【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显微检测领域，特别是光学检测设备。
技术介绍
1、缺陷检测通常是指对样品表面的缺陷进行检测，缺陷包括但不限于外来污染物，样品表面的非正常突起，样品表面的划痕，样品表面的凹槽，样品表面特定图案结构的变形等。缺陷检测在各种工业生产中有着大量的需求，例如集成电路、显示面板、玻璃和金属制品等领域。特别是集成电路生产中，晶圆表面缺陷检测是必不可少的关键工艺流程之一，准确检测出带有缺陷的不合格晶圆，可以大幅提高产品的良率。
2、为了更全面的对晶圆进行检测，现有的光学检测设备对晶圆分别进行明场环境的检测和暗场环境的检测。在暗场环境下的检测光学暗场显微技术是检测样品表面缺陷的主要方法。光学暗场显微技术是一种结构简单、无标签、高实时性的检测手段，其特点是只收集待检测对象的散射光进行成像，而不收集样品表面反射或透射的照明光，黑暗的背景和明亮的目标信号在检测图像中形成明显的对比。
3、在晶圆检测过程中当从明场环境换至暗场环境，或从暗场环境换至明场环境时，需要将晶圆移动到不同的检测工位，这样检测过程复杂、检测效率低。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是提供光学检测设备，以解决现有技术中的不足，它能够使明场成像的各个部件和暗场成像的各个部件之间不产生相互的干扰，明场成像和暗场成像能够实现分别独立的成像；在明场检测和暗场检测之间切换的过程中只需要对光源进行调整，可以根据需要控制相应的光源，更方便的实现了明场检测和暗场检测的切换，提高了检测效率。
2、本专利技
3、物镜，具有明场光通道和暗场光通道；
4、明场光照单元，包括明场分光单元和向待测物提供明场入射光束的明场光源，明场入射光束经过明场分光单元反射后进入所述明场光通道；
5、暗场光照单元，包括向待测物出射暗场入射光束的暗场光源、棱镜模块和暗场分光单元；所述棱镜模块和所述暗场分光单元沿所述暗场入射光束的传输方向依次设置；所述棱镜模块用于将暗场光源出射的暗场入射光束变换成环形光斑，环形光斑经暗场分光单元反射后进入所述暗场光通道；
6、所述暗场分光单元包括环形分光镜和设置在环形分光镜中心位置的穿孔，所述穿孔位于明场入射光束的传输路径上。
7、进一步的，所述棱镜模块包括凹面锥镜、设置于凹面锥镜中心位置的凸面锥镜，所述凸面锥镜的中心与所述环形反光镜中心位置的所述穿孔位置相对；
8、暗场入射光束经所述凸面锥镜反射后至所述凹面锥镜，所述凹面锥镜将暗场入射光束反射至所述环形分光镜。
9、进一步的，所述凸面锥镜可沿所述凹面锥镜的轴向方向移动调节。
10、进一步的，所述棱镜模块与所述暗场光源位于所述环形反光镜的相对两侧；
11、所述环形反光镜具有暗场反光面，所述明场分光单元具有明场反光面，所述暗场反光面的朝向方向与所述明场反光面的朝向方向相互垂直。
12、进一步的，所述棱镜模块包括沿暗场入射光束传输路径依次设置的单面凹透镜和单面凸透镜，所述单面凹透镜朝背离所述单面凸透镜的方向凹设；所述单面凸透镜朝单面凹透镜所在方向突伸设置；
13、暗场入射光束依次经所述单面凹透镜及所述单面凸透镜折射后形成环形光斑照射在所述环形分光镜上。
14、进一步的，暗场入射光束沿所述单面凹透镜的轴向方向照射于所述单面凹透镜。
15、进一步的，所述单面凹透镜与所述单面凸透镜之间的间距可调。
16、进一步的，所述单面凸透镜与所述环形分光镜之间还具有聚焦透镜。
17、进一步的，所述棱镜模块与所述暗场光源位于所述环形反光镜的同侧；
18、所述环形反光镜具有暗场反光面，所述明场分光单元具有明场反光面，所述暗场反光面的朝向方向与所述明场反光面的朝向方向相同。
19、进一步的，所述光学检测设备还包括图像采集单元，所述图像采集单元用于接收待测物反射的出射光束并最终形成待测物图像；出射光束经所述明场分光单元的透射后进入到所述图像采集单元。
20、与现有技术相比，本专利技术通过棱镜模块的设置能够生成环形光斑，环形光斑在经过环形分光镜反射后反射至物镜的暗场光通道内以形成照射在待测物上的暗场检测光；由于在环形分光镜的中心位置设置穿孔，并且穿孔位于明场入射光束的传输路径上，从而使明场成像的各个部件和暗场成像的各个部件之间不产生相互的干扰，明场成像和暗场成像能够实现分别独立的成像；在光学检测过程中在明场检测和暗场检测之间切换的过程中只需要完成对光源的调整，可以根据需要控制相应的光源，更方便的实现了明场检测和暗场检测的切换，提高了检测效率。
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1.一种光学检测设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光学检测设备，其特征在于：所述棱镜模块包括凹面锥镜、设置于凹面锥镜中心位置的凸面锥镜，所述凸面锥镜的中心与所述环形反光镜中心位置的所述穿孔位置相对；
3.根据权利要求2所述的光学检测设备，其特征在于：所述凸面锥镜可沿所述凹面锥镜的轴向方向移动调节。
4.根据权利要求2所述的光学检测设备，其特征在于：所述棱镜模块与所述暗场光源位于所述环形反光镜的相对两侧；
5.根据权利要求1所述的光学检测设备，其特征在于：所述棱镜模块包括沿暗场入射光束传输路径依次设置的单面凹透镜和单面凸透镜，所述单面凹透镜朝背离所述单面凸透镜的方向凹设；所述单面凸透镜朝单面凹透镜所在方向突伸设置；
6.根据权利要求5所述的光学检测设备，其特征在于：暗场入射光束沿所述单面凹透镜的轴向方向照射于所述单面凹透镜。
7.根据权利要求6所述的光学检测设备，其特征在于：所述单面凹透镜与所述单面凸透镜之间的间距可调。
8.根据权利要求5所述的光学检测设备，其特征在于：所述单面凸透
9.根据权利要求5所述的光学检测设备，其特征在于：所述棱镜模块与所述暗场光源位于所述环形反光镜的同侧；
10.根据权利要求1至7任一项所述的光学检测设备，其特征在于，所述光学检测设备还包括图像采集单元，所述图像采集单元用于接收待测物反射的出射光束并最终形成待测物图像；出射光束经所述明场分光单元的透射后进入到所述图像采集单元。
...【技术特征摘要】
1.一种光学检测设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光学检测设备，其特征在于：所述棱镜模块包括凹面锥镜、设置于凹面锥镜中心位置的凸面锥镜，所述凸面锥镜的中心与所述环形反光镜中心位置的所述穿孔位置相对；
3.根据权利要求2所述的光学检测设备，其特征在于：所述凸面锥镜可沿所述凹面锥镜的轴向方向移动调节。
4.根据权利要求2所述的光学检测设备，其特征在于：所述棱镜模块与所述暗场光源位于所述环形反光镜的相对两侧；
5.根据权利要求1所述的光学检测设备，其特征在于：所述棱镜模块包括沿暗场入射光束传输路径依次设置的单面凹透镜和单面凸透镜，所述单面凹透镜朝背离所述单面凸透镜的方向凹设；所述单面凸透镜朝单面凹透镜所在方向突伸设置；
...【专利技术属性】
技术研发人员：李小虎，朱婧，熊星，刘梦茹，
申请(专利权)人：苏州华兴源创科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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