【技术实现步骤摘要】
本技术涉及镀镆机，具体为一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机用放样装置。
技术介绍
1、磁控溅射技术，是一种通过涉及气态等离子体的沉淀技术，在镀膜时，将需要镀膜材料准备好，将等离子气体与需要镀膜的材料处于同一空间之中，利用高能离子将材料表面进行侵蚀，使得原子能够沉积在基板的表面上并形成薄膜，我们在对材料进行镀膜时，需要一种放样装置把材料放入镀膜机中。
2、根据专利网公开的一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机(授权公告号为：cn207498461u)中所描述“一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机，涉及一种镀镆机，所述镀镆机包括有真空室、支撑真空室的机台、置于机台内部的电器控制系统及真空室的上盖、均布于上盖上的三个磁控靶，上盖上连接有两支气压支撑杆，真空室后面设有抽气管，抽气管中设有节流阀，抽气管的后端通过气动插板阀与分子泵相接，分子泵的排气口通过波纹管连接于机械泵；真空室上盖上面均布三只磁控靶，每只靶头上，均设有独立的挡板机构；真空室前面设有玻璃观察窗；真空室右面，设有辅助照明的引入接口。该镀膜机为一体式结构，外接水、电、气即可工作，用户只需设置好若干参数，例如镀镆时间、并放样、取样等，就可以全自动运行。”
3、针对上述描述内容，申请人认为存在以下问题：
4、该技术在使用过程中，通过设置的编制好的运行程序，用户只需设置好若干参数(例如镀镆时间)、并放样、取样，就可以全自动运行。但是在实际使用时，用户放置材料时需要经常把手伸入箱体，视线不够开阔，不便于放置材料，且材料上沾染有灰尘，会使镀膜效果减弱，容易使镀层脱落，
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机用放样装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机用放样装置，包括箱体，所述箱体内部滑动安装有置物板，所述箱体内部设置有置物机构，所述箱体外部设置有吸尘机构；
3、所述置物机构包括推拉组件和旋转加热组件，所述推拉组件设置在置物板背部，所述旋转加热组件设置在置物板底部。
4、优选的，所述推拉组件包括动力盒，所述动力盒固定安装在箱体内部，所述动力盒内部固定安装有电动推杆一，所述电动推杆一输出端固定安装有齿条一，所述箱体内部固定安装有固定板，所述固定板内部转动安装有转轴一，所述转轴一外部固定安装有齿轮一，所述固定板内部转动安装有转轴二，所述转轴二外部固定安装有齿轮二，所述转轴二外部固定安装有连杆一，所述连杆一远离转轴二的一端转动安装有固定扣，所述箱体内部滑动安装有齿条二，利用推拉组件把置物板推出，无需手动按压置物板，置物板被推出箱体，视线开阔，便于放置材料。
5、优选的，所述齿条一滑动安装在箱体内部，所述齿轮一与齿条一和齿条二啮合，所述齿轮二与齿条二啮合，所述固定扣滑动安装在置物板背部，利用齿条二带动齿轮二转动，从而使连杆一把置物板推出，方便放置材料。
6、优选的，所述旋转加热组件包括电动推杆二，所述电动推杆二固定安装在置物板底部，所述置物板底部固定安装有滑轨，所述电动推杆二输出端固定安装有滑动块，所述滑动块底部转动安装有连杆二，所述连杆二远离滑动块的一端转动安装有圆盘，所述圆盘远离连杆二的一端固定安装有旋转台，所述置物板顶部设置有加热丝，利用旋转加热组件对需要镀膜的材料进行旋转加热，等温度达到溅射条件后，正式开始溅射，无需人工手动操作，省时省力。
7、优选的，所述滑动块滑动安装在滑轨外部，所述圆盘顶部固定安装有连接轴，且置物板与连接轴对应位置处开设有通孔，且连接轴穿过通孔与旋转台固定安装，通过控制圆盘转动使旋转台转动，从而使材料进行旋转加热。
8、优选的，所述吸尘机构包括收集盒，所述收集盒固定安装在箱体右侧，所述收集盒内部活动安装有抽屉，所述收集盒右侧固定安装有吸风机，所述收集盒顶部固定安装有进风管，所述进风管远离收集盒的一端固定安装有吸风口，使镀层不形成在灰尘表面，增强镀膜效果，防止镀层脱落。
9、优选的，所述箱体与进风管对应位置处开设有通孔，且进风管穿过通孔与吸风口固定安装，利用吸风机通过吸风口把材料上的灰尘吸附走，利用收集盒把灰尘收集，便于统一处理。
10、与现有技术相比，本技术提供了一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机用放样装置，具备以下有益效果：
11、1.该小型真空磁控三靶溅射镀镆机用放样装置，通过设置的置物机构，在使用过程中，利用推拉组件把置物板推出，置物板被推出箱体，视线开阔，便于放置材料，利用旋转加热组件对需要镀膜的材料进行旋转加热，等温度达到溅射条件后，正式开始溅射，无需人工手动操作，省时省力。
12、2.该小型真空磁控三靶溅射镀镆机用放样装置，通过设置的吸尘机构，在使用过程中，打开阀门，利用吸风机通过吸风口把材料上的灰尘吸附走，使镀层不形成在灰尘表面，增强镀膜效果，防止镀层脱落，利用收集箱把灰尘收集，便于统一处理。
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1.一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机用放样装置，包括箱体(1)，其特征在于：所述箱体(1)内部滑动安装有置物板(2)，所述箱体(1)内部设置有置物机构(3)，所述箱体(1)外部设置有吸尘机构(4)；
2.根据权利要求1所述的一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机用放样装置，其特征在于：所述推拉组件(31)包括动力盒(311)，所述动力盒(311)固定安装在箱体(1)内部，所述动力盒(311)内部固定安装有电动推杆一(312)，所述电动推杆一(312)输出端固定安装有齿条一(313)，所述箱体(1)内部固定安装有固定板(314)，所述固定板(314)内部转动安装有转轴一(315)，所述转轴一(315)外部固定安装有齿轮一(316)，所述固定板(314)内部转动安装有转轴二(317)，所述转轴二(317)外部固定安装有齿轮二(318)，所述转轴二(317)外部固定安装有连杆一(319)，所述连杆一(319)远离转轴二(317)的一端转动安装有固定扣(3110)，所述箱体(1)内部滑动安装有齿条二(3111)。
3.根据权利要求2所述的一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机用放样
4.根据权利要求1所述的一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机用放样装置，其特征在于：所述旋转加热组件(32)包括电动推杆二(321)，所述电动推杆二(321)固定安装在置物板(2)底部，所述置物板(2)底部固定安装有滑轨(322)，所述电动推杆二(321)输出端固定安装有滑动块(323)，所述滑动块(323)底部转动安装有连杆二(324)，所述连杆二(324)远离滑动块(323)的一端转动安装有圆盘(325)，所述圆盘(325)远离连杆二(324)的一端固定安装有旋转台(326)，所述置物板(2)顶部设置有加热丝(327)。
5.根据权利要求4所述的一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机用放样装置，其特征在于：所述滑动块(323)滑动安装在滑轨(322)外部，所述圆盘(325)顶部固定安装有连接轴，且置物板(2)与连接轴对应位置处开设有通孔，且连接轴穿过通孔与旋转台(326)固定安装。
6.根据权利要求1所述的一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机用放样装置，其特征在于：所述吸尘机构(4)包括收集盒(41)，所述收集盒(41)固定安装在箱体(1)右侧，所述收集盒(41)内部活动安装有抽屉(42)，所述收集盒(41)右侧固定安装有吸风机(43)，所述收集盒(41)顶部固定安装有进风管(44)，所述进风管(44)远离收集盒(41)的一端固定安装有吸风口(45)。
7.根据权利要求6所述的一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机用放样装置，其特征在于：所述箱体(1)与进风管(44)对应位置处开设有通孔，且进风管(44)穿过通孔与吸风口(45)固定安装。
...【技术特征摘要】
1.一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机用放样装置，包括箱体(1)，其特征在于：所述箱体(1)内部滑动安装有置物板(2)，所述箱体(1)内部设置有置物机构(3)，所述箱体(1)外部设置有吸尘机构(4)；
2.根据权利要求1所述的一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机用放样装置，其特征在于：所述推拉组件(31)包括动力盒(311)，所述动力盒(311)固定安装在箱体(1)内部，所述动力盒(311)内部固定安装有电动推杆一(312)，所述电动推杆一(312)输出端固定安装有齿条一(313)，所述箱体(1)内部固定安装有固定板(314)，所述固定板(314)内部转动安装有转轴一(315)，所述转轴一(315)外部固定安装有齿轮一(316)，所述固定板(314)内部转动安装有转轴二(317)，所述转轴二(317)外部固定安装有齿轮二(318)，所述转轴二(317)外部固定安装有连杆一(319)，所述连杆一(319)远离转轴二(317)的一端转动安装有固定扣(3110)，所述箱体(1)内部滑动安装有齿条二(3111)。
3.根据权利要求2所述的一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机用放样装置，其特征在于：所述齿条一(313)滑动安装在箱体(1)内部，所述齿轮一(316)与齿条一(313)和齿条二(3111)啮合，所述齿轮二(318)与齿条二(3111)啮合，所述固定扣(3110)滑动安装在置物板(2)背部。
4.根据权利要求1所述的一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机用放样装置，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：董顺，
申请(专利权)人：沈阳鹏程真空技术有限责任公司，
类型：新型
国别省市：
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