【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及ald设备温度控制,特别涉及一种基于权重分配和pid算法的ald设备温度控制系统及方法。
技术介绍
1、由于ald技术原理,ald设备通常具有一个真空反应腔。随着对产能、效率等要求越来越高,真空反应腔的体积变得越来越大,同时对温度均匀性的要求也越来越高。但是,随着反应腔体积增加,真空保持难度也随之上升,同时加热功率也不断提升,加热功率提升后,加热惯性变得更大,从而使腔内温度更加不均匀。
2、现有技术针对此现象有两种解决方案:1、为了提高温度均匀性,增加更多温度控制单元,从而减少每个控制单元分配到的加热惯性。通过更密集的温度反馈和加热控制,来提高每一小块区域控温的精度和响应速度,从而减少温度阶梯,提高温度均匀性。但这个技术带来的问题是,需要更多的大量的对外接线口,这使真空保持难度大大增加。2、不增加控制单元,对于加热惯性引起的温度阶梯,通过通入氮气,靠氮气的热传递来均衡各区域温度。这种方式由于没有新增更多对外接线口,所以可以不增加真空保持难度,但氮气的热传递效率较低,需要很长的时间才能达到温度均匀的目的。尤其,由
...【技术保护点】
1.一种基于权重分配和PID算法的ALD设备温度控制系统,其特征在于,包括输出层、反馈层、权重分配层和PID控制层,所述输出层包括设置在多个温区内的多个加热棒,所述反馈层包括设置在多个温区内的多个热电偶,所述热电偶用于反馈温区区域温度及加热棒本体温度,所述权重分配层包括多个权重分配单元,所述权重分配层将温区的直接反馈和所述PID控制层的反馈需求隔离开,所述PID控制层包括多个PID控制单元,所述PID控制层运用经过温区权重再分配后的区域温度反馈和加热棒的本体温度反馈实现串级PID控制。
2.一种基于权重分配和PID算法的ALD设备温度控制方法,其特征在于,
...【技术特征摘要】
1.一种基于权重分配和pid算法的ald设备温度控制系统,其特征在于,包括输出层、反馈层、权重分配层和pid控制层,所述输出层包括设置在多个温区内的多个加热棒,所述反馈层包括设置在多个温区内的多个热电偶,所述热电偶用于反馈温区区域温度及加热棒本体温度,所述权重分配层包括多个权重分配单元,所述权重分配层将温区的直接反馈和所述pid控制层的反馈需求隔离开,所述pid控制层包括多个pid控制单元,所述pid控制层运用经过温区权重再分配后的区域温度反馈和加热棒的本体温度反馈实现串级pid控制。
【专利技术属性】
技术研发人员:田京波,宣荣卫,
申请(专利权)人:艾华无锡半导体科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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