【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及镀膜生产控制，尤其是涉及一种磁控溅射镀膜设备、系统及镀膜检测方法。
技术介绍
1、目前，玻璃采用磁控溅射镀膜技术进行镀膜操作，具体为在镀膜生产线上设置的多个真空镀膜室，采用预设的多层材质对玻璃进行溅射沉积而形成镀膜玻璃。
2、相关技术中，在实际镀膜操作时，操作人员预先设置初始的镀膜工艺参数，放置待镀膜玻璃在镀膜生产线的入口上片台，等到玻璃走过整个镀膜线到达镀膜生产线的出口台后，操作人员才能从光度计获取到实验片的测量数据。操作人员根据该测量数据再修正镀膜工艺参数，之后再继续放置下一个待镀膜玻璃，多次重复这一过程，才能够确定玻璃的膜层是否符合要求。可见，相关技术的镀膜检测方式操作流程冗长、复杂，从而导致镀膜参数调试效率低下。因此，如何提供磁控溅射镀膜设备，以简化镀膜检测的操作流程，成了亟待解决的技术问题。
技术实现思路
1、本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种磁控溅射镀膜设备，能够简化镀膜检测的操作流程。
2、本专利技术还提出一种具有上述磁控溅射镀膜设备的磁控溅射镀膜系统，以及一种应用于上述磁控溅射镀膜系统的镀膜检测方法。
3、根据本专利技术的第一方面实施例的磁控溅射镀膜设备，应用于磁控溅射镀膜系统，所述磁控溅射镀膜系统包括传送装置、主控模块，所述主控模块与所述传送装置电连接，所述传送装置用于承载并传送待镀膜玻璃；所述磁控溅射镀膜设备包括：
4、真空溅射装置，所述真空溅射装置的输入端用
5、隔离室，所述隔离室内部设置有腔体，所述隔离室设置于所述真空溅射装置的输出端，所述隔离室用于隔离所述镀膜操作中所述预设镀膜材料的溅射；
6、检测装置，所述检测装置设置于所述隔离室的腔体中，所述检测装置与所述主控模块电连接，所述检测装置用于检测所述待检测玻璃的目标膜层数据；
7、其中，所述主控模块用于根据预设的标准膜层数据、所述目标膜层数据得到膜层检测结果，所述主控模块用于根据所述膜层检测结果控制所述传送装置的传送操作。
8、根据本专利技术实施例的磁控溅射镀膜设备，至少具有如下有益效果：真空溅射装置通过其输入端接收待镀膜玻璃，真空溅射装置根据预设镀膜材料对待镀膜玻璃进行镀膜操作，以得到待检测玻璃。隔离室设置于真空溅射装置的输出端，隔离室能够隔离所述镀膜操作中预设镀膜材料的溅射。检测装置设置于隔离室的腔体中，检测装置检测待检测玻璃的目标膜层数据。主控模块根据预设的标准膜层数据、目标膜层数据得到膜层检测结果，主控模块根据膜层检测结果控制传送装置的传送操作。本实施例的磁控溅射镀膜设备通过在磁控溅射镀膜系统中每一个真空溅射装置的输出端设置隔离室以容纳检测装置，使得在每一次经过一个真空溅射装置以完成镀膜操作后，均可以对待检测玻璃进行膜层的检测，且在检测结果出现异常时可以及时根据检测结果对镀膜工艺参数进行调整，从而简化了镀膜检测的操作流程，进而提高了镀膜参数调试的效率。同时，在检测结果出现异常时，可以及时停止并调整后续镀膜生产线的镀膜操作，从而减少了镀膜材料、能源的浪费。
9、根据本专利技术的一些实施例，所述目标膜层数据包括目标光谱透射率、目标光谱反射率、目标表面电阻，所述检测装置包括：
10、透射光谱光度计，所述透射光谱光度计设置于所述隔离室的腔体中，所述透射光谱光度计与所述主控模块电连接，所述透射光谱光度计用于检测所述目标光谱透射率；
11、反射光谱光度计，所述反射光谱光度计设置于所述隔离室的腔体中，所述反射光谱光度计与所述主控模块电连接，所述反射光谱光度计用于检测所述目标光谱反射率；
12、表面电阻检测器，所述表面电阻检测器设置于所述隔离室的腔体中，所述表面电阻检测器与所述主控模块电连接，所述表面电阻检测器用于检测所述目标表面电阻。
13、根据本专利技术的一些实施例，所述透射光谱光度计包括：
14、第一探测光发射器，所述第一探测光发射器设置于所述传送装置的一侧，所述第一探测光发射器用于向所述待检测玻璃发射第一初始探测光，所述第一探测光发射器用于提供第一参考探测光；其中，所述第一初始探测光透射过所述待检测玻璃后形成第一目标探测光；
15、第一光接收器，所述第一光接收器设置于所述传送装置的另一侧，所述第一光接收器用于接收所述第一目标探测光；
16、第一传感单元，所述第一传感单元分别与所述第一探测光发射器和所述第一光接收器光路连接，所述第一传感单元用于根据所述第一参考探测光生成第一参考信号，所述第一传感单元用于根据所述第一目标探测光生成目标透射信号；
17、其中，所述主控模块与所述第一传感单元电连接，所述主控模块用于根据所述第一参考信号和所述目标透射信号生成所述目标光谱透射率。
18、根据本专利技术的一些实施例，所述第一探测光发射器包括：
19、第一光度球，所述第一光度球内部设有第一球形腔体，所述第一光度球朝向所述传送装置的一侧设有第一光线通口；其中，所述第一光线通口与所述第一球形腔体连通；
20、第一发光件，所述第一发光件的发光端设置于所述第一球形腔体内，所述第一发光件用于生成所述第一初始探测光；其中，所述第一初始探测光用于经所述第一球形腔体的内壁反射作用从所述第一光线通口射出；
21、第二光接收器，所述第二光接收器的光接收端设置于所述第一球形腔体内，所述第二光接收器与所述第一传感单元光路连接，所述第二光接收器用于接收所述第一初始探测光，并根据所述第一初始探测光生成所述第一参考探测光。
22、根据本专利技术的一些实施例，所述反射光谱光度计包括：
23、第二探测光发射器，所述第二探测光发射器设置于所述传送装置的一侧，所述第二探测光发射器用于向所述待检测玻璃发射第二初始探测光，所述第二探测光发射器用于提供第二参考探测光；其中，所述第二初始探测光经所述待检测玻璃后反射形成第二目标探测光，所述第二探测光发射器用于接收所述第二目标探测光；
24、第二传感单元，所述第二传感单元与所述第二探测光发射器光路连接，所述第二传感单元用于根据所述第二参考探测光生成第二参考信号，所述第二传感单元用于根据所述第二目标探测光生成目标反射信号；
25、其中，所述主控模块与所述第二传感单元电连接，所述主控模块用于根据所述第二参考信号和所述目标反射信号生成所述目标光谱反射率。
26、根据本专利技术的一些实施例，所述第二探测光发射器包括：
27、第二光度球，所述第二光度球内部设有第二球形腔体，所述第二光度球朝向所述传送装置的一侧设有第二光线通口；其中，所述第二光线通口与所述第二球形腔体连通；
28、第二发光件，所述第二发光件的发光端设置于所述第二球形腔体内，所述第二发光件用于生成所述第二初始探测光；其中，所述第二初始探测光用于经所述本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.磁控溅射镀膜设备，其特征在于，应用于磁控溅射镀膜系统，所述磁控溅射镀膜系统包括传送装置、主控模块，所述主控模块与所述传送装置电连接，所述传送装置用于承载并传送待镀膜玻璃；所述磁控溅射镀膜设备包括：
2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述目标膜层数据包括目标光谱透射率、目标光谱反射率、目标表面电阻，所述检测装置包括：
3.根据权利要求2所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述透射光谱光度计包括：
4.根据权利要求3所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述第一探测光发射器包括：
5.根据权利要求2所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述反射光谱光度计包括：
6.根据权利要求5所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述第二探测光发射器包括：
7.根据权利要求2所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述表面电阻检测器包括：
8.根据权利要求1至7任一项所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述真空溅射装置包括：
9.磁控溅射镀膜系统，其特征在于，包括：
10.镀膜
...【技术特征摘要】
1.磁控溅射镀膜设备，其特征在于，应用于磁控溅射镀膜系统，所述磁控溅射镀膜系统包括传送装置、主控模块，所述主控模块与所述传送装置电连接，所述传送装置用于承载并传送待镀膜玻璃；所述磁控溅射镀膜设备包括：
2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述目标膜层数据包括目标光谱透射率、目标光谱反射率、目标表面电阻，所述检测装置包括：
3.根据权利要求2所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述透射光谱光度计包括：
4.根据权利要求3所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述第一探测光发射器包括...
【专利技术属性】
技术研发人员：娄志勇，顾欣，程立华，田瑞杰，
申请(专利权)人：东莞南玻智能装备制造有限公司，
类型：发明
国别省市：
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