一种真空室抗弯转结构制造技术

本技术公开了一种真空室抗弯转结构，属于真空烧结炉设备领域，包括一个真空室本体；以及真空室本体的一侧设有一个加热室，加热室可将真空室本体套设在内；真空室本体的下方设有一组支撑架机构。本技术的真空室抗弯转结构，具有真空室支撑时可旋转，增加加热表面积，提高抗弯性能的优点通过设置的两个上部滚轮与中心滚轮之间的滚动配合，以及设置的调节条对两个上部滚轮的间距调节，最终实现了对真空室本体进行的旋转夹持，通过设置的真空室本体的旋转式加热，相较于传统的固定支架式加热，旋转加热的方式使得真空室本体的整体受热面积更为均匀，有效的减少了真空室本体在加热时产生的高温形变，延长了设备的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于真空烧结炉设备领域，具体涉及一种真空室抗弯转结构。

技术介绍

1、真空烧结炉主要用于高性能精密合金、磁性材料、电力电子器件等的精密烧结等工艺，通过将材料放入至烧结炉所具有的真空室内，并通过对真空室进行加热达到烧结效果。

2、目前行业内生产的同类产品中，真空室多是通过支撑架体固定在加热室的一侧，通过将真空室置入加热室内，通过加热室完成对真空室的加热，该过程被称为炉体加热工艺，而现有炉体加热工艺过程中，由于真空室是固定不动的，长期的加热下，会导致烧结炉所具有的真空室受热不均并产生轻微的形变，长时间积累下，真空室前端会明显出现向下弯曲的现象，造成真空腔及炉腔的损坏，降低设备使用寿命，因此，提出一种真空室抗弯转结构解决上述问题。

技术实现思路

1、针对现有技术的以上缺陷或改进需求中的一种或者多种，本技术提供了一种真空室抗弯转结构，具有真空室支撑时可旋转，增加加热表面积，提高抗弯性能的优点。

2、为实现上述目的，本技术提供一种真空室抗弯转结构，包括一个真空室本体；以及

3、本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种真空室抗弯转结构，其特征在于，包括一个真空室本体（1）；以及

2.根据权利要求1所述的真空室抗弯转结构，其特征在于，所述推杆电机（33）输出端连接设有一个电机推杆（34），所述电机推杆（34）贯穿安装箱（32）底部与所述调节条（36）相连接。

3.根据权利要求1所述的真空室抗弯转结构，其特征在于，所述安装箱（32）内通过螺栓件固定设有两个限位块（35）以及两个限位座（38），两个所述限位块（35）与两个所述限位座（38）之间均具有间距，所述调节条（36）滑动于两个限位块（35）与两个限位座（38）之间，所述限位块（35）与所述限位座（38）呈直线设置。...

【技术特征摘要】

1.一种真空室抗弯转结构，其特征在于，包括一个真空室本体（1）；以及

2.根据权利要求1所述的真空室抗弯转结构，其特征在于，所述推杆电机（33）输出端连接设有一个电机推杆（34），所述电机推杆（34）贯穿安装箱（32）底部与所述调节条（36）相连接。

3.根据权利要求1所述的真空室抗弯转结构，其特征在于，所述安装箱（32）内通过螺栓件固定设有两个限位块（35）以及两个限位座（38），两个所述限位块（35）与两个所述限位座（38）之间均具有间距，所述调节条（36）滑动于两个限位块（35）与两个限位座（38）之间，所述限位块（35）与所述限位座（38）呈直线设置。

4.根据权利要求1所述的真空室抗弯转结构，其特征在于，两个所述调节曲柄（310）的下端部均固...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘洋，杨昆宁，李娜，
申请(专利权)人：青岛精诚华旗微电子设备有限公司，
类型：新型
国别省市：