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本技术公开了一种真空室抗弯转结构,属于真空烧结炉设备领域,包括一个真空室本体;以及真空室本体的一侧设有一个加热室,加热室可将真空室本体套设在内;真空室本体的下方设有一组支撑架机构。本技术的真空室抗弯转结构,具有真空室支撑时可旋转,增加加热表...该专利属于青岛精诚华旗微电子设备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过青岛精诚华旗微电子设备有限公司授权不得商用。
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