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本发明属于激光预处理技术领域，具体涉及一种非线性光学晶体的激光预处理方法。本发明采用光子能量为Eg/2～Eg的激光对非线性光学晶体进行辐照，Eg为晶体的禁带宽度。本发明基于双光子吸收的激光预处理方法比基于三光子吸收的激光预处理的效率有极大提...
该专利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心所有，仅供学习研究参考，未经过中国工程物理研究院激光聚变研究中心授权不得商用。

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