升kdp及其同类晶体抗强激光损伤的能力,人们在过去40年研发了一种称为激光预处理的技术。这种技术的基本方法是,假设未处理的kdp及其同类晶体的体损伤阈值为ith_i,如果用激光强度大于ith_i的激光直接辐照晶体,将会造成晶体内部不可本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种非线性光学晶体的激光预处理方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的激光预处理方法,其特征在于,所述激光的波长为165~305nm。

3.根据权利要求2所述的激光预处理方法,其特征在于,所述激光的波长为266nm。

4.根据权利要求1或2所述的激光预处理方法,其特征在于,所述激光由激光器产生,所述激光器为固体激光器或准分子激光器。

5.根据权利要求1所述的激光预处理方法,其特征在于,所述非线性光学晶体包括磷酸二氢钾、氘代磷酸二氢钾或磷酸二氢氨。

6.根据权利要求1所述的激光预处理方法,其特征在于,所述激光...

【技术特征摘要】

1.一种非线性光学晶体的激光预处理方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的激光预处理方法,其特征在于,所述激光的波长为165~305nm。

3.根据权利要求2所述的激光预处理方法,其特征在于,所述激光的波长为266nm。

4.根据权利要求1或2所述的激光预处理方法,其特征在于,所述激光由激光器产生,所述激光器为固体激光器或准分子激光器。

5.根据权利要求1所述的激光预处理方法,其特征在于,所述非线性光学晶体包括磷酸二氢钾、氘代磷酸二氢钾或磷酸二氢氨。

6.根据权利要求1所述的激光预处理方法,其特征在于,所述激光的脉冲宽度为0.3~40ns或100fs~1...

【专利技术属性】
技术研发人员:洪伟魏列宁郑万国雷向阳朱启华柴向旭粟敬钦蒋晓东周松周信达刘红婕郑垠波周维民张智猛黄进崔波孟令彪
申请(专利权)人:中国工程物理研究院激光聚变研究中心
类型:发明
国别省市:

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