【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于自旋电子领域，具体涉及一种基于反铁磁bimeron产生磁子频率梳的方法。
技术介绍
1、磁子频率梳是一种独特的自旋波谱，其特点是一系列均匀间隔的频率峰，类似于梳齿。磁子是磁性材料中的自旋波量子。先前的研究表明，产生磁子频率梳涉及非线性散射现象，通常涉及拓扑磁性孤子，如skyrmions、vortices和domain walls。为了扩展应用领域，有必要探索能够产生具有附加特性的磁子频率梳的新型磁性材料和结构。
2、磁性bimeron由一个meron和一个anti-meron组成，中间由一个条纹磁域分隔，可以被视为奈尔型skyrmion旋转到平面方向的纹理。因此，bimeron表现出一系列与skyrmion类似的特性，比如都可以通过自旋电流和磁场驱动。
3、最近的研究表明，在反铁磁体中，通过极化磁子与skyrmion的非线性散射，可以产生太赫兹频率的磁子频率梳。然而磁子与反铁磁bimeron之间的非线性相互作用的问题尚未解决，磁子与bimeron散射是否能够产生磁子频率梳也尚未得知。
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【技术保护点】
1.一种基于反铁磁Bimeron产生磁子频率梳的方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种基于反铁磁Bimeron产生磁子频率梳的方法，其特征在于，S1中所述反铁磁薄膜的材料参数为：交换作用常数Aex＝3.295pJ/m，各向异性常数Ku＝1.16×105J/m3，界面DM相互作用常数D＝0.7mJ/m2，饱和磁化强度Ms＝3.76×105A/m，吉尔伯特阻尼常数α＝1×10-3，反铁磁薄膜的尺寸为1000×1000×1nm3；然后在反铁磁薄膜中心通过翻转磁矩的方法产生一个磁性Bimeron。
3.根据权利要求2所述的一种基...
【技术特征摘要】
1.一种基于反铁磁bimeron产生磁子频率梳的方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种基于反铁磁bimeron产生磁子频率梳的方法，其特征在于，s1中所述反铁磁薄膜的材料参数为：交换作用常数aex＝3.295pj/m，各向异性常数ku＝1.16×105j/m3，界面dm相互作用常数d＝0.7mj/m2，饱和磁化强度ms＝3.76×105a/m，吉尔伯特阻尼常数α＝1×10-3，反铁磁薄膜的尺寸为1000×1000×1nm3；然后在反铁磁薄膜中心通过翻转磁矩的方法产生一个磁性bimeron。
3.根据权利要求2所述的一种基于反铁磁bimeron产生磁子频率梳的方法，其特征在于，s2计算得到的自旋波的频率范围为：在反铁磁薄膜中当自旋波沿x方向...
【专利技术属性】
技术研发人员：张春喜，金哲珺雨，刘雪娟，严鹏，
申请(专利权)人：电子科技大学，
类型：发明
国别省市：
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