【技术实现步骤摘要】
本申请涉及到电池，尤其涉及到一种自动浸泡清洗设备。
技术介绍
1、随着单晶行业的不断发展，生产过程中会产生大量的循环硅料，这些硅料通过浸泡柜进行hf(氢氟酸)浸泡，浸泡完成后再进行装篮过混酸“人工清洗”或“自动清洗机”可以循环利用，降低生产成本和资源浪费。单晶硅圆棒通过切方切成方棒后会产生很多边皮、头尾、反切等一些氧化循环硅料和一些污垢循环硅料，这些会影响循环硅料的再利用，因此需要对它进行清洗。传统的循环硅料清洗方法可能会存在一些问题，比如清洗不彻底、清洗效率低等。因此，一些企业开始研发新的清洗设备。其中，清洗机被广泛应用于循环硅料清洗领域。这种设备可以对循环硅料进行彻底的清洗，有效地去除污垢，从而让循环硅料重新恢复使用价值。使用清洗机清洗循环硅料的技术背景、
的发展以及市场应用情况都非常广泛。当前单晶硅料清洗行业处理氧化、脏污等硅料均使用浸泡柜进行hf(氢氟酸)浸泡，浸泡完成后再进行装篮过混酸“人工清洗”或“自动清洗机”。
2、循环硅料清洗技术是目前半导体制造过程中非常重要的一个环节，能够有效地提高硅片的质量和生产效率。该技术是将圆方棒切除的边皮、头尾、反切硅料等浸泡在氢氟酸中，通过浸泡和装篮过混酸的方式将硅料表面的杂质和污渍去除，从而达到清洁表面的效果。在该领域，目前已经有了许多类似的方案。其中比较经典的是单台清洗机的方案，这种方案最早应用于光刻胶涂布之前的清洗工艺。此外，还有一些高端清洗机型号，能够实现更加复杂的清洗任务，如深紫外光(duv)镜片的清洗，以及晶圆杂质的去除等。除了机器，一些大型公司也在研究
3、1.自动化程度较低，人工搬运量大，人员的劳动强度相对较高；2.由浸泡到酸洗需要进行倒料换篮动作，较为繁琐；3.无法同时满足混酸清洗，王水浸泡。4.使用氢氟酸浸泡会导致废气和废液的产生，对环境和人健康造成极大危害。5.人工清洗或自动清洗机清洗方式过程中也难逃操作不当带来的人为因素问题。
技术实现思路
1、本申请提供了一种自动浸泡清洗设备，用以降低清洗成本和出错率，提高清洗效率。
2、本申请提供了一种自动浸泡清洗设备，包括：浸泡槽，漂洗槽，硅料吊装机构以及控制器，其中，
3、所述浸泡槽，用于对待清洗硅料进行酸液腐蚀浸泡；
4、所述漂洗槽，用于对酸液腐蚀浸泡后的所述待清洗硅料进行漂洗；
5、所述硅料吊装机构，用于对所述待清洗硅料进行吊装传送；
6、所述控制器，用于根据设定的浸泡清洗工艺控制所述待清洗硅料的自动清洗。
7、在上述技术方案中，通过设置浸泡槽，漂洗槽，硅料吊装机构以及控制器，其中，所述浸泡槽，用于对待清洗硅料进行酸液腐蚀浸泡；所述漂洗槽，用于对酸液腐蚀浸泡后的所述待清洗硅料进行漂洗；所述硅料吊装机构，用于对所述待清洗硅料进行吊装传送；所述控制器，用于根据设定的浸泡清洗工艺控制所述待清洗硅料的自动清洗；采用的化学溶液浸泡清洗方式，相对于传统的机械清洗方式，能够更加专业地清洗循环硅料，避免了机械清洗带来的二次污染问题；自动化程度更高，设备的清洗效率也大大提高，减少了人员操作次数；提升安全系数，人员减低酸环境接触，降低了人工劳动强度。
8、在一个具体的可实施方案中，所述漂洗槽内设置有曝气机构，用于对酸液腐蚀浸泡后的所述待清洗硅料进行漂洗。
9、在一个具体的可实施方案中，还包括沥水槽，用于对漂洗后的所述待清洗硅料进行沥水。
10、在一个具体的可实施方案中，还包括排风机构，用于将化学反应产生的烟雾经排风管到输送至酸雾处理塔进行处理。
11、在一个具体的可实施方案中，所述浸泡槽内设置有hf入口。
12、在一个具体的可实施方案中，所述浸泡槽内设置有hno3入口。
13、在一个具体的可实施方案中，所述浸泡槽内设置有hcl入口。
14、在一个具体的可实施方案中，还包括清洗篮，每个所述清洗篮内设置多个内框。
15、在一个具体的可实施方案中，还包括漏液排放机构，用于溢出的酸液进行收集排放。
16、在一个具体的可实施方案中，还包括酸液排放机构和废水排放机构。
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1.一种自动浸泡清洗设备，其特征在于，包括：浸泡槽，漂洗槽，硅料吊装机构以及控制器，其中，
2.根据权利要求1所述的自动浸泡清洗设备，其特征在于，所述漂洗槽内设置有曝气机构，用于对酸液腐蚀浸泡后的所述待清洗硅料进行漂洗。
3.根据权利要求1所述的自动浸泡清洗设备，其特征在于，还包括沥水槽，用于对漂洗后的所述待清洗硅料进行沥水。
4.根据权利要求1所述的自动浸泡清洗设备，其特征在于，还包括排风机构，用于将化学反应产生的烟雾经排风管到输送至酸雾处理塔进行处理。
5.根据权利要求1所述的自动浸泡清洗设备，其特征在于，所述浸泡槽内设置有HF入口。
6.根据权利要求1所述的自动浸泡清洗设备，其特征在于，所述浸泡槽内设置有HNO3入口。
7.根据权利要求1所述的自动浸泡清洗设备，其特征在于，所述浸泡槽内设置有HCL入口。
8.根据权利要求1所述的自动浸泡清洗设备，其特征在于，还包括清洗篮，每个所述清洗篮内设置多个内框。
9.根据权利要求1～8任一项所述的自动浸泡清洗设备，其特征在于，还包括漏液排放
10.根据权利要求9所述的自动浸泡清洗设备，其特征在于，还包括酸液排放机构和废水排放机构。
...【技术特征摘要】
1.一种自动浸泡清洗设备，其特征在于，包括：浸泡槽，漂洗槽，硅料吊装机构以及控制器，其中，
2.根据权利要求1所述的自动浸泡清洗设备，其特征在于，所述漂洗槽内设置有曝气机构，用于对酸液腐蚀浸泡后的所述待清洗硅料进行漂洗。
3.根据权利要求1所述的自动浸泡清洗设备，其特征在于，还包括沥水槽，用于对漂洗后的所述待清洗硅料进行沥水。
4.根据权利要求1所述的自动浸泡清洗设备，其特征在于，还包括排风机构，用于将化学反应产生的烟雾经排风管到输送至酸雾处理塔进行处理。
5.根据权利要求1所述的自动浸泡清洗设备，其特征在于，所...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨光冉，
申请(专利权)人：天合光能股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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