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背照式CCD阵列光谱仪标准具效应的校正方法技术

技术编号:4116548 阅读:613 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种背照式CCD阵列光谱仪标准具效应的校正方法。该方法包括测量标准具效应光谱和待测物质光谱,然后根据标准具效应光谱和待测物质光谱的特征计算补偿光谱,最后将补偿光谱从待测物质光谱扣除。本发明专利技术从光谱软处理的角度对光谱进行校正,在不降低光谱仪量子效率的情况下,完全消除了标准具效应的影响,提高了该类型光谱仪的准确性。可用于实验室光谱仪日常校正,也可用于在线光谱仪的校正。这对基于背照式光谱仪的实验室光谱分析和工业生产在线光谱分析有着重要意义。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光谱仪校正方法,尤其是背照式CCD阵列光谱仪标准具效应 (Etaloning effect)的校正方法。
技术介绍
光谱仪是一种用于检测电磁谱中特定区域的光特性的仪器。它将收集的光进行光 谱色散,最后将光信号重构为一系列的单色影像,从而对其进行检测。通过光谱仪对光信息 获取、然后进行分析,可以得到和物质组成相关的信息。这种技术被广泛的应用于工业领 域。 光谱仪通常有色散型和傅立叶变换型两大类。采用光栅进行色散的原理使得色散 型光谱仪获取数据的时间远小于FT-Raman。目前色散型光谱仪一般采用CCD阵列作为检测 器。色散型CCD阵列光谱仪根据入射光进入CCD检测器方向的不同,可分为前照式CCD阵 列光谱仪和背照式CCD阵列光谱仪。前照式CCD阵列光谱仪在感光时,入射光从MOS结构 的正面进入,即由带有复杂的电极结构的Si02层射入,其厚度一般在600微米左右,光通过 时损失较大。背照式CCD阵列光谱仪与此相反,光子由MOS结构的背面Si层射入。由于器 件的背面没有复杂的电极结构,通常只有10 20微米厚度,故能获得较高的量子效率,提 高了 CCD器件感光的灵敏度。因此本文档来自技高网...

【技术保护点】
背照式CCD阵列光谱仪标准具效应的校正方法,包括如下步骤:    1)用钨卤光源或荧光物质测取光谱仪标准具效应光谱A;    2)用最小二乘法对光谱仪标准具效应特征光谱A进行多项式拟合,得到光谱仪标准具效应光谱基线B;    3)根据步骤1)得到的光谱仪标准具效应光谱和步骤2)中的光谱基线,按式(1)计算光谱仪标准具效应特征曲线T;    T=(A-B)/B  ---------(1)    4)测量待测物质光谱S;    5)根据待测物质光谱S和标准具效应特征曲线T计算补偿光谱曲线P;    设:Si、Ti、Pi分别为S、T、P在第i个像素点的值,根据算式Ci=Si*Ti/(1+Ti)计算C...

【技术特征摘要】
背照式CCD阵列光谱仪标准具效应的校正方法,包括如下步骤1)用钨卤光源或荧光物质测取光谱仪标准具效应光谱A;2)用最小二乘法对光谱仪标准具效应特征光谱A进行多项式拟合,得到光谱仪标准具效应光谱基线B;3)根据步骤1)得到的光谱仪标准具效应光谱和步骤2)中的光谱基线,按式(1)计算光谱仪标准具效应特征曲线T;T=(A-B)/B---------(1)4)测量待测物质光谱S;5)...

【专利技术属性】
技术研发人员:阮华戴连奎包鑫
申请(专利权)人:浙江大学
类型:发明
国别省市:86[]

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