一种小型台式真空多靶镀膜机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种小型台式真空多靶镀膜机,包括底架、真空室、上盖、磁控靶，所述底架、真空室、均布于磁控靶，所述上盖连接两支气压支撑杆，所述上盖上设置有门锁和折页，所述真空室上设置有分子泵，且所述分子泵通过气动插板阀连接于真空室的抽气口上，所述真空室的内部有旋转加热样品台；本实用新型专利技术针对实验室条件研发制造，整机十分小巧，只需外接水、电、气就具备工作条件、本机电控系统采用PLC+触摸屏控制，有预先编制好的运行程序，用户只需设置好若干参数，例如镀膜时间、并放样、取样，就可以全自动运行，本机有完善的自检系统，如缺水检测、真空压力不达标检测等，并用警告音及时提醒用户，以保护设备安全。以保护设备安全。以保护设备安全。

【技术实现步骤摘要】
一种小型台式真空多靶镀膜机


[0001]本技术涉及真空镀膜设备
，具体为一种小型台式真空多靶镀膜机。

技术介绍

[0002]磁控溅射镀膜设备，可以制备各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等纳米级的单层及多层功能膜。但现有的仪器电气控制较为简单，多采用人工手动操作，操作者必须经过专业的培训，才能掌握复杂的操作技能。为此，我们研发了一款小型自动多靶磁控溅射镀膜设备，解决了上述问题。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种小型台式真空多靶镀膜机。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种小型台式真空多靶镀膜机,包括底架、真空室、上盖、磁控靶，所述底架、真空室、均布于磁控靶，所述上盖连接两支气压支撑杆，所述上盖上设置有门锁和折页，所述真空室上设置有分子泵，且所述分子泵通过气动插板阀连接于真空室的抽气口上，所述真空室的内部有旋转加热样品台。
[0005]优选的，所述磁控靶设置有多个，且所述磁控靶设置在上盖上，所述磁控靶以上盖为环形设置，且每个所述磁控靶上，均设有独立的挡板机构，溅射的靶挡板打开，正式开始溅射，溅射到设定时间后系统自动关闭。
[0006]优选的，所述真空室前面设有玻璃观察窗，且玻璃观察窗设在在真空室的中间位置。
[0007]优选的，所述旋转加热样品台的内部安装铠装加热盘。
[0008]优选的，所述真空室底部设置有底架，且所述底架上安装设有防滑颗粒，且所述防滑颗粒上开设有防滑颗粒。
[0009]优选的，所述真空室后面设有抽气管，所述抽气管的后端通过气动插板阀与分子泵相接。
[0010]优选的，所述门锁和折页之间活动连接。
[0011]与现有技术相比，本技术的有益效果是：本技术针对实验室条件研发制造，整机十分小巧，只需外接水、电、气就具备工作条件、本机电控系统采用PLC+触摸屏控制，有预先编制好的运行程序，用户只需设置好若干参数，例如镀膜时间、并放样、取样，就可以全自动运行，本机有完善的自检系统，如缺水检测、真空压力不达标检测等，并用警告音及时提醒用户，以保护设备安全。
附图说明
[0012]图1为本技术主视图；
[0013]图2为本技术俯视图；
[0014]图3为本技术的左视图。
[0015]图中标号：1、旋转加热样品台；2、真空室；3、上盖；4、磁控靶；5、折页；6、门锁；7、底架。
具体实施方式
[0016]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0017]请参阅图1
‑
3，本技术提供一种技术方案：一种小型台式真空多靶镀膜机,包括底架7、真空室2、上盖3、磁控靶4，底架7、真空室2、均布于磁控靶4，上盖3连接两支气压支撑杆，上盖3上设置有门锁6和折页5，门锁6和折页5之间活动连接，真空室2上设置有分子泵，且分子泵通过气动插板阀连接于真空室2的抽气口上，真空室2底部设置有底架7，且底架7上安装设有防滑颗粒，且防滑颗粒上开设有防滑颗粒，真空室2后面设有抽气管，抽气管的后端通过气动插板阀与分子泵相接，真空室2的内部有旋转加热样品台1，旋转加热样品台1的内部安装铠装加热盘。
[0018]真空室2前面设有玻璃观察窗，且玻璃观察窗2设在在真空室2的中间位置；便于观察内部的情况。
[0019]磁控靶4设置有多个，且磁控靶4设置在上盖3上，磁控靶4以上盖为环形设置，且每个磁控靶4上，均设有独立的挡板机构；
[0020]工作原理：首先真空室2清洗、基片清洗、靶材安装、设置参数、放置基片等准备工作预先做好后，关闭真空室2，按下自动溅射，系统会首先打开机械泵，抽气计时开始，当十分钟后，真空室2的真空度到3Pa，此时，分子泵启动，开始抽本底真空，30分钟后真空室2的真空度达到6
×
10
－4
Pa，即本底真空完成；如果30分钟后，真空室2的真空度没能达到6
×
10
－4
Pa，系统认为真空室有漏点，停机并蜂鸣报警，提醒用户排除故障，下一步，系统控制节流阀调整到一个合适的角度，再控制质量流量计充入一定量的工艺气体，把真空室2的真空度稳定在设定值，根据工艺设定，启动铠装加热盘，等温度达到设定值后，此时已满足溅射条件，开启电源进行预溅射，预溅射一段时间，且时间可以设定，旋转加热台样品台1转动，当前溅射的靶挡板打开，正式开始溅射，溅射到设定时间后系统自动关闭，整个溅射流程结束。
[0021]尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种小型台式真空多靶镀膜机,包括底架(7)、真空室(2)、上盖(3)、磁控靶(4)，其特征在于：所述底架(7)、真空室(2)、均布于磁控靶(4)，所述上盖(3)连接两支气压支撑杆，所述上盖(3)上设置有门锁(6)和折页(5)，所述真空室(2)上设置有分子泵，且所述分子泵通过气动插板阀连接于真空室(2)的抽气口上，所述真空室(2)的内部有旋转加热样品台(1)。2.根据权利要求1所述的一种小型台式真空多靶镀膜机，其特征在于：所述磁控靶(4)设置有多个，且所述磁控靶(4)设置在上盖(3)上，所述磁控靶(4)以上盖为环形设置，且每个所述磁控靶(4)上，均设有独立的挡板机构。3.根据权利要求1所述的一种小型台式真空多靶镀膜机...

【专利技术属性】
技术研发人员：董顺，
申请(专利权)人：沈阳鹏程真空技术有限责任公司，
类型：新型
国别省市：