阴离子型施胶剂用硼酸酯乳化剂及其制备方法和应用技术

本发明专利技术公开了一种阴离子型施胶剂用硼酸酯乳化剂及其制备方法和应用，属于施胶剂技术领域。本发明专利技术制备了一种阴离子硼酸酯乳化剂，分子式为：BHy(O‑R1‑O‑(CH2)m‑N((CH2)mOH)2)n；式中，R1为羟甲基、羟乙基或羟丙基，m＝1‑10，n＝1‑3，y＝3‑n。本发明专利技术的阴离子型施胶剂用硼酸酯乳化剂与AKD一起制备阴离子型施胶剂时，其用量仅为AKD质量的3‑8％，远低于市售阳离子乳化剂的用量；且本发明专利技术制备的阴离子型施胶剂平均粒径小、粒径分布窄，稳定性、抗水性能优异。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及施胶剂，具体涉及一种阴离子型施胶剂用硼酸酯乳化剂及其制备方法和应用。

技术介绍

1、施胶是在纸或纸板的制备过程中加入施胶剂产品使其获得抗拒流体渗透的性能，即经施胶后的纸张会具有一定抗水、抗油墨等性能，与此同时，纸张的平滑度、强度等性能也会有一定程度的提高。

2、施胶剂的种类繁多，根据来源不同，可分为天然类施胶剂、合成聚合物类施胶剂。天然类施胶剂主要有淀粉、壳聚糖、动植物胶、纤维素、半纤维素和石蜡等，合成聚合物类施胶剂主要有烷基烯酮二聚体(akd)、烯烃基琥珀酸酐(asa)聚丙烯酰胺(pam)、苯乙烯-马来酸酐聚合物(sma)、水性聚氨酯胶乳(pud)和苯乙烯-丙烯酸酯聚合物(sae)，其中用量最大、适用范围最广的为akd。

3、中国专利技术专利cn115305743a公开了一种阳离子分散松香施胶剂，其制备原料包括复合乳化剂、松香、松香衍生物、水和稳定剂；所述复合乳化剂由阳离子乳化剂和非离子乳化剂组成，其中阳离子乳化剂为季铵盐类，包括十六烷基三甲基溴化铵、十六烷基三甲基氯化铵、十二烷基二甲基苄基氯化铵的一种或多种；非离子本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.阴离子型施胶剂用硼酸酯乳化剂，其特征在于，分子式为：

2.如权利要求1所述的阴离子型施胶剂用硼酸酯乳化剂的制备方法，其特征在于，将多元醇和醇胺投入反应釜中，于80-200℃下搅拌进行酯化反应，得到中间产物；待温度降至80-150℃时加入硼酸，搅拌制得硼酸酯乳化剂。

3.如权利要求2所述的阴离子型施胶剂用硼酸酯乳化剂的制备方法，其特征在于，所述多元醇为丙三醇、丙二醇、乙二醇和山梨醇中的一种或几种；所述醇胺为一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、三丙醇胺和十二烷基二乙醇胺中的一种或几种。

4.如权利要求2所述的阴离子型施胶剂用硼酸酯乳化剂的制备方法，其特征在于...

【技术特征摘要】

1.阴离子型施胶剂用硼酸酯乳化剂，其特征在于，分子式为：

2.如权利要求1所述的阴离子型施胶剂用硼酸酯乳化剂的制备方法，其特征在于，将多元醇和醇胺投入反应釜中，于80-200℃下搅拌进行酯化反应，得到中间产物；待温度降至80-150℃时加入硼酸，搅拌制得硼酸酯乳化剂。

3.如权利要求2所述的阴离子型施胶剂用硼酸酯乳化剂的制备方法，其特征在于，所述多元醇为丙三醇、丙二醇、乙二醇和山梨醇中的一种或几种；所述醇胺为一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、三丙醇胺和十二烷基二乙醇胺中的一种或几种。

4.如权利要求2所述的阴离子型施胶剂用硼酸酯乳化剂的制备方法，其特征在于，所述多元醇与醇胺的摩尔比为1-3:1。

5.如权利要求2所述的阴离子型施胶剂用硼酸酯乳化剂的制备方法，其特征在于，所述中间产物与硼酸的摩尔比为1:0.2-0.5。

6.如权利要求2所述的阴离子型施胶剂用硼酸酯乳化剂的制备方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：王嘉，李甜甜，曹海娟，王源理，
申请(专利权)人：烟台融晟新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：