【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空离子镀膜，尤其涉及一种真空离子镀膜用送气装置。
技术介绍
1、真空离子镀膜是一种利用物理气相沉积的方法，通过等离子体促进化学合成反应，在产品表面做改性的技术。随着真空离子镀膜产品的精度、镜面级别、颜色lab值的要求越来越高甚至苛刻，除了离化源、电源、真空抽气系统、自动控制外，送气系统也同样严重的影响了产品的稳定性和均匀性。
2、真空镀膜装置中设置有气管，用以输送工作气体和反应气体于镀膜室中，现有技术中对于气体的输送大多采用单独的阀门和管道进行控制，使得其没有进行预混和，导致其作用效果较差；此外，当单个气瓶内的气体耗尽或气体压力低于供气标准时，就需要人工更换气瓶，尤其是更换过程中气体压力低于供气标准时会影响整个镀膜的稳定性。为了解决上述问题，需要设计一种真空离子镀膜用送气装置。
技术实现思路
1、本技术的目的是为了解决上述问题而提供一种真空离子镀膜用送气装置。
2、为了实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
3、本技术的一种真空离子镀膜用送气装置，包括混合腔结构，其具有进气口和出气口；
4、所述进气口处连接有进气管道，所述进气管道与提供气体的气瓶连接；
5、所述出气口处连接有出气管道，所述出气管道上设置多组支路管道；
6、所述混合腔结构的进气口所在端还设置辅助加压机构，通过所述辅助加压机构向所述混合腔结构内施加气压以使所述混合腔结构的所述出气口端保持恒定送气气压。
7、进一步的，所述进气
8、进一步的，所述出气管道上设有第二电磁阀。
9、进一步的，所述支路管道上设有第三电磁阀。
10、进一步的，所述混合腔结构包括第一球形腔、第二球形腔、以及直筒腔，所述直筒腔连通在所述第一球形腔与所述第二球形腔之间；
11、所述第一球形腔内设置水平隔板，所述水平隔板上开设有多个通气孔；
12、所述直筒腔内设置螺旋上升的螺旋通道，所述第一球形腔内的气体通过所述直筒腔内的所述螺旋通道输送至所述第二球形腔内。
13、进一步的，所述辅助加压机构包括直筒，所述直筒一端连通加压管道，所述加压管道连通至所述第一球形腔；
14、所述直筒内设置活塞以及连接在所述活塞上的活塞推杆，所述活塞推杆由外部电控推杆推动移动。
15、进一步的，所述加压管道上设有第四电磁阀。
16、在上述技术方案中，本技术提供的一种真空离子镀膜用送气装置，具有以下有益效果：
17、真空离子镀膜在将工作气体和反应气体输送至镀膜室中的过程中，以混合腔结构对气体进行预混合，使得气体混合充分均匀；并且辅助加压机构通过向混合腔结构施加气压，避免了由于气瓶内气体容量或气压过低而对镀膜质量带来的不利影响。
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1.一种真空离子镀膜用送气装置，其特征在于，包括混合腔结构，其具有进气口(1)和出气口(2)；
2.根据权利要求1所述的一种真空离子镀膜用送气装置，其特征在于，所述进气管道(3)上设有第一电磁阀(6)。
3.根据权利要求1所述的一种真空离子镀膜用送气装置，其特征在于，所述出气管道(4)上设有第二电磁阀(7)。
4.根据权利要求1所述的一种真空离子镀膜用送气装置，其特征在于，所述支路管道(5)上设有第三电磁阀(8)。
5.根据权利要求1所述的一种真空离子镀膜用送气装置，其特征在于，所述混合腔结构包括第一球形腔(9)、第二球形腔(10)、以及直筒腔(11)，所述直筒腔(11)连通在所述第一球形腔(9)与所述第二球形腔(10)之间；
6.根据权利要求5所述的一种真空离子镀膜用送气装置，其特征在于，所述辅助加压机构包括直筒(15)，所述直筒(15)一端连通加压管道(16)，所述加压管道(16)连通至所述第一球形腔(9)；
7.根据权利要求6所述的一种真空离子镀膜用送气装置，其特征在于，所述加压管道(16)上设有第四电
...【技术特征摘要】
1.一种真空离子镀膜用送气装置，其特征在于，包括混合腔结构，其具有进气口(1)和出气口(2)；
2.根据权利要求1所述的一种真空离子镀膜用送气装置，其特征在于，所述进气管道(3)上设有第一电磁阀(6)。
3.根据权利要求1所述的一种真空离子镀膜用送气装置，其特征在于，所述出气管道(4)上设有第二电磁阀(7)。
4.根据权利要求1所述的一种真空离子镀膜用送气装置，其特征在于，所述支路管道(5)上设有第三电磁阀(8)。
5.根据权利要求1所述的一种真空离子...
【专利技术属性】
技术研发人员：缪兴绪，孙彦庆，王军杰，王伟，王琛，王光峰，
申请(专利权)人：青岛制高点科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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