【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示，特别是一种掩膜版及其制备方法、蒸镀设备。
技术介绍
1、oled(organic light-emitting diode，有机发光二极管)面板主要采用蒸镀方式，将发光材料沉积到tft(thin film transistor，薄膜晶体管)电路之上。常用蒸镀治具，例如精密金属掩膜版fmm(fine metal mask)，一般通过刻蚀工艺在金属板上形成蒸镀孔。然而，随着窄边框需求逐渐升高，现有精密金属掩膜版已难以达到制备需求。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是提供一种掩膜版及其制备方法、蒸镀设备，以解决现有精密金属掩膜版中的缺陷。
2、为实现上述目的，本专利技术提供一种掩膜版，掩膜版具有蒸镀区、遮挡区以及过渡区，遮挡区围绕至少部分蒸镀区，过渡区位于蒸镀区与遮挡区之间。掩膜版包括主体部、蒸镀孔、过渡部以及遮挡部。主体部位于蒸镀区。蒸镀孔位于蒸镀区，且贯穿主体部。过渡部与主体部连接，并位于过渡区中。遮挡部与过渡部连接，并位于遮挡区中。过渡部靠近主体部的一端的...
【技术保护点】
1.一种掩膜版，其特征在于，具有蒸镀区、遮挡区以及过渡区，所述遮挡区围绕至少部分所述蒸镀区，所述过渡区位于所述蒸镀区与所述遮挡区之间；
2.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述蒸镀孔的数量为多个，多个所述蒸镀孔包括与所述过渡部相邻的所述第一蒸镀孔和位于所述第一蒸镀孔远离所述过渡部一侧的第二蒸镀孔，所述第一蒸镀孔靠近所述过渡部的一侧的侧壁与所述第一蒸镀孔远离所述过渡部的一侧的侧壁对称设置；
3.如权利要求1或2所述的掩膜版，其特征在于，所述过渡部具有斜面，由所述主体部指向所述遮挡部的方向，所述过渡部的厚度逐渐增大；
4.如权利要...
【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，其特征在于，具有蒸镀区、遮挡区以及过渡区，所述遮挡区围绕至少部分所述蒸镀区，所述过渡区位于所述蒸镀区与所述遮挡区之间；
2.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述蒸镀孔的数量为多个，多个所述蒸镀孔包括与所述过渡部相邻的所述第一蒸镀孔和位于所述第一蒸镀孔远离所述过渡部一侧的第二蒸镀孔，所述第一蒸镀孔靠近所述过渡部的一侧的侧壁与所述第一蒸镀孔远离所述过渡部的一侧的侧壁对称设置；
3.如权利要求1或2所述的掩膜版，其特征在于，所述过渡部具有斜面，由所述主体部指向所述遮挡部的方向，所述过渡部的厚度逐渐增大；
4.如权利要求1或2所述的掩膜版，其特征在于，...
【专利技术属性】
技术研发人员：付佳，徐玉枫，许智鹏，褚晓甜，范柳彬，冯士振，葛一飞，陈源源，周皓月，刘颖，赵晶晶，
申请(专利权)人：云谷固安科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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